JP5368578B2 - 固定具 - Google Patents
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Description
本発明は、電磁波（周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下）（例えば、テラヘルツ波（例えば、周波数が０．０３［ＴＨｚ］以上１０［ＴＨｚ］以下））を使用した断層撮影に関する。
従来より、被測定物の断層情報を得る方法としてコンピュータ断層撮影（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ：ＣＴ）法がある。Ｘ線の発生器と検出器を用いて、この方法を実行することをＸ線ＣＴという。Ｘ線ＣＴによれば、人体の断層情報を非破壊かつ非接触で得ることができる。
しかし、半導体、プラスチック、セラミック、木材および紙など（以下、「原材料」という）から構成される工業製品の内部状態（例えば、欠陥や歪み）を検出することは、Ｘ線ＣＴによれば困難である。Ｘ線が、あらゆる物質に対して透過性が高いためである。
一方、テラヘルツ波は、先に述べた工業製品の原材料をほどよく透過する。このため、テラヘルツ波の発生器と検出器を用いて、ＣＴ法を実行すれば（以下、「テラヘルツ波ＣＴ法」という）工業製品の内部状態を検出できる。テラヘルツ波ＣＴ法については、特許文献１、非特許文献１に記載がある。
米国特許第７１１９３３９号明細書
Ｓ．Ｗａｎｇ ｅｔ ａｌ．，"Ｐｕｌｓｅｄ ｔｅｒａｈｅｒｔｚ ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ，"Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ，Ｖｏｌ ３７（２００４）Ｒ１−Ｒ３６
しかし、半導体、プラスチック、セラミック、木材および紙など（以下、「原材料」という）から構成される工業製品の内部状態（例えば、欠陥や歪み）を検出することは、Ｘ線ＣＴによれば困難である。Ｘ線が、あらゆる物質に対して透過性が高いためである。
一方、テラヘルツ波は、先に述べた工業製品の原材料をほどよく透過する。このため、テラヘルツ波の発生器と検出器を用いて、ＣＴ法を実行すれば（以下、「テラヘルツ波ＣＴ法」という）工業製品の内部状態を検出できる。テラヘルツ波ＣＴ法については、特許文献１、非特許文献１に記載がある。
しかしながら、テラヘルツ波ＣＴ法においては、テラヘルツ波が被測定物に対して斜めに入射または出射する場合、テラヘルツ波が屈折してしまい直進しない。ただし、被測定物の周囲の空気の屈折率が１であり、かつテラヘルツ波ＣＴ法の被測定物の屈折率が１より大きいものとする。
第２０図は、従来技術にかかる被測定物の屈折率が１．４、被測定物の周囲の空気の屈折率が１の場合に想定されるテラヘルツ波の光路を示す図である。第２０図を参照して、被測定物（ＤＵＴ：Ｄｅｖｉｃｅ Ｕｎｄｅｒ Ｔｅｓｔ）に左から入射したテラヘルツ波が、被測定物により屈折することがわかる。
テラヘルツ波が直進しないことにより、検出器にテラヘルツ波が到達できず、充分な感度で被測定物の画像を取得できなくなることがある。
また、テラヘルツ波が直進しないことにより、検出されたテラヘルツ波が、被測定物を直進して到達したものではない場合も起こりうる。このため、検出されたテラヘルツ波から被測定物の画像を取得すると、障害陰影および擬似画像などのアーチファクトが画像に現れる可能性がある。
そこで、本発明は、テラヘルツ波を含む電磁波（周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下）を被測定物に与えて測定する際に、テラヘルツ波を含む電磁波が被測定物により屈折することに起因する悪影響を抑制するために被測定物を収容する収容具と共に使用できる被測定物の固定具を提供することを課題とする。
本発明にかかる固定具は、０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の測定用電磁波が照射されることにより測定される被測定物の端面と同じ形状の固定面を有する固定具であって、前記端面が前記固定面に固定され、前記固定具の屈折率をｎ０、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１であり、前記固定具が、前記被測定物の側面を覆わないように構成される。
上記のように構成された、０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の測定用電磁波が照射されることにより測定される被測定物の端面と同じ形状の固定面を有する固定具によれば、前記端面が前記固定面に固定される。前記固定具の屈折率をｎ０、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１である。前記固定具が、前記被測定物の側面を覆わない。
なお、本発明にかかる固定具は、前記固定具が、前記固定面に垂直な直線を軸として回転するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記測定用電磁波の進行方向が、前記直線と垂直であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記端面に前記固定面が押圧されることにより、前記端面が前記固定面に固定されるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記固定具は、二つあり、前記被測定物は、互いに平行な二つの端面を有し、前記二つの端面の各々に、二つの前記固定具の各々が押圧されるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記端面に前記固定面が接着されることにより、前記端面が前記固定面に固定されるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、前記収容具が、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される空隙部と、第一曲面部分と第二曲面部分とを有し、前記第一曲面部分と前記第二曲面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する包囲部と、を備え、前記包囲部の屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ２がｎ１よりも大きく、前記第一曲面部分および前記第二曲面部分は、共に凸面であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、前記収容具が、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される空隙部と、第一曲面部分と第二曲面部分とを有し、前記第一曲面部分と前記第二曲面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する包囲部と、を備え、前記包囲部の屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ２がｎ１よりも小さく、前記第一曲面部分および前記第二曲面部分は、共に凹面であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具の前記空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含むようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、前記収容具が、前記測定用電磁波を受ける第一曲面部分と、該第一曲面部分よりも前記被測定物に近く前記測定用電磁波が透過する第一凹面部分とを有し、屈折率がｎ２ａである第一被覆部と、前記被測定物を透過した前記測定用電磁波を受ける第二凹面部分と、該第二凹面部分よりも前記被測定物から遠く前記測定用電磁波が透過する第二曲面部分とを有し、屈折率がｎ２ｂである第二被覆部と、を備え、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ２ａがｎ１よりも大きい場合は、前記第一曲面部分が凸面であり、ｎ２ａがｎ１よりも小さい場合は、前記第一曲面部分が凹面であり、ｎ２ｂがｎ１よりも大きい場合は、前記第二曲面部分が凸面であり、ｎ２ｂがｎ１よりも小さい場合は、前記第二曲面部分が凹面であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具のｎ２ａとｎ２ｂとは異なるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具において、前記第一曲面部分の平面形状の曲率半径と、前記第二曲面部分の平面形状の曲率半径とは異なるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具の前記第一凹面部分および前記第二凹面部分の平面形状の輪郭が、円弧を含むようにしてもよい。
第２０図は、従来技術にかかる被測定物の屈折率が１．４、被測定物の周囲の空気の屈折率が１の場合に想定されるテラヘルツ波の光路を示す図である。第２０図を参照して、被測定物（ＤＵＴ：Ｄｅｖｉｃｅ Ｕｎｄｅｒ Ｔｅｓｔ）に左から入射したテラヘルツ波が、被測定物により屈折することがわかる。
テラヘルツ波が直進しないことにより、検出器にテラヘルツ波が到達できず、充分な感度で被測定物の画像を取得できなくなることがある。
また、テラヘルツ波が直進しないことにより、検出されたテラヘルツ波が、被測定物を直進して到達したものではない場合も起こりうる。このため、検出されたテラヘルツ波から被測定物の画像を取得すると、障害陰影および擬似画像などのアーチファクトが画像に現れる可能性がある。
そこで、本発明は、テラヘルツ波を含む電磁波（周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下）を被測定物に与えて測定する際に、テラヘルツ波を含む電磁波が被測定物により屈折することに起因する悪影響を抑制するために被測定物を収容する収容具と共に使用できる被測定物の固定具を提供することを課題とする。
本発明にかかる固定具は、０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の測定用電磁波が照射されることにより測定される被測定物の端面と同じ形状の固定面を有する固定具であって、前記端面が前記固定面に固定され、前記固定具の屈折率をｎ０、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１であり、前記固定具が、前記被測定物の側面を覆わないように構成される。
上記のように構成された、０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の測定用電磁波が照射されることにより測定される被測定物の端面と同じ形状の固定面を有する固定具によれば、前記端面が前記固定面に固定される。前記固定具の屈折率をｎ０、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１である。前記固定具が、前記被測定物の側面を覆わない。
なお、本発明にかかる固定具は、前記固定具が、前記固定面に垂直な直線を軸として回転するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記測定用電磁波の進行方向が、前記直線と垂直であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記端面に前記固定面が押圧されることにより、前記端面が前記固定面に固定されるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記固定具は、二つあり、前記被測定物は、互いに平行な二つの端面を有し、前記二つの端面の各々に、二つの前記固定具の各々が押圧されるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記端面に前記固定面が接着されることにより、前記端面が前記固定面に固定されるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、前記収容具が、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される空隙部と、第一曲面部分と第二曲面部分とを有し、前記第一曲面部分と前記第二曲面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する包囲部と、を備え、前記包囲部の屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ２がｎ１よりも大きく、前記第一曲面部分および前記第二曲面部分は、共に凸面であるようにしてもよい。
