JP5382141B2 - 電子モジュール及び通信機 - Google Patents

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Description

本発明は、電子モジュール及びそれを備える通信機に関する。特には、本発明は、電子部品が一方の主面に実装されている実装基板を備え、実装基板の他方の主面の一部が絶縁層により覆われている電子モジュール及びそれを備える通信機に関する。
従来、例えば、コンデンサ、インダクタ、高周波フィルタ、半導体素子などの電子部品が樹脂基板やセラミック基板に実装された、電子モジュールが広く利用されている。例えば、下記の特許文献1には、このような電子モジュールの一例が記載されている。
図12は、特許文献1に記載されている電子モジュールの略図的断面図である。図12に示すように、電子モジュール100は、電子部品の一種である半導体素子101と、半導体素子101が一方の主面102aに実装されている基板102とを備えている。基板102の他方の主面102bには、半導体素子101に接続されている複数の電極103が形成されている。この複数の電極103には、グラウンド電位に接続されているグラウンド電極と、信号の入出力に関わる信号電極とが含まれている。電子モジュール100においては、基板102の主面102bの上には、ソルダーレジスト層104が形成されている。このソルダーレジスト層104により、全ての電極103の周縁部が覆われている。これにより、複数の電極103が短絡しないようにされている。複数の電極103のそれぞれの上には、半田ボール105が形成されている。
特開2002−43368号公報
しかしながら、電子モジュール100のように、全ての電極103の周縁部をソルダーレジスト層104により覆った場合、電子モジュール100の電気的特性が悪化するという問題があった。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、電気的特性が優れた電子モジュールを提供することにある。
本発明に係る電子モジュールは、電子部品と、実装基板と、信号電極と、グラウンド電極と、絶縁層とを備えている。電子部品は、信号端子と、グラウンド端子とを有する。実装基板は、第1及び第2の主面を有する。実装基板の第1の主面には、電子部品が実装されている。信号電極は、実装基板の第2の主面上に形成されている。信号電極は、信号端子に接続されている。グラウンド電極は、実装基板の第2の主面上に形成されている。グラウンド電極は、グラウンド端子に接続されている。絶縁層は、実装基板の第2の主面の一部を覆うように形成されている。絶縁層は、信号電極のグラウンド電極と対向している端部を覆わないように形成されており、前記絶縁層は、前記信号電極の前記グラウンド電極と対向していない端部の少なくとも一部の上を覆うように形成されている。
本発明に係る電子モジュールのある特定の局面では、絶縁層は、信号電極のグラウンド電極と対向している端部から隔離して形成されている。この構成によれば、信号電極とグラウンド電極との間の間隔をより大きくできる。よって、信号電極とグラウンド電極との間で発生する静電容量の大きさをより小さくできる。従って、この信号電極とグラウンド電極との間で発生する静電容量を介して信号電極からグラウンド電極へと信号が伝送されることをより効果的に抑制することができる。その結果、電子モジュールの電気的特性をより向上させることができる。
本発明に係る電子モジュールの他の特定の局面では、グラウンド電極は、グラウンド電極の信号電極と対向している端部が絶縁層により覆われるように形成されている。この構成によれば、グラウンド電極を大きくすることができる。従って、電子モジュールのグラウンドを強化することができる。
本発明に係る電子モジュールのさらに他の特定の局面では、絶縁層は、グラウンド電極の絶縁層から露出している部分が複数形成されるように設けられている。すなわち、この構成では、複数のグラウンド電極が一体に形成されている。従って、グラウンドをより強化することができる。また、グラウンド電極と、グラウンド電位との間の寄生インピーダンスを小さくすることができる。
本発明に係る電子モジュールのさらに別の特定の局面では、実装基板は、樹脂製またはセラミック製である。
本発明に係る電子モジュールのまた他の特定の局面では、絶縁層は、樹脂製またはセラミック製である。
本発明に係る電子モジュールのまた別の特定の局面では、電子部品は、信号端子として入力端子と出力端子とを有するフィルタである。
本発明に係る通信機は、上記本発明に係る電子モジュールを搭載している。
本発明では、絶縁層は、信号電極のグラウンド電極と対向している端部を覆わないように形成されている。このため、絶縁層の形成精度などを考慮して信号電極を大きく形成する必要がないため、信号電極とグラウンド電極との間の間隔を大きくできる。よって、信号電極とグラウンド電極との間で発生する静電容量の大きさを小さくできる。従って、この信号電極とグラウンド電極との間で発生する静電容量を介して信号電極からグラウンド電極へと信号が伝送されることを抑制することができる。その結果、電子モジュールの電気的特性を高めることができる。
