JP5392793B2 - 反射防止構造を有する光学素子用成形型 - Google Patents
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Description
(1)本発明に係る光学素子用成形型は、大面積で且つ複雑な形状の構造体から成る光学素子の表面に、均一に安定してナノ構造体を有しより広い波長帯域で反射防止効果をもち、且つ入射角度依存性の小さい反射防止構造を有する光学素子を製造することができるものである。
(2)本発明に係る光学素子用成形型の製造方法は、少ない行程で、且つ生産性の高いドライプロセスのみで製造することができる方法である。
(3)本発明に係る光学素子は、基板表面に微細な凹凸面のナノ構造を有し、ランダムに配置されて成るナノパターンを備え、好ましくは、このナノパターンは、光源の波長以下の間隔を保たれている構成であるナノパターンを備えた光学素子である。
(1)本発明に係る光学素子用成形型は、大面積で且つ複雑な自由曲面を持つ光学素子の表面に、均一に安定してナノ構造体を有しより広い波長帯域で反射防止効果をもち、且つ入射角度依存性の小さい反射防止構造を有する光学素子を製造することができる。
(2)本発明に係る光学素子用成形型の製造方法は、少ない行程で、且つ生産性の高いドライプロセスのみで製造することができる。
(3)本発明に係る光学素子は、基板表面に微細な凹凸面のナノ構造を有し、ランダムに配置されて成るナノパターンを備え、好ましくは、このナノパターンは、光源の波長以下の間隔を保たれている構成であるナノパターンを備えた光学素子である。
(1)基板上への薄膜の形成工程
基板上に複数のエッチング転写層を形成し、さらに、一括に薄膜を形成する。これらの形成工程は、真空ドライプロセスで行う。
熱反応、光反応、ガス反応のいずれか、またはこれらの反応を2以上組み合わせた複合反応を用いて、上記薄膜に、薄膜物質の凝集作用、分解作用、または核形成を生じさせて、ナノメータオーダの微細な半球状の島状微粒子が、反射防止の対象とする光の波長以下の間隔でランダムに存在するナノパターンを形成する。
次に、図6に示す模式図を用いて、上記説明した反射防止構造を有する光学素子用成形型1から射出成形用型の製造方法を説明するとともに、この射出成型用型を用いる反射防止構造を有する光学素子量産方法の一例を説明する。
2 基板
3 エッチング転写層
4 島状微粒子作製の為の薄膜
5 島状微粒子
6 光学素子用成形型
7 基板
8 射出成形型
9 光学素子
10 射出成形型
11 光学素子
Claims (2)
- 表面に微細な凹凸面の反射防止構造を有する光学素子を、成形するための光学素子用成形型であって、
基板の表面にランダムに配置されてなる錐形状の凸状のナノパターンを有し、
前記ナノパターンは、前記基板上に1層以上のエッチング転写層を形成し、該エッチング転写層上に島状微粒子生成用の薄膜を形成し、前記薄膜に、熱反応、光反応、化学反応のいずれか、またはそれらの複合反応を用いて、薄膜物質の凝集作用、分解作用、または核形成作用を生じさせて、島状微粒子を複数形成し、前記複数の島状微粒子を保護マスクとしてエッチング転写層及び前記基板を順次エッチングして形成されたものであることを特徴とする光学素子用成形型。 - 前記島状微粒子は、その平均粒径は5nm〜1000nmであり、複数の島状微粒子の平均間隔は、10nm〜2000nmであることを特徴とする請求項1に記載の光学素子用成形型。
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