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なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具の前記空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含むようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、前記収容具が、前記測定用電磁波を受ける第一曲面部分と、該第一曲面部分よりも前記被測定物に近く前記測定用電磁波が透過する第一凹面部分とを有し、屈折率がｎ２ａである第一被覆部と、前記被測定物を透過した前記測定用電磁波を受ける第二凹面部分と、該第二凹面部分よりも前記被測定物から遠く前記測定用電磁波が透過する第二曲面部分とを有し、屈折率がｎ２ｂである第二被覆部と、を備え、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ２ａがｎ１よりも大きい場合は、前記第一曲面部分が凸面であり、ｎ２ａがｎ１よりも小さい場合は、前記第一曲面部分が凹面であり、ｎ２ｂがｎ１よりも大きい場合は、前記第二曲面部分が凸面であり、ｎ２ｂがｎ１よりも小さい場合は、前記第二曲面部分が凹面であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具のｎ２ａとｎ２ｂとは異なるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具において、前記第一曲面部分の平面形状の曲率半径と、前記第二曲面部分の平面形状の曲率半径とは異なるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる固定具は、前記収容具の前記第一凹面部分および前記第二凹面部分の平面形状の輪郭が、円弧を含むようにしてもよい。
第１図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第１図（ａ））、左側面図（第１図（ｂ））、右側面図（第１図（ｃ））である。
第２図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第３図は、収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容されたときの、被測定物１および空隙部１１の拡大平面図である。
第４図は、本発明の第一の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。
第５図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第５図（ａ））、左側面図（第５図（ｂ））、右側面図（第５図（ｃ））である。
第６図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第７図は、本発明の第二の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。
第８図は、本発明の第三の実施形態にかかる収容具１０の平面図である。
第９図は、第三の実施形態の変形例を示す図である。
第１０図は、第四の実施形態にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第１１図は、固定具１００ａの正面図（第１１図（ａ））、底面図（第１１図（ｂ））、被測定物１の平面図（第１１図（ｃ））、正面図（第１１図（ｄ））である。
第１２図は、被測定物１の正面図（第１２図（ａ））、底面図（第１２図（ｂ））、固定具１００ｂの平面図（第１２図（ｃ））、正面図（第１２図（ｄ））である。
第１３図は、Ｘ方向に収容具１０および被測定物１を移動させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１４図は、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａを回転軸として回転させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１５図は、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ａ））、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ｂ））である。
第１６図は、第１５図における収容具１０および固定具１００ａの平面断面図である。
第１７図は、第１５図（ｂ）における固定具１００ａが無いと仮定した場合の比較例における収容具１０の平面断面図である。
第１８図は、第１０図において被測定物１の側面１ｅが、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていると仮定した場合の比較例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第１９図は、第四の実施形態の変形例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第２０図は、従来技術にかかる被測定物の屈折率が１．４、被測定物の周囲の空気の屈折率が１の場合に想定されるテラヘルツ波の光路を示す図である。
第２図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第３図は、収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容されたときの、被測定物１および空隙部１１の拡大平面図である。
第４図は、本発明の第一の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。
第５図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第５図（ａ））、左側面図（第５図（ｂ））、右側面図（第５図（ｃ））である。
第６図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第７図は、本発明の第二の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。
第８図は、本発明の第三の実施形態にかかる収容具１０の平面図である。
第９図は、第三の実施形態の変形例を示す図である。
第１０図は、第四の実施形態にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第１１図は、固定具１００ａの正面図（第１１図（ａ））、底面図（第１１図（ｂ））、被測定物１の平面図（第１１図（ｃ））、正面図（第１１図（ｄ））である。
第１２図は、被測定物１の正面図（第１２図（ａ））、底面図（第１２図（ｂ））、固定具１００ｂの平面図（第１２図（ｃ））、正面図（第１２図（ｄ））である。
第１３図は、Ｘ方向に収容具１０および被測定物１を移動させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１４図は、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａを回転軸として回転させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１５図は、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ａ））、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ｂ））である。
第１６図は、第１５図における収容具１０および固定具１００ａの平面断面図である。
第１７図は、第１５図（ｂ）における固定具１００ａが無いと仮定した場合の比較例における収容具１０の平面断面図である。
第１８図は、第１０図において被測定物１の側面１ｅが、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていると仮定した場合の比較例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第１９図は、第四の実施形態の変形例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第２０図は、従来技術にかかる被測定物の屈折率が１．４、被測定物の周囲の空気の屈折率が１の場合に想定されるテラヘルツ波の光路を示す図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。
第一の実施形態
第１図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第１図（ａ））、左側面図（第１図（ｂ））、右側面図（第１図（ｃ））である。第２図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第２図を参照して、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）は、テラヘルツ波出力器２、テラヘルツ波検出器４を有する。テラヘルツ波出力器２は、被測定物１に向けて、テラヘルツ波を出力する。テラヘルツ波検出器４は、被測定物１および収容具１０を透過したテラヘルツ波を検出する。
なお、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）は、出力および検出する測定用電磁波として、上記のようにテラヘルツ波（周波数が例えば、０．０３［ＴＨｚ］以上１０［ＴＨｚ］以下）を採用している。しかし、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が出力および検出する測定用電磁波は、テラヘルツ波に限らず、周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の電磁波であればよい。
被測定物１は、測定用電磁波が照射されることにより、測定される。
収容具１０は、テラヘルツ波測定装置により測定される被測定物１の少なくとも一部を収容する。なお、収容具１０は、被測定物１の一部を収容している場合（第１０図参照）もあれば、被測定物１の全部を収容している場合（第１９図参照）もある。
収容具１０は、空隙部１１、包囲部１２を有する。空隙部１１は、上から見れば、半径ｒ０の円形の隙間である（第１図参照）。被測定物１の少なくとも一部が空隙部１１の内部に配置される（第２図参照）。
包囲部１２は、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とを有する。第一曲面部分Ｓ１は、半径ｒ１の円筒面（底面が半径ｒ１の円である円筒の側面の一部分）である。第二曲面部分Ｓ２は、半径ｒ２の円筒面（底面が半径ｒ２の円である円筒の側面の一部分）である。なお、平面図（第１図（ａ））においては、空隙部１１が半径ｒ０の円、第一曲面部分Ｓ１が半径ｒ１（＞ｒ０）の円弧、第二曲面部分Ｓ２が半径ｒ２（＝ｒ１）の円弧として図示されている。これらの円および円弧の中心は、いずれも収容具１０の光軸ＯＡの上にある。平面図（第１図（ａ））において、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧の中心と、第二曲面部分Ｓ２を表す円弧の中心とは点対称であり、その対象の中心が空隙部１１を表す円の中心である。また、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧および第二曲面部分Ｓ２を表す円弧が線対称である。
なお、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とが円筒面であると説明したが、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の一方または双方が非円筒面であることも考えられる。これは、他の実施形態でも同様である。
第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２との間に空隙部１１が配置されている。包囲部１２は、空隙部１１を包囲する。ここで、被測定物１の屈折率をｎ１とし、包囲部１２の屈折率をｎ２とする。すると、ｎ１＜ｎ２である。しかも、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とが、共に凸面である。また、ｎ１およびｎ２は、収容具１０の周囲の空気の屈折率（例えば、１）と等しくなくてもよい。
なお、包囲部１２の材料は、テフロン（登録商標）やポリエチレン等の樹脂材料でもよい。これらの樹脂材料は、可視光または赤外光領域の光線による測定では通常使用できない。しかし、これらの樹脂材料は、テラヘルツ波の光線の吸収や散乱が少ない為に、テラヘルツ波による測定では使用可能である。
第３図は、収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容されたときの、被測定物１および空隙部１１の拡大平面図である。被測定物１の平面形状（上から見たときの形状および平面断面）の輪郭と、空隙部１１の平面形状（上から見たときの形状および平面断面）の輪郭との距離をｇとする。すると、被測定物１の平面形状は、半径ｒ−ｇの円である。よって、被測定物１は、底面が半径ｒ−ｇの円である円柱である。