図1は、本発明を実施した一実施形態に係る通信機の略図的回路図である。 図2は、本発明を実施した一実施形態に係るデュプレクサモジュールの略図的側面図である。 図3は、本発明を実施した一実施形態に係るデュプレクサモジュールにおけるプリント配線基板の第2の主面の略図的平面図である。 図4は、比較例に係るデュプレクサモジュールにおけるプリント配線基板の第2の主面の略図的平面図である。 図5は、実施形態に係るデュプレクサモジュールの送信側フィルタ部の通過特性と、比較例に係るデュプレクサモジュールの送信側フィルタ部の通過特性とを示すグラフである。 図6は、実施形態に係るデュプレクサモジュールの受信側フィルタ部の通過特性と、比較例に係るデュプレクサモジュールの受信側フィルタ部の通過特性とを示すグラフである。 図7は、実施形態に係るデュプレクサモジュールのアイソレーション特性と、比較例に係るデュプレクサモジュールのアイソレーション特性とを示すグラフである。 図8は、実施形態に係るデュプレクサモジュールの送信側信号端子におけるVSWRと、比較例に係るデュプレクサモジュールの送信側信号端子におけるVSWRとを示すグラフである。 図9は、実施形態に係るデュプレクサモジュールの第1及び第2の受信側信号端子におけるVSWRと、比較例に係るデュプレクサモジュールの第1及び第2の受信側信号端子におけるVSWRとを示すグラフである。 図10は、実施形態に係るデュプレクサモジュールのアンテナ端子におけるVSWRと、比較例に係るデュプレクサモジュールのアンテナ端子におけるVSWRとを示すグラフである。 図11は、第1の変形例に係るデュプレクサモジュールにおけるプリント配線基板の第2の主面の略図的平面図である。 図12は、特許文献1に記載されている電子モジュールの略図的断面図である。
以下、本発明を実施した好ましい形態について、図1に示す通信機1を例に挙げて説明する。但し、通信機1は、単なる例示である。本発明に係る通信機は、通信機1に何ら限定されない。また、本発明に係る電子モジュールは、通信機1に搭載されたデュプレクサモジュール2に何ら限定されない。
図1は、本実施形態の通信機1の略図的回路図である。図1に示すように、通信機1には、電子モジュールとしてのデュプレクサモジュール2が搭載されている。具体的には、通信機1には、RF(Radio Frequency)回路が含まれる。デュプレクサモジュール2は、このRF回路に設けられている。
デュプレクサモジュール2は、UMTS(Universal Mobile Telecommunications System)のようなCDMA(Code Division Multiple Access)方式に対応した携帯電話機である通信機1において、信号の受信と送信とを同時に行うために、通信機1のRF回路に用いられるものである。具体的には、デュプレクサモジュール2は、UMTS−BAND2に対応するデュプレクサモジュールである。UMTS−BAND2においては、送信周波数帯(Tx帯)が1850MHz〜1910MHzであり、受信周波数帯(Rx帯)が1930MHz〜1990MHzである。
図1に示すように、デュプレクサモジュール2は、アンテナ端子11と、送信側信号端子12と、第1及び第2の受信側信号端子13a,13bとを有する。
アンテナ端子11と第1及び第2の受信側信号端子13a,13bとの間には、受信側フィルタ部20が接続されている。本実施形態では、受信側フィルタ部20は、平衡−不平衡変換機能を有するバランス型のフィルタ部である。受信側フィルタ部20は、縦結合共振子型弾性波フィルタ部により構成されている。
一方、アンテナ端子11と送信側信号端子12との間には、送信側フィルタ部30が接続されている。本実施形態では、送信側フィルタ部30は、ラダー型弾性波フィルタ部により構成されている。
具体的には、送信側フィルタ部30は、アンテナ端子11と送信側信号端子12との間に直列に接続されている複数の直列腕共振子S1〜S4を有する。これら複数の直列腕共振子S1〜S4により直列腕31が構成されている。直列腕31とグラウンド電位との間には、並列腕共振子P1〜P3が接続されている。これら並列腕共振子P1〜P3により並列腕32〜34が構成されている。並列腕共振子P1,P2とグラウンド電位との間には、第2のインダクタL2が接続されている。一方、並列腕34においては、並列腕共振子P3とグラウンド電位との間に、第3のインダクタL3が接続されている。
送信側フィルタ部30と受信側フィルタ部20との間の接続点21と、アンテナ端子11との間に、接続点22がある。そして、接続点22とグラウンド電位との間には、インピーダンス整合用の第1のインダクタL1が接続されている。
