JP5394119B2 - 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 - Google Patents

重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5394119B2
JP5394119B2 JP2009106618A JP2009106618A JP5394119B2 JP 5394119 B2 JP5394119 B2 JP 5394119B2 JP 2009106618 A JP2009106618 A JP 2009106618A JP 2009106618 A JP2009106618 A JP 2009106618A JP 5394119 B2 JP5394119 B2 JP 5394119B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
polymer
solution
monomer
resist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009106618A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2010254810A5 (enrdf_load_stackoverflow
JP2010254810A (ja
Inventor
敦 安田
友也 押切
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp, Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2009106618A priority Critical patent/JP5394119B2/ja
Publication of JP2010254810A publication Critical patent/JP2010254810A/ja
Publication of JP2010254810A5 publication Critical patent/JP2010254810A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5394119B2 publication Critical patent/JP5394119B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
JP2009106618A 2009-04-24 2009-04-24 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法 Active JP5394119B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009106618A JP5394119B2 (ja) 2009-04-24 2009-04-24 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009106618A JP5394119B2 (ja) 2009-04-24 2009-04-24 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010254810A JP2010254810A (ja) 2010-11-11
JP2010254810A5 JP2010254810A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2012-04-19
JP5394119B2 true JP5394119B2 (ja) 2014-01-22

Family

ID=43316104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009106618A Active JP5394119B2 (ja) 2009-04-24 2009-04-24 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5394119B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI455948B (zh) 2009-07-07 2014-10-11 Mitsubishi Rayon Co 聚合體的製造方法、微影用聚合體、光阻組成物及基板的製造方法
US9023578B2 (en) 2009-07-07 2015-05-05 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Copolymer for lithography and method for evaluating the same
JP5707699B2 (ja) * 2009-12-28 2015-04-30 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法
JP2012109039A (ja) 2010-11-15 2012-06-07 Yazaki Corp 端子接続構造
JP2012145868A (ja) * 2011-01-14 2012-08-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
TWI534533B (zh) * 2012-03-05 2016-05-21 三菱麗陽股份有限公司 微影用共聚合物及其製造方法、抗蝕劑組成物、以及基板的製造方法
JP5942562B2 (ja) * 2012-04-18 2016-06-29 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、及びパターンが形成された基板の製造方法
JP5942564B2 (ja) * 2012-04-18 2016-06-29 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、及びパターンが形成された基板の製造方法
WO2015033960A1 (ja) * 2013-09-03 2015-03-12 三菱レイヨン株式会社 半導体リソグラフィー用共重合体、レジスト組成物、及び、基板の製造方法
JP6318937B2 (ja) * 2014-07-15 2018-05-09 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1053620A (ja) * 1996-06-03 1998-02-24 Nippon Shokubai Co Ltd 熱可塑性共重合体およびその製造方法
JP2001201856A (ja) * 2000-01-21 2001-07-27 Daicel Chem Ind Ltd フォトレジスト用樹脂とその製造方法、及びフォトレジスト組成物
JP4000295B2 (ja) * 2001-12-21 2007-10-31 三菱レイヨン株式会社 レジスト用共重合体およびその製造方法、ならびにレジスト組成物
JP2006036914A (ja) * 2004-07-27 2006-02-09 Tosoh Corp マレイミド・オレフィン共重合体の製造方法
WO2008082503A2 (en) * 2006-12-19 2008-07-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Semibatch copolymerization process for compositionally uniform copolymers
KR20100044164A (ko) * 2007-07-12 2010-04-29 에보니크 로막스 아디티페스 게엠베하 연속적으로 변동가능한 조성의 공중합체를 제조하는 개선된 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010254810A (ja) 2010-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5394119B2 (ja) 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法
JP5793867B2 (ja) 重合体の製造方法
JP6056753B2 (ja) リソグラフィー用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびに基板の製造方法
JP5456365B2 (ja) 重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法
JP5771942B2 (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、ならびに基板の製造方法
JP2019059957A (ja) リソグラフィー用共重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法及びパターンが形成された基板の製造方法
JP5707699B2 (ja) 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法
JP5942562B2 (ja) 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、及びパターンが形成された基板の製造方法
JP6244756B2 (ja) リソグラフィー用共重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法
JP5716943B2 (ja) 重合体、レジスト組成物、及びパターンが形成された基板の製造方法
JP5821317B2 (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法
JP5741814B2 (ja) 半導体リソグラフィー用重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびに基板の製造方法
JP6299076B2 (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法
JP5793825B2 (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、および基板の製造方法
CN105518041B (zh) 半导体光刻用共聚物、抗蚀剂组合物以及基板的制造方法
JP2013127023A (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、リソグラフィー用重合体、レジスト組成物、および基板の製造方法
JP2017119881A (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法
JP5659570B2 (ja) 重合体の製造方法、半導体リソグラフィー用重合体、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法
JP5942564B2 (ja) 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、及びパターンが形成された基板の製造方法
JP6074834B2 (ja) レジスト材料の評価方法
JP2014240480A (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法
JP2014074830A (ja) リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120306

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120306

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130703

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130709

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130904

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131001

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131016

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5394119

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250