なお、ｇ≦λ／４であることが好ましい。ただし、λは、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の波長である。ｇ≦λ／４であれば、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層によるテラヘルツ波の反射を抑制できる。テラヘルツ波の反射はテラヘルツ波の損失につながるので、ｇ≦λ／４とすることはテラヘルツ波の損失の抑制につながる。
なお、第２図を参照して、第一曲面部分Ｓ１の光軸ＯＡが、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向（光路Ｐ１）と平行になるようにする。テラヘルツ波測定装置による被測定物１の測定を行うために、上記のように収容具１０を配置する。
また、包囲部１２は、端部に（第１図（ａ）において上下）、端部平面Ｅ１１、Ｅ１２（第一曲面部分Ｓ１側）、端部平面Ｅ２１、Ｅ２２（第二曲面部分Ｓ２側）を有する。端部平面Ｅ１１、Ｅ１２と、端部平面Ｅ２１、Ｅ２２とは平行であり、光軸ＯＡと直交する。よって、光軸ＯＡと平行である光路Ｐ１を進行したテラヘルツ波が、端部平面Ｅ１１（またはＥ１２）に入射しても、そのまま包囲部１２内を直進して（被測定物１に入射されない）、端部平面Ｅ２１（またはＥ２２）から出射される。
次に、第一の実施形態の動作を説明する。
第２図を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２によりテラヘルツ波が出力される。テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波（光路Ｐ１）は、第一曲面部分Ｓ１に照射される。ここで、テラヘルツ波は屈折して、包囲部１２内の光路Ｐ２を進行する。ここで、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層の厚さは薄いので無視する。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、被測定物１内の光路Ｐ３を進行する。なお、光路Ｐ３は、光路Ｐ１および光軸ＯＡとほぼ平行である。
第４図は、本発明の第一の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。ただし、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との間の隙間は無視し、空隙部１１を図示省略している。
第４図を参照して、光路Ｐ１を進行したテラヘルツ波は、第一曲面部分Ｓ１に入射されると、包囲部１２が凸レンズの機能を果たして、テラヘルツ波は光軸ＯＡに向かうように屈折する。第４図においては、テラヘルツ波が下側に進行する（光路Ｐ２）。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、光路Ｐ３を進行する。
ここで、テラヘルツ波の被測定物１への入射角をθＡ、出射角をθＢとする。スネルの法則により、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＝ｎ１／ｎ２である。しかも、ｎ１＜ｎ２であるため、ｎ１／ｎ２＜１である。よって、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＜１である。したがって、θＡ＜θＢである。よって、光路Ｐ３は、光路Ｐ２を直進させたものよりも、光軸ＯＡから遠ざかるようになる。ここで、ｎ２などを適宜設定すると、光路Ｐ３は光軸ＯＡとほぼ平行になる。
第２図に戻り、被測定物１内の光路Ｐ３を進行したテラヘルツ波は、包囲部１２に入射して屈折し、包囲部１２内の光路Ｐ４を進行する。光路Ｐ４を進行したテラヘルツ波は、第二曲面部分Ｓ２に入射して屈折し、光路Ｐ５を進行して、テラヘルツ波検出器４に入射される。
第１図（ａ）において、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧および第二曲面部分Ｓ２を表す円弧が線対称であることから、光路Ｐ２は光路Ｐ４とほぼ線対称、光路Ｐ１は光路Ｐ５とほぼ線対称となる。よって、光路Ｐ５は光路Ｐ１のほぼ延長線上にある。
テラヘルツ波検出器４は、入射されたテラヘルツ波を検出する。これにより、被測定物１が測定される。例えば、被測定物１は内容物１ａ、１ｂを有する。第２図によれば、テラヘルツ波は内容物１ａを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ａの位置などが判明する。
第一の実施形態によれば、テラヘルツ波を被測定物１に与えて測定する際に、テラヘルツ波が被測定物１により屈折はするものの、収容具１０によって、光路Ｐ５は光路Ｐ１のほぼ延長線上にある。このため、テラヘルツ波検出器４に入射されるテラヘルツ波は、収容具１０が無く、かつ、被測定物１による屈折がほぼ無い場合と同様なものとなる。よって、テラヘルツ波が被測定物１により屈折することに起因する悪影響を抑制できる。
第二の実施形態
第二の実施形態にかかる収容具１０は、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の形状（凹面）が第一の実施形態にかかる収容具１０の形状（凸面）と異なる。
第５図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第５図（ａ））、左側面図（第５図（ｂ））、右側面図（第５図（ｃ））である。第６図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。以下、第一の実施形態と同様な部分は同一の番号を付して説明を省略する。
テラヘルツ波測定装置は、第一の実施形態と同様であり説明を省略する。
収容具１０は、テラヘルツ波測定装置により測定される被測定物１の少なくとも一部を収容する。なお、収容具１０は、被測定物１の一部を収容している場合（第１０図参照）もあれば、被測定物１の全部を収容している場合（第１９図参照）もある。
収容具１０は、空隙部１１、包囲部１２を有する。空隙部１１は、第一の実施形態と同様であり説明を省略する。
包囲部１２は、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とを有する。包囲部１２は、第一の実施形態と同様である。ただし、第二の実施形態にかかる第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とは、共に凹面である。ただし、被測定物１の屈折率をｎ１とし、包囲部１２の屈折率をｎ２とすると、ｎ１＞ｎ２であるものとする。
次に、第二の実施形態の動作を説明する。
第６図を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２によりテラヘルツ波が出力される。テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波（光路Ｐ１）は、第一曲面部分Ｓ１に照射される。ここで、テラヘルツ波は屈折して、包囲部１２内の光路Ｐ２を進行する。ここで、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層の厚さは薄いので無視する。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、被測定物１内の光路Ｐ３を進行する。なお、光路Ｐ３は、光路Ｐ１および光軸ＯＡとほぼ平行である。
第７図は、本発明の第二の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。ただし、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との間の隙間は無視し、空隙部１１を図示省略している。
第７図を参照して、光路Ｐ１を進行したテラヘルツ波は、第一曲面部分Ｓ１に入射されると、包囲部１２が凹レンズの機能を果たして、テラヘルツ波は光軸ＯＡから遠ざかるように屈折する。第７図においては、テラヘルツ波が上側に進行する（光路Ｐ２）。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、光路Ｐ３を進行する。
ここで、テラヘルツ波の被測定物１への入射角をθＡ、出射角をθＢとする。スネルの法則により、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＝ｎ１／ｎ２である。しかも、ｎ１＞ｎ２であるため、ｎ１／ｎ２＞１である。よって、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＞１である。したがって、θＡ＞θＢである。よって、光路Ｐ３は、光路Ｐ２を直進させたものよりも、光軸ＯＡに近づくようになる。ここで、ｎ２などを適宜設定すると、光路Ｐ３は光軸ＯＡとほぼ平行になる。
第６図に戻り、被測定物１内の光路Ｐ３を進行したテラヘルツ波は、包囲部１２に入射して屈折し、包囲部１２内の光路Ｐ４を進行する。光路Ｐ４を進行したテラヘルツ波は、第二曲面部分Ｓ２に入射して屈折し、光路Ｐ５を進行して、テラヘルツ波検出器４に入射される。
第６図において、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧および第二曲面部分Ｓ２を表す円弧が線対称であることから、光路Ｐ２は光路Ｐ４とほぼ線対称、光路Ｐ１は光路Ｐ５とほぼ線対称となる。よって、光路Ｐ５は光路Ｐ１のほぼ延長線上にある。
テラヘルツ波検出器４は、入射されたテラヘルツ波を検出する。これにより、被測定物１が測定される。例えば、被測定物１は内容物１ａ、１ｂを有する。第２図によれば、テラヘルツ波は内容物１ａを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ａの位置などが判明する。
第二の実施形態によれば、第一の実施形態と同様な効果を奏する。
第三の実施形態
本発明の第三の実施形態にかかる収容具１０は、おおむね、第一および第二の実施形態にかかる収容具１０における包囲部１２ａ、１２ｂの形状を互いに異ならせたものに相当する。
第８図は、本発明の第三の実施形態にかかる収容具１０の平面図である。ただし、第８図（ａ）は、ｎ２ａ＞ｎ１かつｎ２ｂ＞ｎ１の場合の収容具１０の平面図である。第８図（ｂ）は、ｎ２ａ＜ｎ１かつｎ２ｂ＜ｎ１の場合の収容具１０の平面図である。
テラヘルツ波測定装置は、第一の実施形態と同様であり説明を省略する。なお、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が出力および検出する測定用電磁波が、テラヘルツ波に限らず、周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の電磁波であればよいことも、第一の実施形態と同様である。
収容具１０は、テラヘルツ波測定装置により測定される被測定物１の少なくとも一部を収容する。なお、収容具１０は、被測定物１の一部を収容している場合（第１０図参照）もあれば、被測定物１の全部を収容している場合（第１９図参照）もある。
収容具１０は、第一被覆部１３ａ、第二被覆部１３ｂを備える。第一被覆部１３ａおよび第二被覆部１３ｂの材料は、包囲部１２の材料と同じものでよい。
第一被覆部１３ａの屈折率はｎ２ａである。第一被覆部１３ａは、第一曲面部分Ｓ１（第一および第二の実施形態と同様）と、第一凹面部分１１ａを有する。第一曲面部分Ｓ１は、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波を受ける。第一凹面部分１１ａは、第一曲面部分Ｓ１よりも被測定物１に近く、テラヘルツ波が透過する。
ここで、ｎ２ａがｎ１（被測定物１の屈折率）よりも大きい場合は、第８図（ａ）を参照して、第一曲面部分Ｓ１が凸面である。第一曲面部分Ｓ１の具体的な形状は、第一の実施形態と同様である。
ｎ２ａがｎ１よりも小さい場合は、第８図（ｂ）を参照して、第一曲面部分Ｓ１が凹面である。第一曲面部分Ｓ１の具体的な形状は、第二の実施形態と同様である。
第二被覆部１３ｂの屈折率はｎ２ｂである。第二被覆部１３ｂは、第二曲面部分Ｓ２（第一および第二の実施形態と同様）と、第二凹面部分１１ｂを有する。第二凹面部分１１ｂは、被測定物１を透過したテラヘルツ波を受ける。第二曲面部分Ｓ２は、第二凹面部分１１ｂよりも被測定物１から遠く、テラヘルツ波が透過する。
ここで、ｎ２ｂがｎ１よりも大きい場合は、第８図（ａ）を参照して、第二曲面部分Ｓ２が凸面である。第二曲面部分Ｓ２の具体的な形状は、第一の実施形態と同様である。
ｎ２ｂがｎ１よりも小さい場合は、第８図（ｂ）を参照して、第二曲面部分Ｓ２が凹面である。第二曲面部分Ｓ２の具体的な形状は、第二の実施形態と同様である。
なお、ｎ２ａとｎ２ｂとは異なる。しかも、第一曲面部分Ｓ１の平面形状の曲率半径と、第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径とは異なる。第８図においては、第一曲面部分Ｓ１の平面形状の曲率半径よりも、第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径の方が大きい。
しかも、第一凹面部分１１ａおよび第二凹面部分１１ｂの平面形状の輪郭は円弧である。第一凹面部分１１ａおよび第二凹面部分１１ｂの平面形状の輪郭と、被測定物１の平面形状の輪郭との距離ｇ１とする。ｇ１≦λ／４であることが好ましいことは、第一の実施形態（第３図参照）と同様である。