次に、図2等を参照しながら、デュプレクサモジュール2の具体的装置構成について説明する。図2は、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の略図的側面図である。
図2に示すように、デュプレクサモジュール2は、電子部品40と、電子部品40が実装されている、実装基板としての樹脂製のプリント配線基板60とを備えている。なお、本実施形態では、プリント配線基板60が樹脂製である例について説明するが、プリント配線基板60は、セラミック製であってもよい。
電子部品40は、フィルタチップ41と、フィルタチップ41がフリップチップ実装されているセラミック基板42とを備えている。フィルタチップ41は、セラミック基板42上に設けられた封止樹脂43により封止されている。なお、フィルタチップ41は、弾性境界波を利用した弾性境界波フィルタチップであってもよいし、弾性表面波を利用した弾性表面波フィルタチップであってもよいし、バルク弾性波を利用したバルク弾性波フィルタチップであってもよい。
電子部品40には、送信側フィルタ部30と受信側フィルタ部20との少なくとも一部が形成されている。電子部品40の裏面40aには、図1に示す信号端子14a〜14dと、送信側フィルタ部30や受信側フィルタ部20などをグラウンド電位に接続する複数のグラウンド端子とが形成されている。信号端子14aは、送信側フィルタ部30の出力信号端子であると共に受信側フィルタ部20の入力信号端子である。信号端子14bは、送信側フィルタ部30の入力信号端子である。信号端子14c,14dは、受信側フィルタ部20の第1及び第2の出力平衡信号端子である。
図3は、プリント配線基板60の第2の主面60bの略図的平面図である。なお、図3は、デュプレクサモジュール2の上面から透視した状態を示した図である。図3に示すように、プリント配線基板60の第2の主面60b上には、信号端子14a〜14dに接続されている信号電極62a〜62dが形成されている。具体的には、信号電極62aは、送信側フィルタ部30の出力信号端子であると共に受信側フィルタ部20の入力信号端子である信号端子14a(図1を参照)に接続されている。信号電極62bは、送信側フィルタ部30の入力信号端子である信号端子14b(図1を参照)に接続されている。信号電極62cは、受信側フィルタ部20の第1の出力平衡信号端子である信号端子14c(図1を参照)に接続されている。信号電極62dは、受信側フィルタ部20の第2の出力平衡信号端子である信号端子14d(図1を参照)に接続されている。すなわち、信号電極62aは、アンテナ端子11である。信号電極62bは、送信側信号端子12である。信号電極62cは、第1の受信側信号端子13aである。信号電極62dは、第2の受信側信号端子13bである。
また、プリント配線基板60の第2の主面60b上には、電子部品40の複数のグラウンド端子に接続されている、ひとつのグラウンド電極63が形成されている。
図2及び図3に示すように、実装基板としてのプリント配線基板60は、第1及び第2の主面60a,60bを有する。電子部品40は、プリント配線基板60の第1の主面60aに実装されている。プリント配線基板60の第2の主面60b上には、第2の主面60bの一部を覆うように絶縁層61が形成されている。なお、この絶縁層61は、絶縁材料からなる層である限りにおいて特に限定されない。絶縁層61は、樹脂製であってもよいし、セラミック製であってもよい。本実施形態においては、具体的には、絶縁層61は、レジスト樹脂により形成されている。
図3において、斜線部が、絶縁層61が形成されている部分を示す。図3に示すように、本実施形態において、絶縁層61は、信号電極62a〜62dのグラウンド電極63と対向している端部62a1,62b1,62c1,62d1を覆わないように形成されている。より具体的には、絶縁層61は、信号電極62a〜62dのグラウンド電極63と対向している端部62a1,62b1,62c1,62d1から隔離して形成されている。一方、絶縁層61は、グラウンド電極63の信号電極62a〜62dと対向している端部63a〜63dを覆うように形成されている。換言すれば、グラウンド電極63は、グラウンド電極63の信号電極62a〜62dと対向している端部63a〜63dが絶縁層61により覆われるように形成されている。また、絶縁層61は、グラウンド電極63における絶縁層61から露出している部分である、グラウンド端子部が複数形成されるように設けられている。具体的には、本実施形態では、グラウンド端子部64a〜64eが形成されている。すなわち、本実施形態では、複数のグラウンド端子部64a〜64eがひとつのグラウンド電極63により構成されている。このようにすることにより、デュプレクサモジュール2のグラウンドを強化することができる。また、グラウンド端子部64a〜64eと、グラウンド電位との間の寄生インピーダンスを小さくすることができる。
