JP5394119B2 - 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2009106618A JP5394119B2 (ja) | 2009-04-24 | 2009-04-24 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2009106618A JP5394119B2 (ja) | 2009-04-24 | 2009-04-24 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010254810A JP2010254810A (ja) | 2010-11-11 |
| JP2010254810A5 JP2010254810A5 (enExample) | 2012-04-19 |
| JP5394119B2 true JP5394119B2 (ja) | 2014-01-22 |
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ID=43316104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009106618A Active JP5394119B2 (ja) | 2009-04-24 | 2009-04-24 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5394119B2 (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011004787A1 (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-13 | 三菱レイヨン株式会社 | リソグラフィー用共重合体およびその評価方法 |
| KR101432395B1 (ko) | 2009-07-07 | 2014-08-20 | 미츠비시 레이온 가부시키가이샤 | 중합체의 제조 방법, 리소그라피용 중합체, 레지스트 조성물, 및 기판의 제조 방법 |
| JP5707699B2 (ja) * | 2009-12-28 | 2015-04-30 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 |
| JP2012109039A (ja) | 2010-11-15 | 2012-06-07 | Yazaki Corp | 端子接続構造 |
| JP2012145868A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| TWI584063B (zh) * | 2012-03-05 | 2017-05-21 | 三菱麗陽股份有限公司 | 微影用共聚合物的製造方法 |
| JP5942564B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2016-06-29 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、及びパターンが形成された基板の製造方法 |
| JP5942562B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2016-06-29 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、及びパターンが形成された基板の製造方法 |
| JP6455148B2 (ja) * | 2013-09-03 | 2019-01-23 | 三菱ケミカル株式会社 | 半導体リソグラフィー用共重合体、レジスト組成物、及び、基板の製造方法 |
| JP6318937B2 (ja) * | 2014-07-15 | 2018-05-09 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1053620A (ja) * | 1996-06-03 | 1998-02-24 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱可塑性共重合体およびその製造方法 |
| JP2001201856A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Daicel Chem Ind Ltd | フォトレジスト用樹脂とその製造方法、及びフォトレジスト組成物 |
| JP4000295B2 (ja) * | 2001-12-21 | 2007-10-31 | 三菱レイヨン株式会社 | レジスト用共重合体およびその製造方法、ならびにレジスト組成物 |
| JP2006036914A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Tosoh Corp | マレイミド・オレフィン共重合体の製造方法 |
| WO2008082503A2 (en) * | 2006-12-19 | 2008-07-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Semibatch copolymerization process for compositionally uniform copolymers |
| CN101679534A (zh) * | 2007-07-12 | 2010-03-24 | 赢创罗麦斯添加剂有限责任公司 | 制备可连续变化组成的共聚物的改进方法 |
-
2009
- 2009-04-24 JP JP2009106618A patent/JP5394119B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010254810A (ja) | 2010-11-11 |
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