なお、第一曲面部分Ｓ１の光軸ＯＡ（第２図と同様なので、図示省略）が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向（光路Ｐ１）と平行になるようにすることも、第一の実施形態（第２図参照）と同様である。
次に、第三の実施形態の動作を説明する。
第８図（ａ）に示す収容具１０によれば、テラヘルツ波は、第一の実施形態と同様な光路を進行する。ただし、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径と、ｎ２ａとｎ２ｂとを適宜設定して、光路Ｐ５が光路Ｐ１のほぼ延長線上にあるようにする。
第８図（ｂ）に示す収容具１０によれば、テラヘルツ波は、第二の実施形態と同様な光路を進行する。ただし、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径と、ｎ２ａとｎ２ｂとを適宜設定して、光路Ｐ５が光路Ｐ１のほぼ延長線上にあるようにする。
第三の実施形態によれば、第一の実施形態と同様な効果を奏する。
なお、第三の実施形態として、ｎ１＜ｎ２ａかつｎ１＜ｎ２ｂの場合（第８図（ａ）参照）と、ｎ１＞ｎ２ａかつｎ１＞ｎ２ｂの場合（第８図（ｂ）参照）を説明した。しかし、ｎ１＜ｎ２ａかつｎ１＞ｎ２ｂの場合と、ｎ１＞ｎ２ａかつｎ１＜ｎ２ｂの場合とが考えられる。
第９図は、第三の実施形態の変形例を示す図である。ただし、第９図（ａ）は、ｎ１＜ｎ２ａかつｎ１＞ｎ２ｂの場合の収容具１０の平面図である。第９図（ｂ）は、ｎ１＞ｎ２ａかつｎ１＜ｎ２ｂの場合の収容具１０の平面図である。
第９図（ａ）においては、第一曲面部分Ｓ１が凸面であり、かつ、第二曲面部分Ｓ２が凹面である。光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は第一の実施形態と同様となり（第２図参照）、光路Ｐ４、Ｐ５は第二の実施形態と同様となる（第６図参照）。光路Ｐ５は、光路Ｐ１の延長線上ではなくなるが、光路Ｐ５と光路Ｐ１とをほぼ平行にできる。
第９図（ｂ）においては、第一曲面部分Ｓ１が凹面であり、かつ、第二曲面部分Ｓ２が凸面である。光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は第二の実施形態と同様となり（第６図参照）、光路Ｐ４、Ｐ５は第一の実施形態と同様となる（第２図参照）。光路Ｐ５は、光路Ｐ１の延長線上ではなくなるが、光路Ｐ５と光路Ｐ１とをほぼ平行にできる。
第四の実施形態
第四の実施形態は、固定具１００ａ、１００ｂに被測定物１を固定して、被測定物１を固定具１００ａ、１００ｂごと回転させながら、被測定物１を走査するものである。
第１０図は、第四の実施形態にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。第四の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一から第三の実施形態とほぼ同様である。ただし、被測定物１は円筒形であり、被測定物１の一部が、収容具１０の空隙部１１に収容されている。
ただし、第１０図においては、第一の実施形態にかかる収容具１０を、固定具１００ａ、１００ｂとともに使用する態様を図示している。しかし、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を、固定具１００ａ、１００ｂとともに使用することも可能である。なお、第１１図〜第１９図においても同様である。
固定具１００ａ、１００ｂの屈折率をｎ０とし、被測定物１の屈折率をｎ１としたときに、ｎ０＝ｎ１である。ただし、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１であれば、固定具１００ａ、１００ｂとしての効果（第１６図参照）を奏する。
円筒形の被測定物１は、端面１ｃ、１ｄ（第１１図、第１２図参照）、側面１ｅを有する。側面１ｅは、端面１ｃおよび端面１ｄの間にある曲面である。側面１ｅは、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていない。
第１１図は、固定具１００ａの正面図（第１１図（ａ））、底面図（第１１図（ｂ））、被測定物１の平面図（第１１図（ｃ））、正面図（第１１図（ｄ））である。第１２図は、被測定物１の正面図（第１２図（ａ））、底面図（第１２図（ｂ））、固定具１００ｂの平面図（第１２図（ｃ））、正面図（第１２図（ｄ））である。
第１１図を参照して、固定具１００ａは円筒形であり、その底面（固定面）１０２ａは円形である。被測定物１の上方の端面１ｃもまた円形である。底面（固定面）１０２ａと、端面１ｃとは同じ形状である。
第１２図を参照して、固定具１００ｂは円筒形であり、その上方の底面（固定面）１０２ｂは円形である。被測定物１の下方の端面１ｄもまた円形である。上方の底面（固定面）１０２ｂと、端面１ｄとは同じ形状である。
なお、端面１ｃと端面１ｄとは互いに平行である。
ここで、第１０図から第１２図を参照して、被測定物１の上方の端面１ｃが、固定具１００ａの底面（固定面）１０２ａに固定される。被測定物１の下方の端面１ｄが、固定具１００ｂの上方の底面（固定面）１０２ｂに固定される。
二つの端面１ｃ、１ｄの各々に、二つの固定具１００ａ、１００ｂの各々が押圧される。すなわち、端面１ｃに固定具１００ａ（の底面１０２ａ）が押圧され、端面１ｄに固定具１００ｂ（の上方の底面１０２ｂ）が押圧される。
このような押圧により、被測定物１は、固定具１００ａ、１００ｂから見て、上下方向に移動しない。しかも、端面１ｃ、１ｄと、底面１０２ａ、１０２ｂとの摩擦力により、被測定物１は、固定具１００ａ、１００ｂから見て、上下方向とは垂直な方向にも移動しない。すなわち、端面１ｃ、１ｄが、底面１０２ａ、１０２ｂに固定される。
ただし、端面１ｃ、１ｄの一方または双方と、底面１０２ａ、１０２ｂの一方または双方とを（例えば、周知の接着剤により）接着することで、端面が固定面に固定されるようにしてもよい。
ロータリーアクチュエータ１１０ａは、固定具１００ａを介して、被測定物１に接続される。ロータリーアクチュエータ１１０ａは、底面１０２ａに垂直な直線Ａを軸として回転する。
ロータリーアクチュエータ１１０ｂは、固定具１００ｂを介して、被測定物１に接続される。ロータリーアクチュエータ１１０ｂは、底面１０２ｂに垂直な直線Ａを軸として回転する。
なお、底面１０２ａと、底面１０２ｂとは平行であるものとする。
次に、第四の実施形態の動作を説明する。
第１０図（ａ）を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２により、テラヘルツ波が出力される（以下、「出力工程」という）。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、光路Ｐ１からＰ５を進行しながら、包囲部１２および被測定物１を透過して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波検出器４により検出される（以下、「検出工程」という）。これにより、被測定物１がテラヘルツ波測定装置によって測定される。
第１０図（ａ）に示すように、テラヘルツ波測定装置および被測定物１のＺ座標（ただし、Ｚ方向は上下方向）を固定しておきながら、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して水平方向（Ｘ方向）に収容具１０および被測定物１を移動させ（第１３図参照）、しかも、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａ（第１０図を参照）を回転軸として回転させる（直線Ａが実在する部材でなくてもよい）（第１４図参照）。このようにして、被測定物１の、直線Ａに垂直な平面の断面について周知のＣＴ（ｃｏｍｐｕｔｅｒ ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）による測定が可能となる。
第１３図は、Ｘ方向に収容具１０および被測定物１を移動させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１３図（ａ）を参照して、出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０および被測定物１が、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して水平方向（第１３図における下側）に動く。すると、第１３図（ｂ）に示すように、光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１のある部分（第１３図（ａ）とは異なる）と交差する。
なお、出力工程および検出工程が行われている間に、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、収容具１０および被測定物１に対して水平方向（第１３図における上側）に動くようにしても、同様な効果が得られる。テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を動かすためには、テラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４を動かせばよい。
第１４図は、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａを回転軸として回転させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１４図（ａ）を参照して、出力工程が行われる。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、光路Ｐ１からＰ５を進行しながら、包囲部１２および被測定物１を透過する。そして、検出工程が行われる。これにより、被測定物１のある部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。
出力工程および検出工程が行われている間に、被測定物１が、上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａ（第１０図を参照）を回転軸として、回転する（直線Ａが実在する部材でなくてもよい）。例えば、被測定物１が反時計回りに回転する。すると、被測定物１は、第１４図（ｂ）に示すような配置となる。被測定物１における光路Ｐ２と交差する部分が、第１４図（ｂ）の場合と第１４図（ａ）の場合とでは異なる。よって、第１４図（ｂ）の場合と第１４図（ａ）の場合とでは、被測定物１の異なる部分を測定できる。
なお、直線Ａを回転軸として、被測定物１を回転させるためには、固定具１００ａ、１００ｂが、直線Ａを軸として回転すればよい。なお、直線Ａは、底面（固定面）１０２ａ、１０２ｂに垂直な直線である。固定具１００ａ、１００ｂを回転させるためには、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂを回転させればよい。
なお、第１０図を参照して、測定用電磁波の進行方向（光路Ｐ１の方向）は、直線Ａと垂直である。
上記のように、第１０図（ａ）の状態で、収容具１０および被測定物１（またはテラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４）をＸ方向に移動させながら、被測定物１を直線Ａを回転軸として回転させる。それが終了すれば、被測定物１の、Ｚ方向に垂直な平面（第１０図（ａ）における光路Ｐ１を含む平面である）の断面を、周知のＣＴにより測定できる。
さらに、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を、被測定物１に対して上に動かす。すると、第１０図（ｂ）に示すように、光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の上方の部分と交差する。
この状態で、収容具１０および被測定物１（またはテラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４）をＸ方向に移動させながら、被測定物１を直線Ａを回転軸として回転させる。それが終了すれば、被測定物１の、Ｚ方向に垂直な平面（第１０図（ｂ）における光路Ｐ１を含む平面である）の断面を、周知のＣＴにより測定できる。
なお、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を動かすためには、テラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４を動かせばよい。または、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して、被測定物１を上下方向に動かしてもよい。
テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を、被測定物１の端面１ｃと端面１ｄとの間で上下に移動させながら（収容具１０もテラヘルツ波の光路と共に上下させる）、被測定物１の、Ｚ方向に垂直な平面の断面を測定していく。これにより、被測定物１の測定が可能となる。