本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の比較例として、信号電極と絶縁層の構成以外は実施形態に係るデュプレクサモジュール2と同様の構成を有するデュプレクサモジュールを用意した。図4に比較例に係るデュプレクサモジュールにおけるプリント配線基板の第2の主面の略図的平面図を示す。図4は、比較例に係るデュプレクサモジュールの上面から透視した状態を示した図である。なお、説明の便宜上、比較例においても、本実施形態と実質的に同様の機能を有する部材を共通の記号で参照する。
図4に示すように、比較例は、絶縁層61−1が信号電極62a−1〜62d−1のグラウンド電極63と対向している端部62a1−1,62b1−1,62c1−1,62d1−1を覆うように形成されている点で本実施形態と異なる。
図5に、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の送信側フィルタ部30の通過特性と、比較例に係るデュプレクサモジュールの送信側フィルタ部の通過特性とを示す。図5に示す結果から明らかなように、送信側フィルタ部の通過帯域である送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)の高域側に位置する受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)において、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の方が、比較例に係るデュプレクサモジュールよりも大きな減衰量を有する。具体的には、受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)において、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2では、最も小さな減衰量が43.0dBであり、比較例に係るデュプレクサモジュールでは、最も小さな減衰量が41.7dBであり、本実施形態の方が、比較例よりも受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)における最も小さな減衰量が1.3dB大きかった。
図6に、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の受信側フィルタ部20の通過特性と、比較例に係るデュプレクサモジュールの受信側フィルタ部の通過特性とを示す。図6に示す結果から明らかなように、受信側フィルタ部の通過帯域である受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)の低域側に位置する送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)において、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の方が、比較例に係るデュプレクサモジュールよりも大きな減衰量を有する。具体的には、送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)において、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2では、最も小さな減衰量が53.3dBであり、比較例に係るデュプレクサモジュールでは、最も小さな減衰量が51.0dBであり、本実施形態の方が、比較例よりも送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)における最も小さな減衰量が2.3dB大きかった。
図7に、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2のアイソレーション特性と、比較例に係るデュプレクサモジュールのアイソレーション特性とを示す。ここで、図7に示すアイソレーション特性は、送信側信号端子12と第1及び第2の受信側信号端子13a,13bとの間のアイソレーション特性である。
図7に示す結果から明らかなように、受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)と送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)とのいずれにおいても、本実施形態の方が、比較例よりもアイソレーション特性が優れていることが分かる。具体的には、送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)における最も小さな減衰量は、本実施形態では、56.5dBであり、比較例では、52.5dBであり、本実施形態の方が、比較例よりも、送信周波数帯における最も小さな減衰量が4.0dB大きかった。また、受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)における最も小さな減衰量は、本実施形態では、48.9dBであり、比較例では、46.6dBであり、本実施形態の方が、比較例よりも、受信周波数帯における最も小さな減衰量が2.3dB大きかった。
