JP5366319B2 - デテント脱進機およびそれを有する機械式時計 - Google Patents

Description

本発明は、デテント脱進機と、デテント脱進機を有する機械式時計に関するものである。特に、本発明は、てんぷのエネルギー損失を低減しつつ薄型化を図ることができるように構成したデテント脱進機と、このような新規なデテント脱進機を有する機械式時計に関する。

古くから機械式時計の脱進機の１つのタイプとして「デテント脱進機」（クロノメータ脱進機）が知られている。デテント脱進機の代表的な機構形態として、スプリング型デテント脱進機（Spring Detent Escapement）と、ピボット型デテント脱進機（Pivoted Detent Escapement）とが従来から広く知られている（例えば、下記非特許文献１参照）。

図３２を参照すると、従来のスプリング型デテント脱進機８００は、がんぎ車８１０と、てんぷ８２０と、デテントレバー８４０と、板状ばねで構成された復帰ばね８３０とを備えている。振り石８１２が、てんぷ８２０の大つばに固定されている。止め石８３２が、デテントレバー８４０に固定されている。

図３３を参照すると、従来のピボット型デテント脱進機９００は、がんぎ車９１０と、てんぷ９２０と、デテントレバー９３０と、螺旋ばね（渦巻きばね）で構成された復帰ばね９４０とを備えている。振り石９１２が、てんぷ９２０の大つばに固定されている。止め石９３２が、デテントレバー９３０に固定されている。

これらの２つのタイプの脱進機に共通する特徴として、現在広く普及しているクラブツースレバー型脱進機と異なり、がんぎ車から直接的に、てんぷに動力を伝達するため、脱進機における動力（伝達トルク）の損失を小さくすることができるという利点を挙げることができる。

従来の第一タイプのデテント脱進機は、デテントレバーと、螺旋ばね（渦巻きばね）と、板状ばねとを備えている（例えば、下記特許文献１参照）。

従来の第二タイプのデテント脱進機は、第１フィンガ（１４）を担持する大ローラ（４）と、第２フィンガ（１１）と停止ツメ石（７）を担持する制止部材（６）と、制止部材（６）の位置制御を行う小ローラ（２３）とを備えている。このデテント脱進機は戻しばねを備えていない（例えば、下記特許文献２参照）。

従来の第三タイプのデテント脱進機は、ガンギ車（１）と、テンプと、停止つめ（２１）を支持するデテント（１１）と、テンプに固定された制限プレート（５）を備えている。このデテント脱進機は、内端がデテント（１１）と統合されたテンプばね（１２）を備えている（例えば、下記特許文献３参照）。

従来のアンクル、がんぎ車などの電鋳部品を製造する方法においては、マスクを有する基板にエッチング穴を形成する工程と、軸部品の下軸部の先端を含む下軸部の部分を基板のエッチング穴に挿入する工程と、軸部品の一部を挿入した基板に対して電鋳加工を行い、軸部品と一体に電鋳金属部を形成する工程とを含んでいる（例えば、下記特許文献４〜７参照）。

スイス特許第ＣＨ３２９９号公報（第１〜２頁、図１、図２） 特開２００５−１８１３１８号公報（第４〜７頁、図１〜図３） 特表２００９−５１０４２５号公報（第５〜７頁、図１） 特開２００５−１８１３１８号公報（要約、第７〜８頁、図１） 特開２００６−１６９６２０号公報（要約、第５〜８頁、図１） 特開２００７−７０６７８号公報（要約、第５〜９頁、図１、図２） 特開２００７−７０７０９号公報（要約、第５〜８頁、図１、図２）

ジョージ・ダニエル著、「The Practical Watch Escapement」、Premier Print Limited、１９９４年（第１版発行）、第３９〜４７頁

従来のピボット型デテント脱進機、および、従来のスプリング型デテント脱進機においては、以下のような課題があった。具体的には、てんぷが初期位置から回転し、てんぷに設けられたハズシ石が板ばねに接触して、板ばねががんぎ車から離れる方向に撓む。この板ばねの撓みにより、デテントレバー及びそこに備えられた止め石もがんぎ車から離れる方向に回転し、止め石ががんぎ車の回転を解除する。その後、てんぷが自由振動を行い、再び逆回転して、てんぷのハズシ石が板ばねの先端に接触し、てんぷが上記の初期位置に戻る。このような動作が繰り返される。

従来のピボット型デテント脱進機では、てんぷの回転中心とデテントレバーの支点とを通る仮想線に沿って、板ばねが備えられているため、上記のてんぷの逆回転時において、てんぷのハズシ石と板ばねの先端との接触時間が長くなり、てんぷのエネルギーロスを低減させることができないという問題が生じていた。

一方、上記仮想線に対して板ばねを斜めに設ければ、てんぷの逆回転時においててんぷのハズシ石と板ばねの先端との接触時間が短くなり、てんぷのエネルギーロスを低減させることができる。ところが、上記仮想線に対して板ばねを斜めに設けるためには、デテントレバーに対して板ばねを交差させなければならず、その交差部分では、デテントレバー及び板ばねの両方の厚みが存在することとなり、脱進機の全体を薄型化することができない。

そこで、本発明は上記点に鑑みてなされたものであり、てんぷの逆回転時におけるてんぷのエネルギーロスを低減させるとともに、全体の薄型化をすることができるデテント脱進機を提供することを目的とする。