ここで、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまう場合がある。または、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまう場合がある。
第１５図は、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ａ））、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ｂ））である。
ただし、第１５図においては、収容具１０を透視して、収容具１０の内部の被測定物１、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂを図示している。
第１５図に示すような場合は、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、固定具１００ａまたは固定具１００ｂを透過して、テラヘルツ波検出器４により検出される。
第１６図は、第１５図における収容具１０および固定具１００ａの平面断面図である。ただし、第１５図（ｂ）における収容具１０および固定具１００ａを、Ｚ方向に垂直な平面（第１５図（ｂ）における光路Ｐ１を含む平面である）で、断面をとったものを、第１６図は図示している。しかも、固定具１００ａの屈折率ｎ０が、被測定物１の屈折率ｎ１と等しいものとする。
固定具１００ａの屈折率ｎ０が、被測定物１の屈折率ｎ１と等しいため、テラヘルツ波の光路Ｐ１〜Ｐ５は、第２図と同じものとなる。
なお、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波が固定具１００ｂを透過する場合（第１５図（ａ）に相当する）も、テラヘルツ波の光路は、第１６図（および第２図）と同様なものとなる。ただし、固定具１００ｂの屈折率ｎ０が、被測定物１の屈折率ｎ１と等しいものとする。
なお、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１であれば、固定具１００ａを透過するテラヘルツ波の光路も、固定具１００ｂを透過するテラヘルツ波の光路も、第１６図（および第２図）とほぼ同様なものとなる。
第１７図は、第１５図（ｂ）における固定具１００ａが無いと仮定した場合の比較例における収容具１０の平面断面図である。ただし、第１５図（ｂ）における収容具１０を、Ｚ方向に垂直な平面（第１５図（ｂ）における光路Ｐ１を含む平面である）で、断面をとったものを、第１７図は図示している。ただし、１＜ｎ１＜ｎ２とする。
光路Ｐ１、Ｐ２は、第２図と同様である。しかし、１＜ｎ１であるため、光路Ｐ３’は、光路Ｐ３よりも光軸ＯＡから遠ざかるようになってしまう。光路Ｐ３’を進行したテラヘルツ波は、光路Ｐ４’、光路Ｐ５’を進行し、光軸ＯＡから遠ざかってしまう。この結果、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまう。
これは、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまった場合（第１５図（ｂ）参照）に、もし、固定具１００ａが無ければ、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまうことを意味する。
なお、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまった場合（第１５図（ａ）参照）も、もし、固定具１００ｂが無ければ、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまうことになる。
すると、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍を測定しようとしたときに、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が少しでも、被測定物１からずれてしまえば、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまう。これは、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍の測定には好ましいことではない。
しかし、第四の実施形態によれば、固定具１００ａおよび固定具１００ｂが存在する。よって、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が少し被測定物１からずれても、テラヘルツ波の光路は、第１６図に示すように、第２図と同じものとなる。したがって、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が少し被測定物１からずれても、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができる。これは、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍の測定には好ましい。
なお、被測定物１の側面１ｅは、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていないことは、先に説明した。これは、以下に示すような有利な効果をもたらす。
第１８図は、第１０図において被測定物１の側面１ｅが、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていると仮定した場合の比較例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
この比較例において、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍を測定しようとすれば、固定具１００ａ、１００ｂが側面１ｅを覆っている側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂ（側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂが、被測定物１の側面１ｅを締め付けることにより、被測定物１が固定具１００ａ、１００ｂに固定される）が、収容具１０に衝突する。または、側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂをテラヘルツ波が透過した場合、側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂの存在により、テラヘルツ波の進行方向が変化してしまい、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなる場合がある。
しかし、第四の実施形態によれば、被測定物１の側面１ｅは、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていないので、側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂの収容具１０への衝突およびテラヘルツ波検出器４によりテラヘルツ波を検出することができなくなるといったことを回避できる。
なお、第四の実施形態においては、被測定物１の一部が、収容具１０の空隙部１１に収容されている例を説明した（第１０図参照）。しかし、被測定物１の全てが、収容具１０の空隙部１１に収容されていてもよい。
第１９図は、第四の実施形態の変形例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。ただし、第１９図においては、収容具１０を透視して、収容具１０の内部の被測定物１、固定具１００ａ、１００ｂを図示している。
被測定物１は円筒形であり、被測定物１の全部が、収容具１０の空隙部１１に収容されている。
第１９図に示す第四の実施形態の変形例においては、収容具１０および被測定物１が、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して上下方向に動く。または、収容具１０および被測定物１に対して、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が上下方向に動くようにしてもよい。
なお、第四の実施形態においては、収容具１０と共に固定具１００ａ、１００ｂを使用する例を説明してきた。ただし、収容具１０を用いないで、固定具１００ａ、１００ｂを使用することも一応可能である。
また、第四の実施形態においては、被測定物１を立たせて測定しているが、被測定物１の姿勢は、立位に限定されない。例えば、被測定物１を水平に寝かせてもかまわない。
第一の実施形態
第１図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第１図（ａ））、左側面図（第１図（ｂ））、右側面図（第１図（ｃ））である。第２図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第２図を参照して、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）は、テラヘルツ波出力器２、テラヘルツ波検出器４を有する。テラヘルツ波出力器２は、被測定物１に向けて、テラヘルツ波を出力する。テラヘルツ波検出器４は、被測定物１および収容具１０を透過したテラヘルツ波を検出する。
なお、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）は、出力および検出する測定用電磁波として、上記のようにテラヘルツ波（周波数が例えば、０．０３［ＴＨｚ］以上１０［ＴＨｚ］以下）を採用している。しかし、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が出力および検出する測定用電磁波は、テラヘルツ波に限らず、周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の電磁波であればよい。
被測定物１は、測定用電磁波が照射されることにより、測定される。
収容具１０は、テラヘルツ波測定装置により測定される被測定物１の少なくとも一部を収容する。なお、収容具１０は、被測定物１の一部を収容している場合（第１０図参照）もあれば、被測定物１の全部を収容している場合（第１９図参照）もある。
収容具１０は、空隙部１１、包囲部１２を有する。空隙部１１は、上から見れば、半径ｒ０の円形の隙間である（第１図参照）。被測定物１の少なくとも一部が空隙部１１の内部に配置される（第２図参照）。
包囲部１２は、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とを有する。第一曲面部分Ｓ１は、半径ｒ１の円筒面（底面が半径ｒ１の円である円筒の側面の一部分）である。第二曲面部分Ｓ２は、半径ｒ２の円筒面（底面が半径ｒ２の円である円筒の側面の一部分）である。なお、平面図（第１図（ａ））においては、空隙部１１が半径ｒ０の円、第一曲面部分Ｓ１が半径ｒ１（＞ｒ０）の円弧、第二曲面部分Ｓ２が半径ｒ２（＝ｒ１）の円弧として図示されている。これらの円および円弧の中心は、いずれも収容具１０の光軸ＯＡの上にある。平面図（第１図（ａ））において、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧の中心と、第二曲面部分Ｓ２を表す円弧の中心とは点対称であり、その対象の中心が空隙部１１を表す円の中心である。また、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧および第二曲面部分Ｓ２を表す円弧が線対称である。
なお、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とが円筒面であると説明したが、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の一方または双方が非円筒面であることも考えられる。これは、他の実施形態でも同様である。
第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２との間に空隙部１１が配置されている。包囲部１２は、空隙部１１を包囲する。ここで、被測定物１の屈折率をｎ１とし、包囲部１２の屈折率をｎ２とする。すると、ｎ１＜ｎ２である。しかも、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とが、共に凸面である。また、ｎ１およびｎ２は、収容具１０の周囲の空気の屈折率（例えば、１）と等しくなくてもよい。
なお、包囲部１２の材料は、テフロン（登録商標）やポリエチレン等の樹脂材料でもよい。これらの樹脂材料は、可視光または赤外光領域の光線による測定では通常使用できない。しかし、これらの樹脂材料は、テラヘルツ波の光線の吸収や散乱が少ない為に、テラヘルツ波による測定では使用可能である。
第３図は、収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容されたときの、被測定物１および空隙部１１の拡大平面図である。被測定物１の平面形状（上から見たときの形状および平面断面）の輪郭と、空隙部１１の平面形状（上から見たときの形状および平面断面）の輪郭との距離をｇとする。すると、被測定物１の平面形状は、半径ｒ−ｇの円である。よって、被測定物１は、底面が半径ｒ−ｇの円である円柱である。