図8に、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の送信側信号端子12における電圧定在波比(VSWR: Voltage Standing Wave Ratio)と、比較例に係るデュプレクサモジュールの送信側信号端子におけるVSWRとを示す。図9に、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2の第1及び第2の受信側信号端子13a,13bにおけるVSWRと、比較例に係るデュプレクサモジュールの第1及び第2の受信側信号端子におけるVSWRとを示す。図10に、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2のアンテナ端子11におけるVSWRと、比較例に係るデュプレクサモジュールのアンテナ端子におけるVSWRとを示す。
図8〜図10に示すように、本実施形態では、送信側信号端子12、第1及び第2の受信側信号端子13a,13b、アンテナ端子11のいずれにおけるVSWRも、比較例よりも良好であった。具体的には、図8に示すように、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2では、送信側信号端子12において、送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)におけるVSWRの最大値は、1.49であったのに対して、比較例に係るデュプレクサモジュールでは、送信側信号端子において、送信周波数帯(1850MHz〜1910MHz)におけるVSWRの最大値は、1.69であった。図9に示すように、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2では、第1及び第2の受信側信号端子13a,13bにおいて、受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)におけるVSWRの最大値は、1.38であったのに対して、比較例に係るデュプレクサモジュールでは、受信側信号端子において、受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)におけるVSWRの最大値は、1.56であった。図10に示すように、本実施形態に係るデュプレクサモジュール2では、アンテナ端子11において、受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)におけるVSWRの最大値は、1.38であったのに対して、比較例に係るデュプレクサモジュールでは、アンテナ端子において、受信周波数帯(1930MHz〜1990MHz)におけるVSWRの最大値は、1.56であった。
以上の結果から、絶縁層61が信号電極62a〜62dのグラウンド電極63と対向している端部62a1,62b1,62c1,62d1を覆わないように絶縁層61を形成することにより、優れた電気的特性を実現できることが分かる。この理由としては、以下の理由が考えられる。
樹脂やセラミックからなる絶縁層61は、一般的に絶縁材料を印刷した後に硬化させることにより形成される。このため、絶縁層61の形成に際しては、絶縁材料の印刷位置ずれ、硬化時の絶縁材料の収縮などを考慮する必要がある。よって、図3と図4との比較から分かるように、比較例のように信号電極62a−1〜62d−1の端部62a1−1〜62d1−1が絶縁層61−1で覆われるように絶縁層61−1を形成する場合、上記位置ずれや収縮などを考慮して、信号電極62a−1〜62d−1を大きく形成する必要がある。例えば、図4に示す比較例では、図3に示す本実施形態の信号電極62a〜62dよりも、信号電極62a−1〜62d−1の各辺の長さを100μm以上大きく形成している。
比較例のように信号電極62a−1〜62d−1を大きく形成した場合、信号電極62a−1〜62d−1とグラウンド電極63との間の距離が短くなる。このため、比較例では、信号電極62a−1〜62d−1とグラウンド電極63との間で発生する静電容量が大きくなる。よって、この静電容量を介して伝送される信号が増大する。その結果、送信側フィルタ部及び受信側フィルタ部の通過帯域外における減衰量が小さくなったり、アイソレーション特性が悪化したりする。
特に、使用する周波数帯が高周波数であるほど、静電容量の影響が大きくなる。よって、UMTS−BAND2に対応するデュプレクサモジュールなどでは特に影響が大きくなり、帯域外減衰量やアイソレーション特性などの電気的特性が悪化することとなる。