なお、ｇ≦λ／４であることが好ましい。ただし、λは、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の波長である。ｇ≦λ／４であれば、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層によるテラヘルツ波の反射を抑制できる。テラヘルツ波の反射はテラヘルツ波の損失につながるので、ｇ≦λ／４とすることはテラヘルツ波の損失の抑制につながる。
なお、第２図を参照して、第一曲面部分Ｓ１の光軸ＯＡが、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向（光路Ｐ１）と平行になるようにする。テラヘルツ波測定装置による被測定物１の測定を行うために、上記のように収容具１０を配置する。
また、包囲部１２は、端部に（第１図（ａ）において上下）、端部平面Ｅ１１、Ｅ１２（第一曲面部分Ｓ１側）、端部平面Ｅ２１、Ｅ２２（第二曲面部分Ｓ２側）を有する。端部平面Ｅ１１、Ｅ１２と、端部平面Ｅ２１、Ｅ２２とは平行であり、光軸ＯＡと直交する。よって、光軸ＯＡと平行である光路Ｐ１を進行したテラヘルツ波が、端部平面Ｅ１１（またはＥ１２）に入射しても、そのまま包囲部１２内を直進して（被測定物１に入射されない）、端部平面Ｅ２１（またはＥ２２）から出射される。
次に、第一の実施形態の動作を説明する。
第２図を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２によりテラヘルツ波が出力される。テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波（光路Ｐ１）は、第一曲面部分Ｓ１に照射される。ここで、テラヘルツ波は屈折して、包囲部１２内の光路Ｐ２を進行する。ここで、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層の厚さは薄いので無視する。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、被測定物１内の光路Ｐ３を進行する。なお、光路Ｐ３は、光路Ｐ１および光軸ＯＡとほぼ平行である。
第４図は、本発明の第一の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。ただし、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との間の隙間は無視し、空隙部１１を図示省略している。
第４図を参照して、光路Ｐ１を進行したテラヘルツ波は、第一曲面部分Ｓ１に入射されると、包囲部１２が凸レンズの機能を果たして、テラヘルツ波は光軸ＯＡに向かうように屈折する。第４図においては、テラヘルツ波が下側に進行する（光路Ｐ２）。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、光路Ｐ３を進行する。
ここで、テラヘルツ波の被測定物１への入射角をθＡ、出射角をθＢとする。スネルの法則により、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＝ｎ１／ｎ２である。しかも、ｎ１＜ｎ２であるため、ｎ１／ｎ２＜１である。よって、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＜１である。したがって、θＡ＜θＢである。よって、光路Ｐ３は、光路Ｐ２を直進させたものよりも、光軸ＯＡから遠ざかるようになる。ここで、ｎ２などを適宜設定すると、光路Ｐ３は光軸ＯＡとほぼ平行になる。
第２図に戻り、被測定物１内の光路Ｐ３を進行したテラヘルツ波は、包囲部１２に入射して屈折し、包囲部１２内の光路Ｐ４を進行する。光路Ｐ４を進行したテラヘルツ波は、第二曲面部分Ｓ２に入射して屈折し、光路Ｐ５を進行して、テラヘルツ波検出器４に入射される。
第１図（ａ）において、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧および第二曲面部分Ｓ２を表す円弧が線対称であることから、光路Ｐ２は光路Ｐ４とほぼ線対称、光路Ｐ１は光路Ｐ５とほぼ線対称となる。よって、光路Ｐ５は光路Ｐ１のほぼ延長線上にある。
テラヘルツ波検出器４は、入射されたテラヘルツ波を検出する。これにより、被測定物１が測定される。例えば、被測定物１は内容物１ａ、１ｂを有する。第２図によれば、テラヘルツ波は内容物１ａを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ａの位置などが判明する。
第一の実施形態によれば、テラヘルツ波を被測定物１に与えて測定する際に、テラヘルツ波が被測定物１により屈折はするものの、収容具１０によって、光路Ｐ５は光路Ｐ１のほぼ延長線上にある。このため、テラヘルツ波検出器４に入射されるテラヘルツ波は、収容具１０が無く、かつ、被測定物１による屈折がほぼ無い場合と同様なものとなる。よって、テラヘルツ波が被測定物１により屈折することに起因する悪影響を抑制できる。
第二の実施形態
第二の実施形態にかかる収容具１０は、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の形状（凹面）が第一の実施形態にかかる収容具１０の形状（凸面）と異なる。
第５図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第５図（ａ））、左側面図（第５図（ｂ））、右側面図（第５図（ｃ））である。第６図は、本発明の第二の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。以下、第一の実施形態と同様な部分は同一の番号を付して説明を省略する。
テラヘルツ波測定装置は、第一の実施形態と同様であり説明を省略する。
収容具１０は、テラヘルツ波測定装置により測定される被測定物１の少なくとも一部を収容する。なお、収容具１０は、被測定物１の一部を収容している場合（第１０図参照）もあれば、被測定物１の全部を収容している場合（第１９図参照）もある。
収容具１０は、空隙部１１、包囲部１２を有する。空隙部１１は、第一の実施形態と同様であり説明を省略する。
包囲部１２は、第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とを有する。包囲部１２は、第一の実施形態と同様である。ただし、第二の実施形態にかかる第一曲面部分Ｓ１と第二曲面部分Ｓ２とは、共に凹面である。ただし、被測定物１の屈折率をｎ１とし、包囲部１２の屈折率をｎ２とすると、ｎ１＞ｎ２であるものとする。
次に、第二の実施形態の動作を説明する。
第６図を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２によりテラヘルツ波が出力される。テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波（光路Ｐ１）は、第一曲面部分Ｓ１に照射される。ここで、テラヘルツ波は屈折して、包囲部１２内の光路Ｐ２を進行する。ここで、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層の厚さは薄いので無視する。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、被測定物１内の光路Ｐ３を進行する。なお、光路Ｐ３は、光路Ｐ１および光軸ＯＡとほぼ平行である。
第７図は、本発明の第二の実施形態にかかる光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の近傍を拡大した収容具１０の平面図である。ただし、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との間の隙間は無視し、空隙部１１を図示省略している。
第７図を参照して、光路Ｐ１を進行したテラヘルツ波は、第一曲面部分Ｓ１に入射されると、包囲部１２が凹レンズの機能を果たして、テラヘルツ波は光軸ＯＡから遠ざかるように屈折する。第７図においては、テラヘルツ波が上側に進行する（光路Ｐ２）。光路Ｐ２を進行したテラヘルツ波は、被測定物１に入射されて屈折し、光路Ｐ３を進行する。
ここで、テラヘルツ波の被測定物１への入射角をθＡ、出射角をθＢとする。スネルの法則により、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＝ｎ１／ｎ２である。しかも、ｎ１＞ｎ２であるため、ｎ１／ｎ２＞１である。よって、（ｓｉｎθＡ）／（ｓｉｎθＢ）＞１である。したがって、θＡ＞θＢである。よって、光路Ｐ３は、光路Ｐ２を直進させたものよりも、光軸ＯＡに近づくようになる。ここで、ｎ２などを適宜設定すると、光路Ｐ３は光軸ＯＡとほぼ平行になる。
第６図に戻り、被測定物１内の光路Ｐ３を進行したテラヘルツ波は、包囲部１２に入射して屈折し、包囲部１２内の光路Ｐ４を進行する。光路Ｐ４を進行したテラヘルツ波は、第二曲面部分Ｓ２に入射して屈折し、光路Ｐ５を進行して、テラヘルツ波検出器４に入射される。
第６図において、第一曲面部分Ｓ１を表す円弧および第二曲面部分Ｓ２を表す円弧が線対称であることから、光路Ｐ２は光路Ｐ４とほぼ線対称、光路Ｐ１は光路Ｐ５とほぼ線対称となる。よって、光路Ｐ５は光路Ｐ１のほぼ延長線上にある。
テラヘルツ波検出器４は、入射されたテラヘルツ波を検出する。これにより、被測定物１が測定される。例えば、被測定物１は内容物１ａ、１ｂを有する。第２図によれば、テラヘルツ波は内容物１ａを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ａの位置などが判明する。
第二の実施形態によれば、第一の実施形態と同様な効果を奏する。
第三の実施形態
本発明の第三の実施形態にかかる収容具１０は、おおむね、第一および第二の実施形態にかかる収容具１０における包囲部１２ａ、１２ｂの形状を互いに異ならせたものに相当する。
第８図は、本発明の第三の実施形態にかかる収容具１０の平面図である。ただし、第８図（ａ）は、ｎ２ａ＞ｎ１かつｎ２ｂ＞ｎ１の場合の収容具１０の平面図である。第８図（ｂ）は、ｎ２ａ＜ｎ１かつｎ２ｂ＜ｎ１の場合の収容具１０の平面図である。
テラヘルツ波測定装置は、第一の実施形態と同様であり説明を省略する。なお、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が出力および検出する測定用電磁波が、テラヘルツ波に限らず、周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の電磁波であればよいことも、第一の実施形態と同様である。
収容具１０は、テラヘルツ波測定装置により測定される被測定物１の少なくとも一部を収容する。なお、収容具１０は、被測定物１の一部を収容している場合（第１０図参照）もあれば、被測定物１の全部を収容している場合（第１９図参照）もある。
収容具１０は、第一被覆部１３ａ、第二被覆部１３ｂを備える。第一被覆部１３ａおよび第二被覆部１３ｂの材料は、包囲部１２の材料と同じものでよい。
第一被覆部１３ａの屈折率はｎ２ａである。第一被覆部１３ａは、第一曲面部分Ｓ１（第一および第二の実施形態と同様）と、第一凹面部分１１ａを有する。第一曲面部分Ｓ１は、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波を受ける。第一凹面部分１１ａは、第一曲面部分Ｓ１よりも被測定物１に近く、テラヘルツ波が透過する。
ここで、ｎ２ａがｎ１（被測定物１の屈折率）よりも大きい場合は、第８図（ａ）を参照して、第一曲面部分Ｓ１が凸面である。第一曲面部分Ｓ１の具体的な形状は、第一の実施形態と同様である。
ｎ２ａがｎ１よりも小さい場合は、第８図（ｂ）を参照して、第一曲面部分Ｓ１が凹面である。第一曲面部分Ｓ１の具体的な形状は、第二の実施形態と同様である。
第二被覆部１３ｂの屈折率はｎ２ｂである。第二被覆部１３ｂは、第二曲面部分Ｓ２（第一および第二の実施形態と同様）と、第二凹面部分１１ｂを有する。第二凹面部分１１ｂは、被測定物１を透過したテラヘルツ波を受ける。第二曲面部分Ｓ２は、第二凹面部分１１ｂよりも被測定物１から遠く、テラヘルツ波が透過する。
ここで、ｎ２ｂがｎ１よりも大きい場合は、第８図（ａ）を参照して、第二曲面部分Ｓ２が凸面である。第二曲面部分Ｓ２の具体的な形状は、第一の実施形態と同様である。
ｎ２ｂがｎ１よりも小さい場合は、第８図（ｂ）を参照して、第二曲面部分Ｓ２が凹面である。第二曲面部分Ｓ２の具体的な形状は、第二の実施形態と同様である。
なお、ｎ２ａとｎ２ｂとは異なる。しかも、第一曲面部分Ｓ１の平面形状の曲率半径と、第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径とは異なる。第８図においては、第一曲面部分Ｓ１の平面形状の曲率半径よりも、第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径の方が大きい。
しかも、第一凹面部分１１ａおよび第二凹面部分１１ｂの平面形状の輪郭は円弧である。第一凹面部分１１ａおよび第二凹面部分１１ｂの平面形状の輪郭と、被測定物１の平面形状の輪郭との距離ｇ１とする。ｇ１≦λ／４であることが好ましいことは、第一の実施形態（第３図参照）と同様である。
なお、第一曲面部分Ｓ１の光軸ＯＡ（第２図と同様なので、図示省略）が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向（光路Ｐ１）と平行になるようにすることも、第一の実施形態（第２図参照）と同様である。
次に、第三の実施形態の動作を説明する。
第８図（ａ）に示す収容具１０によれば、テラヘルツ波は、第一の実施形態と同様な光路を進行する。ただし、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径と、ｎ２ａとｎ２ｂとを適宜設定して、光路Ｐ５が光路Ｐ１のほぼ延長線上にあるようにする。
第８図（ｂ）に示す収容具１０によれば、テラヘルツ波は、第二の実施形態と同様な光路を進行する。ただし、第一曲面部分Ｓ１および第二曲面部分Ｓ２の平面形状の曲率半径と、ｎ２ａとｎ２ｂとを適宜設定して、光路Ｐ５が光路Ｐ１のほぼ延長線上にあるようにする。
第三の実施形態によれば、第一の実施形態と同様な効果を奏する。
なお、第三の実施形態として、ｎ１＜ｎ２ａかつｎ１＜ｎ２ｂの場合（第８図（ａ）参照）と、ｎ１＞ｎ２ａかつｎ１＞ｎ２ｂの場合（第８図（ｂ）参照）を説明した。しかし、ｎ１＜ｎ２ａかつｎ１＞ｎ２ｂの場合と、ｎ１＞ｎ２ａかつｎ１＜ｎ２ｂの場合とが考えられる。
第９図は、第三の実施形態の変形例を示す図である。ただし、第９図（ａ）は、ｎ１＜ｎ２ａかつｎ１＞ｎ２ｂの場合の収容具１０の平面図である。第９図（ｂ）は、ｎ１＞ｎ２ａかつｎ１＜ｎ２ｂの場合の収容具１０の平面図である。
第９図（ａ）においては、第一曲面部分Ｓ１が凸面であり、かつ、第二曲面部分Ｓ２が凹面である。光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は第一の実施形態と同様となり（第２図参照）、光路Ｐ４、Ｐ５は第二の実施形態と同様となる（第６図参照）。光路Ｐ５は、光路Ｐ１の延長線上ではなくなるが、光路Ｐ５と光路Ｐ１とをほぼ平行にできる。
第９図（ｂ）においては、第一曲面部分Ｓ１が凹面であり、かつ、第二曲面部分Ｓ２が凸面である。光路Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は第二の実施形態と同様となり（第６図参照）、光路Ｐ４、Ｐ５は第一の実施形態と同様となる（第２図参照）。光路Ｐ５は、光路Ｐ１の延長線上ではなくなるが、光路Ｐ５と光路Ｐ１とをほぼ平行にできる。
第四の実施形態
第四の実施形態は、固定具１００ａ、１００ｂに被測定物１を固定して、被測定物１を固定具１００ａ、１００ｂごと回転させながら、被測定物１を走査するものである。
第１０図は、第四の実施形態にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。第四の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一から第三の実施形態とほぼ同様である。ただし、被測定物１は円筒形であり、被測定物１の一部が、収容具１０の空隙部１１に収容されている。
ただし、第１０図においては、第一の実施形態にかかる収容具１０を、固定具１００ａ、１００ｂとともに使用する態様を図示している。しかし、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を、固定具１００ａ、１００ｂとともに使用することも可能である。なお、第１１図〜第１９図においても同様である。
固定具１００ａ、１００ｂの屈折率をｎ０とし、被測定物１の屈折率をｎ１としたときに、ｎ０＝ｎ１である。ただし、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１であれば、固定具１００ａ、１００ｂとしての効果（第１６図参照）を奏する。
円筒形の被測定物１は、端面１ｃ、１ｄ（第１１図、第１２図参照）、側面１ｅを有する。側面１ｅは、端面１ｃおよび端面１ｄの間にある曲面である。側面１ｅは、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていない。
第１１図は、固定具１００ａの正面図（第１１図（ａ））、底面図（第１１図（ｂ））、被測定物１の平面図（第１１図（ｃ））、正面図（第１１図（ｄ））である。第１２図は、被測定物１の正面図（第１２図（ａ））、底面図（第１２図（ｂ））、固定具１００ｂの平面図（第１２図（ｃ））、正面図（第１２図（ｄ））である。
第１１図を参照して、固定具１００ａは円筒形であり、その底面（固定面）１０２ａは円形である。被測定物１の上方の端面１ｃもまた円形である。底面（固定面）１０２ａと、端面１ｃとは同じ形状である。
第１２図を参照して、固定具１００ｂは円筒形であり、その上方の底面（固定面）１０２ｂは円形である。被測定物１の下方の端面１ｄもまた円形である。上方の底面（固定面）１０２ｂと、端面１ｄとは同じ形状である。
なお、端面１ｃと端面１ｄとは互いに平行である。
ここで、第１０図から第１２図を参照して、被測定物１の上方の端面１ｃが、固定具１００ａの底面（固定面）１０２ａに固定される。被測定物１の下方の端面１ｄが、固定具１００ｂの上方の底面（固定面）１０２ｂに固定される。
二つの端面１ｃ、１ｄの各々に、二つの固定具１００ａ、１００ｂの各々が押圧される。すなわち、端面１ｃに固定具１００ａ（の底面１０２ａ）が押圧され、端面１ｄに固定具１００ｂ（の上方の底面１０２ｂ）が押圧される。
このような押圧により、被測定物１は、固定具１００ａ、１００ｂから見て、上下方向に移動しない。しかも、端面１ｃ、１ｄと、底面１０２ａ、１０２ｂとの摩擦力により、被測定物１は、固定具１００ａ、１００ｂから見て、上下方向とは垂直な方向にも移動しない。すなわち、端面１ｃ、１ｄが、底面１０２ａ、１０２ｂに固定される。
ただし、端面１ｃ、１ｄの一方または双方と、底面１０２ａ、１０２ｂの一方または双方とを（例えば、周知の接着剤により）接着することで、端面が固定面に固定されるようにしてもよい。
ロータリーアクチュエータ１１０ａは、固定具１００ａを介して、被測定物１に接続される。ロータリーアクチュエータ１１０ａは、底面１０２ａに垂直な直線Ａを軸として回転する。
ロータリーアクチュエータ１１０ｂは、固定具１００ｂを介して、被測定物１に接続される。ロータリーアクチュエータ１１０ｂは、底面１０２ｂに垂直な直線Ａを軸として回転する。
なお、底面１０２ａと、底面１０２ｂとは平行であるものとする。
次に、第四の実施形態の動作を説明する。
第１０図（ａ）を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２により、テラヘルツ波が出力される（以下、「出力工程」という）。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、光路Ｐ１からＰ５を進行しながら、包囲部１２および被測定物１を透過して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波検出器４により検出される（以下、「検出工程」という）。これにより、被測定物１がテラヘルツ波測定装置によって測定される。
第１０図（ａ）に示すように、テラヘルツ波測定装置および被測定物１のＺ座標（ただし、Ｚ方向は上下方向）を固定しておきながら、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して水平方向（Ｘ方向）に収容具１０および被測定物１を移動させ（第１３図参照）、しかも、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａ（第１０図を参照）を回転軸として回転させる（直線Ａが実在する部材でなくてもよい）（第１４図参照）。このようにして、被測定物１の、直線Ａに垂直な平面の断面について周知のＣＴ（ｃｏｍｐｕｔｅｒ ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）による測定が可能となる。
第１３図は、Ｘ方向に収容具１０および被測定物１を移動させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１３図（ａ）を参照して、出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０および被測定物１が、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して水平方向（第１３図における下側）に動く。すると、第１３図（ｂ）に示すように、光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１のある部分（第１３図（ａ）とは異なる）と交差する。
なお、出力工程および検出工程が行われている間に、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、収容具１０および被測定物１に対して水平方向（第１３図における上側）に動くようにしても、同様な効果が得られる。テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を動かすためには、テラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４を動かせばよい。
第１４図は、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａを回転軸として回転させたときの、収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１４図（ａ）を参照して、出力工程が行われる。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、光路Ｐ１からＰ５を進行しながら、包囲部１２および被測定物１を透過する。そして、検出工程が行われる。これにより、被測定物１のある部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。
出力工程および検出工程が行われている間に、被測定物１が、上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａ（第１０図を参照）を回転軸として、回転する（直線Ａが実在する部材でなくてもよい）。例えば、被測定物１が反時計回りに回転する。すると、被測定物１は、第１４図（ｂ）に示すような配置となる。被測定物１における光路Ｐ２と交差する部分が、第１４図（ｂ）の場合と第１４図（ａ）の場合とでは異なる。よって、第１４図（ｂ）の場合と第１４図（ａ）の場合とでは、被測定物１の異なる部分を測定できる。
なお、直線Ａを回転軸として、被測定物１を回転させるためには、固定具１００ａ、１００ｂが、直線Ａを軸として回転すればよい。なお、直線Ａは、底面（固定面）１０２ａ、１０２ｂに垂直な直線である。固定具１００ａ、１００ｂを回転させるためには、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂを回転させればよい。
なお、第１０図を参照して、測定用電磁波の進行方向（光路Ｐ１の方向）は、直線Ａと垂直である。
上記のように、第１０図（ａ）の状態で、収容具１０および被測定物１（またはテラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４）をＸ方向に移動させながら、被測定物１を直線Ａを回転軸として回転させる。それが終了すれば、被測定物１の、Ｚ方向に垂直な平面（第１０図（ａ）における光路Ｐ１を含む平面である）の断面を、周知のＣＴにより測定できる。
さらに、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を、被測定物１に対して上に動かす。すると、第１０図（ｂ）に示すように、光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の上方の部分と交差する。
この状態で、収容具１０および被測定物１（またはテラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４）をＸ方向に移動させながら、被測定物１を直線Ａを回転軸として回転させる。それが終了すれば、被測定物１の、Ｚ方向に垂直な平面（第１０図（ｂ）における光路Ｐ１を含む平面である）の断面を、周知のＣＴにより測定できる。
なお、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を動かすためには、テラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４を動かせばよい。または、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して、被測定物１を上下方向に動かしてもよい。
テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５を、被測定物１の端面１ｃと端面１ｄとの間で上下に移動させながら（収容具１０もテラヘルツ波の光路と共に上下させる）、被測定物１の、Ｚ方向に垂直な平面の断面を測定していく。これにより、被測定物１の測定が可能となる。