また、比較例のように信号電極62a−1〜62d−1とグラウンド電極63との間で発生する静電容量が大きくなると、通過帯域内におけるインピーダンスの整合性が悪化する。この結果、比較例では、VSWRが悪化している。
一方、本実施形態のように、絶縁層61が信号電極62a〜62dのグラウンド電極63と対向している端部62a1,62b1,62c1,62d1を覆わないように形成されている場合、信号電極62a〜62dを大きく形成する必要がない。よって、信号電極62a〜62dとグラウンド電極63との間の距離を長くすることができる。このため、信号電極62a〜62dとグラウンド電極63との間で発生する静電容量を小さくすることができる。従って、送信側フィルタ部及び受信側フィルタ部の通過帯域外における減衰量を大きくでき、アイソレーション特性を向上でき、さらに良好なVSWR特性を得ることができる。すなわち、良好な電気的特性を実現することができる。
また、本実施形態のデュプレクサモジュール2は、上記の点以外にも、比較例のデュプレクサモジュールよりも優れている点を有する。
まず、本実施形態のように、実装基板としてのプリント配線基板60が樹脂製であり、絶縁層61がレジスト樹脂からなる場合、信号電極62a〜62dとグラウンド電極63との表面の平坦度が高く、接続安定性を高めることができるという点である。
レジスト樹脂からなる絶縁層61を形成する場合、レジスト樹脂を印刷した後に、レジスト樹脂を熱硬化させる。このレジスト樹脂の熱硬化の工程において、レジスト樹脂が収縮することに起因して、樹脂製のプリント配線基板60が変形し、プリント配線基板60及びその第2の主面60b上に形成されている信号電極62a〜62d及びグラウンド電極63の平坦度が低下する。ここで、レジスト樹脂の収縮に起因するプリント配線基板60の変形の度合いは、絶縁層61の面積が小さくなるほど小さくなる。本実施形態では、上述の通り、絶縁層61が信号電極62a〜62dのグラウンド電極63と対向している端部62a1,62b1,62c1,62d1を覆わないように形成されているため、絶縁層61の面積が小さい。従って、レジスト樹脂の熱硬化の工程におけるレジスト樹脂の収縮に起因するプリント配線基板60の変形の度合いを小さくすることができる。従って、信号電極62a〜62d及びグラウンド電極63の平坦度を高く保つことができる。
また、本実施形態のデュプレクサモジュール2は、比較例のデュプレクサモジュールよりも、異方性導電ゴム(Anisotropic Conductive Rubber)を接続端子として利用した測定装置を使用した電気的特性の測定を高い測定安定性で行い得る。本実施形態のデュプレクサモジュール2のように、端子がLGA(Land Grid Array)タイプの電子モジュールの製造工程における不具合品の特性選別工程において、電気的特性を測定する際に、異方性導電ゴムを使用することがある。詳細には、測定治具の上に、シリコンゴムと金属ピンとからなる異方性導電ゴムと電子モジュールとを配置し、電子モジュールの上面側から加圧することで、電子モジュールと測定治具との間を電気的に導通させる。電子モジュールと測定治具との間は、異方性導電ゴムを構成するシリコンゴムが電子モジュールを介して加圧されて収縮し、シリコンゴムに埋め込まれた金属ピンを介して測定治具と電子モジュールの端子とが物理的に接触することにより導通する。
ここで、比較例のデュプレクサモジュールでは、プリント配線基板の第2の主面に形成されている全ての電極の周縁部が絶縁層により覆われている。このため、電極の表面は絶縁層の凹部に位置する。よって、各電極と測定治具との間の導通を図るために、絶縁層の厚みの分だけ大きくシリコンゴムを変形させなければならない。
一方、本実施形態のデュプレクサモジュール2では、プリント配線基板60の第2の主面60bに形成されている信号電極62a〜62dの周縁部は、絶縁層61によって覆われていない。すなわち、信号電極62a〜62dと絶縁層61とは、離間して形成されている。よって、比較例と比べて、信号電極62a〜62dと測定治具との間の導通を図るために必要なシリコンゴムの変形度合いは、比較例よりも少なくてよい。このため、測定安定性が向上する。
さらに、本実施形態では、グラウンド端子部64a〜64eがグラウンド電極63として一体に形成されているため、グラウンド電極63の露出部であるグラウンド端子部64a〜64eのうちのひとつでも測定治具と導通すればよい。従って、測定安定性がより向上する。
以下、上記実施形態の変形例について説明する。以下の説明において、上記実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。
(第1の変形例)
図11は、第1の変形例に係るデュプレクサモジュールにおけるプリント配線基板60の第2の主面60bの略図的平面図である。なお、図11は、第1の変形例に係るデュプレクサモジュールの上面から透視した状態を示した図である。