ここで、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまう場合がある。または、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまう場合がある。
第１５図は、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ａ））、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまう場合の収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図（第１５図（ｂ））である。
ただし、第１５図においては、収容具１０を透視して、収容具１０の内部の被測定物１、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂを図示している。
第１５図に示すような場合は、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、固定具１００ａまたは固定具１００ｂを透過して、テラヘルツ波検出器４により検出される。
第１６図は、第１５図における収容具１０および固定具１００ａの平面断面図である。ただし、第１５図（ｂ）における収容具１０および固定具１００ａを、Ｚ方向に垂直な平面（第１５図（ｂ）における光路Ｐ１を含む平面である）で、断面をとったものを、第１６図は図示している。しかも、固定具１００ａの屈折率ｎ０が、被測定物１の屈折率ｎ１と等しいものとする。
固定具１００ａの屈折率ｎ０が、被測定物１の屈折率ｎ１と等しいため、テラヘルツ波の光路Ｐ１〜Ｐ５は、第２図と同じものとなる。
なお、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波が固定具１００ｂを透過する場合（第１５図（ａ）に相当する）も、テラヘルツ波の光路は、第１６図（および第２図）と同様なものとなる。ただし、固定具１００ｂの屈折率ｎ０が、被測定物１の屈折率ｎ１と等しいものとする。
なお、ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１であれば、固定具１００ａを透過するテラヘルツ波の光路も、固定具１００ｂを透過するテラヘルツ波の光路も、第１６図（および第２図）とほぼ同様なものとなる。
第１７図は、第１５図（ｂ）における固定具１００ａが無いと仮定した場合の比較例における収容具１０の平面断面図である。ただし、第１５図（ｂ）における収容具１０を、Ｚ方向に垂直な平面（第１５図（ｂ）における光路Ｐ１を含む平面である）で、断面をとったものを、第１７図は図示している。ただし、１＜ｎ１＜ｎ２とする。
光路Ｐ１、Ｐ２は、第２図と同様である。しかし、１＜ｎ１であるため、光路Ｐ３’は、光路Ｐ３よりも光軸ＯＡから遠ざかるようになってしまう。光路Ｐ３’を進行したテラヘルツ波は、光路Ｐ４’、光路Ｐ５’を進行し、光軸ＯＡから遠ざかってしまう。この結果、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまう。
これは、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｃよりも少し上に移動してしまった場合（第１５図（ｂ）参照）に、もし、固定具１００ａが無ければ、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまうことを意味する。
なお、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が、被測定物１の端面１ｄよりも少し下に移動してしまった場合（第１５図（ａ）参照）も、もし、固定具１００ｂが無ければ、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまうことになる。
すると、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍を測定しようとしたときに、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が少しでも、被測定物１からずれてしまえば、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなってしまう。これは、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍の測定には好ましいことではない。
しかし、第四の実施形態によれば、固定具１００ａおよび固定具１００ｂが存在する。よって、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が少し被測定物１からずれても、テラヘルツ波の光路は、第１６図に示すように、第２図と同じものとなる。したがって、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が少し被測定物１からずれても、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができる。これは、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍の測定には好ましい。
なお、被測定物１の側面１ｅは、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていないことは、先に説明した。これは、以下に示すような有利な効果をもたらす。
第１８図は、第１０図において被測定物１の側面１ｅが、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていると仮定した場合の比較例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
この比較例において、被測定物１の端面１ｃおよび端面１ｄの近傍を測定しようとすれば、固定具１００ａ、１００ｂが側面１ｅを覆っている側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂ（側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂが、被測定物１の側面１ｅを締め付けることにより、被測定物１が固定具１００ａ、１００ｂに固定される）が、収容具１０に衝突する。または、側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂをテラヘルツ波が透過した場合、側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂの存在により、テラヘルツ波の進行方向が変化してしまい、テラヘルツ波をテラヘルツ波検出器４により検出することができなくなる場合がある。
しかし、第四の実施形態によれば、被測定物１の側面１ｅは、固定具１００ａ、１００ｂにより覆われていないので、側面覆い部分１０４ａ、１０４ｂの収容具１０への衝突およびテラヘルツ波検出器４によりテラヘルツ波を検出することができなくなるといったことを回避できる。
なお、第四の実施形態においては、被測定物１の一部が、収容具１０の空隙部１１に収容されている例を説明した（第１０図参照）。しかし、被測定物１の全てが、収容具１０の空隙部１１に収容されていてもよい。
第１９図は、第四の実施形態の変形例にかかる収容具１０、固定具１００ａ、１００ｂ、ロータリーアクチュエータ１１０ａ、１１０ｂおよびテラヘルツ波測定装置の正面図である。ただし、第１９図においては、収容具１０を透視して、収容具１０の内部の被測定物１、固定具１００ａ、１００ｂを図示している。
被測定物１は円筒形であり、被測定物１の全部が、収容具１０の空隙部１１に収容されている。
第１９図に示す第四の実施形態の変形例においては、収容具１０および被測定物１が、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５に対して上下方向に動く。または、収容具１０および被測定物１に対して、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ５が上下方向に動くようにしてもよい。
なお、第四の実施形態においては、収容具１０と共に固定具１００ａ、１００ｂを使用する例を説明してきた。ただし、収容具１０を用いないで、固定具１００ａ、１００ｂを使用することも一応可能である。
また、第四の実施形態においては、被測定物１を立たせて測定しているが、被測定物１の姿勢は、立位に限定されない。例えば、被測定物１を水平に寝かせてもかまわない。
Claims (13)
- ０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の測定用電磁波が照射されることにより測定される被測定物の端面と同じ形状の固定面を有する固定具であって、
前記端面が前記固定面に固定され、
前記固定具の屈折率をｎ０、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、
ｎ１−０．１≦ｎ０≦ｎ１＋０．１
であり、
前記固定具が、前記被測定物の側面を覆わない、
固定具。 - 請求項１に記載の固定具であって、
前記固定具が、前記固定面に垂直な直線を軸として回転する、
固定具。 - 請求項２に記載の固定具であって、
前記測定用電磁波の進行方向が、前記直線と垂直である、
固定具。 - 請求項１に記載の固定具であって、
前記端面に前記固定面が押圧されることにより、
前記端面が前記固定面に固定される、
固定具。 - 請求項４に記載の固定具であって、
前記固定具は、二つあり、
前記被測定物は、互いに平行な二つの端面を有し、
前記二つの端面の各々に、二つの前記固定具の各々が押圧される、
固定具。 - 請求項１に記載の固定具であって、
前記端面に前記固定面が接着されることにより、
前記端面が前記固定面に固定される、
固定具。 - 請求項１ないし６のいずれか一項に記載の固定具であって、
前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、
前記収容具が、
前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される空隙部と、
第一曲面部分と第二曲面部分とを有し、前記第一曲面部分と前記第二曲面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する包囲部と、
を備え、
前記包囲部の屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、
ｎ２がｎ１よりも大きく、
前記第一曲面部分および前記第二曲面部分は、共に凸面である、
固定具。 - 請求項１ないし６のいずれか一項に記載の固定具であって、
前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、
前記収容具が、
前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される空隙部と、
第一曲面部分と第二曲面部分とを有し、前記第一曲面部分と前記第二曲面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する包囲部と、
を備え、
前記包囲部の屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、
ｎ２がｎ１よりも小さく、
前記第一曲面部分および前記第二曲面部分は、共に凹面である、
固定具。 - 請求項７または８に記載の固定具であって、
前記収容具の前記空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含む、
固定具。 - 請求項１ないし６のいずれか一項に記載の固定具であって、
前記被測定物の少なくとも一部が、収容具に収容され、
前記収容具が、
前記測定用電磁波を受ける第一曲面部分と、該第一曲面部分よりも前記被測定物に近く前記測定用電磁波が透過する第一凹面部分とを有し、屈折率がｎ２ａである第一被覆部と、
前記被測定物を透過した前記測定用電磁波を受ける第二凹面部分と、該第二凹面部分よりも前記被測定物から遠く前記測定用電磁波が透過する第二曲面部分とを有し、屈折率がｎ２ｂである第二被覆部と、
を備え、
前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、
ｎ２ａがｎ１よりも大きい場合は、前記第一曲面部分が凸面であり、
ｎ２ａがｎ１よりも小さい場合は、前記第一曲面部分が凹面であり、
ｎ２ｂがｎ１よりも大きい場合は、前記第二曲面部分が凸面であり、
ｎ２ｂがｎ１よりも小さい場合は、前記第二曲面部分が凹面である、
固定具。 - 請求項１０に記載の固定具であって、
前記収容具のｎ２ａとｎ２ｂとは異なる固定具。 - 請求項１０に記載の固定具であって、
前記収容具において、前記第一曲面部分の平面形状の曲率半径と、前記第二曲面部分の平面形状の曲率半径とは異なる固定具。 - 請求項１０に記載の固定具であって、
前記収容具の前記第一凹面部分および前記第二凹面部分の平面形状の輪郭が、円弧を含む、
固定具。
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