上記実施形態では、信号電極62a〜62dのそれぞれの全体が絶縁層61により覆われていない例について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。例えば、図11に示すように、絶縁層61は、信号電極62a〜62dのグラウンド電極63と対向していない端部62a2,62b2,62c2,62d2のうちの少なくとも一部の上を覆うように形成されていてもよい。すなわち、絶縁層61は、信号電極62a〜62dにおける、他のいずれの電極とも対向していない端部の上も覆うように形成されている。換言すれば、絶縁層61は、信号電極62a〜62dのうち、プリント配線基板60の周辺部に位置する部分の上を覆うように形成されている。このようにすることにより、デュプレクサモジュール2を通信機1のRF回路に実装する際に、熱応力により、信号電極62a〜62dが剥がれることが効果的に抑制される。
もちろん、本変形例においても、信号電極62a〜62dの端部62a1〜62d1は、絶縁層61により覆われていないため、上記実施形態と同様に、電気的特性の向上、電極平坦度の向上、電気的測定の測定安定性の向上という各効果が奏される。
(その他の変形例)
上記実施形態では、実装基板としてのプリント配線基板が樹脂製である場合について説明した。但し、実装基板は、セラミック製であってもよい。また、絶縁層もセラミック製であってもよい。
上記実施形態では、電子部品がひとつのデュプレクサを有するものである例について説明したが、本発明において、電子部品の種類は特に限定されない。電子 モジュールは、複数のデュプレクサが搭載されたもの、複数の高周波フィルタが搭載されたもの、トリプレクサなどが搭載されたもの、デュプレクサやトリプレクサと高周波フィルタとが搭載されたもの、デュプレクサやトリプレクサとパワーアンプが搭載されたものであってもよい。また、電子部品は、コンデンサ、インダクタ、半導体素子などであってもよい。
1…通信機
2…デュプレクサモジュール
11…アンテナ端子
12…送信側信号端子
13a…第1の受信側信号端子
13b…第2の受信側信号端子
14a〜14d…信号端子
20…受信側フィルタ部
21,22…接続点
30…送信側フィルタ部
31…直列腕
32〜34…並列腕
40…電子部品
40a…電子部品の裏面
41…フィルタチップ
42…セラミック基板
43…封止樹脂
60…プリント配線基板
60a…プリント配線基板の第1の主面
60b…プリント配線基板の第2の主面
61…絶縁層
62a〜62d…信号電極
62a1〜62d1…信号電極のグラウンド電極と対向している端部
62a1−1〜62d1−1…端部
62a2〜62d2…信号電極のグラウンド電極と対向していない端部
63…グラウンド電極
63a〜63d…グラウンド電極の信号電極と対向している端部
64a〜64e…グラウンド端子部
P1〜P3…並列腕共振子
S1〜S4…直列腕共振子
L1…第1のインダクタ
L2…第2のインダクタ
L3…第3のインダクタ

Claims (8)

  1. 信号端子と、グラウンド端子とを有する電子部品と、
    第1及び第2の主面を有し、前記電子部品が前記第1の主面に実装されている実装基板と、
    前記実装基板の前記第2の主面上に形成されており前記信号端子に接続されている信号電極と、
    前記実装基板の前記第2の主面上に形成されており前記グラウンド端子に接続されているグラウンド電極と、
    前記実装基板の前記第2の主面の一部を覆うように形成されている絶縁層とを備え、
    前記絶縁層は、前記信号電極の前記グラウンド電極と対向している端部を覆わないように形成されており、前記絶縁層は、前記信号電極の前記グラウンド電極と対向していない端部の少なくとも一部の上を覆うように形成されている、電子モジュール。
  2. 前記絶縁層は、前記信号電極の前記グラウンド電極と対向している端部から隔離して形成されている、請求項1に記載の電子モジュール。
  3. 前記グラウンド電極は、前記グラウンド電極の前記信号電極と対向している端部が前記絶縁層により覆われるように形成されている、請求項1または2に記載の電子モジュール。
  4. 前記絶縁層は、前記グラウンド電極の前記絶縁層から露出している部分が複数形成されるように設けられている、請求項1〜のいずれか一項に記載の電子モジュール。
  5. 前記実装基板は、樹脂製またはセラミック製である、請求項1〜のいずれか一項に記載の電子モジュール。
  6. 前記絶縁層は、樹脂製またはセラミック製である、請求項1〜のいずれか一項に記載の電子モジュール。
  7. 前記電子部品は、前記信号端子として入力端子と出力端子とを有するフィルタである、請求項1〜のいずれか一項に記載の電子モジュール。
  8. 請求項1〜のいずれか一項に記載の電子モジュールを搭載した通信機。
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