本発明は、がんぎ車と、がんぎ車の歯部と接触可能な振り石および外し石を有するてんぷと、がんぎ車の歯部と接触可能な止め石を有する作動レバーとを含む時計用のデテント脱進機において、前記作動レバーは、前記止め石を支持する止め石支持アームと、前記外し石と接触可能な部分を含む片作動ばねと、前記片作動ばねの先端にある外し石接触部の位置を定めるための片作動ばね支持アームとを有するように構成した。前記作動レバーは、前記止め石が、前記がんぎ車に近づく方向と、前記止め石が、前記がんぎ車から遠ざかる方向の２方向に回転可能なように構成されている。前記片作動ばねは、その先端部分が、前記てんぷの回転中心と、前記作動レバーの回転中心とを結ぶ直線である作動基準直線を基準としたときに、前記がんぎ車がある側と反対側において、前記てんぷの回転中心から遠ざかるにつれて、前記作動基準直線からの距離が増加するように角度をなして配置されている。

前記片作動ばねの変形ばね部は、前記止め石支持アームと、前記片作動ばね支持アームとの間に配置されている。この構成により、てんぷが戻るときのエネルギーロスを低減し、かつ、薄型のデテント脱進機を実現することができる。

本発明のデテント脱進機において、前記片作動ばね支持アームの下面と、前記片作動ばねの下面は、前記がんぎ車の回転中心軸線、および、前記てんぷの回転中心軸線に対して垂直な１つの平面内に配置されるのが好ましい。この構成により、薄型のデテント脱進機を実現することができる。

本発明のデテント脱進機において、前記片作動ばねの変形ばね部の前記外し石接触部に続く部分は、前記作動基準直線に対して、５度から４５度の範囲内にある角度をなすように構成されるのが好ましい。この構成により、てんぷが戻るときのエネルギーロスを低減し、かつ、薄型のデテント脱進機を実現することができる。

本発明のデテント脱進機において、前記止め石支持アームは、前記作動基準直線に対して、前記片作動ばね支持アームと反対の側に位置するように構成するのがよい。この構成により、止め石支持アームと片作動ばね支持アームのバランスをとることができる。すなわち、作動レバーの重心の位置を作動レバーの回転中心に近づけて、重心位置バランスを補正することができる。この構成により、時計の縦姿勢の方向違いによる歩度の誤差影響を低減することができる。

本発明のデテント脱進機において、前記止め石支持アームの幅は、前記片作動ばね支持アームの幅より大きく形成され、或いは、前記止め石支持アームの厚さは、前記片作動ばね支持アームの厚さより厚く形成されるのがよい。この構成により、止め石支持アームと片作動ばね支持アームのバランスをとることができる。すなわち、作動レバーの重心の位置を作動基準直線上に配置して、或いは、作動レバーの重心の位置を作動基準直線に近づけて、重心位置バランスを補正することができる。

本発明のデテント脱進機において、前記止め石支持アーム、および、前記片作動ばね支持アームのうちの少なくとも一方は、前記作動レバーの慣性モーメントを低減させるために、肉抜きされた部分を含むのがよい。この構成により、作動レバーの慣性モーメントを効果的に低減させることができる。

また、本発明のデテント脱進機において、前記片作動ばね支持アームは、前記作動基準直線からみて凸になるような１以上の曲線部を含む形状に形成されるのがよい。この構成により、片作動ばね支持アームと止め石支持アームの干渉を確実に避けることができ、片作動ばね支持アーム先端部分から片作動ばねの支点までの距離を最短にすることができるとともに、作動レバーの慣性モーメントを低減させることができる。

また、本発明のデテント脱進機において、前記片作動ばね支持アームは、先端部分から根元部分に向うにつれて断面積が大きくなるように構成されるのがよい。この構成により、片作動ばね支持アームの慣性モーメントを低減させることができ、また、片作動ばね支持アームの根元部分の破損を防ぐことができる。

本発明のデテント脱進機において、前記止め石支持アームの幅は、前記片作動ばね支持アームより細く形成され、かつ、前記片作動ばね支持アームは肉抜きされた部分を含むように構成するのがよい。この構成により、止め石支持アームと片作動ばね支持アームのバランスをとることができる。すなわち、作動レバーの重心の位置を作動基準直線上に配置して、或いは、作動レバーの重心の位置を作動基準直線に近づけて、重心位置バランスを補正することができる。この構成により、時計の縦姿勢の方向違いによる歩度の誤差影響を低減することができる。また、肉抜きを形成することによって、作動レバーの慣性モーメントを低減することができる。

本発明のデテント脱進機は、さらに、前記止め石が前記がんぎ車に近づく方向に前記作動レバーを回転させる力を前記作動レバーに加えるための復帰ばねを備え、前記復帰ばねは、前記作動レバーの回転中心に対して、前記止め石支持アームおよび前記片作動ばね支持アームの反対側に位置するようにように構成するのがよい。この構成により、止め石支持アームと片作動ばね支持アームのバランスをとることができる。すなわち、作動レバーの重心の位置を作動レバーの回転中心に近づけて、重心位置バランスを補正することができる。この構成により、時計の縦姿勢の方向違いによる歩度の誤差影響を低減することができる。

本発明のデテント脱進機において、前記復帰ばねの初期位置を調整するための復帰ばね調整偏心ピンが設けられるのが好ましい。この構成により、復帰ばねの初期位置を容易に迅速確実に調整することができる。

本発明のデテント脱進機において、前記片作動ばねの外し石接触部を前記片作動ばね支持アームに押し付けるための片作動ばね規制レバーが前記作動レバーに設けられるのが好ましい。この構成により、作動レバーの初期位置を容易に迅速確実に調整することができる。

さらに、本発明は、機械式時計の動力源を構成するぜんまいと、前記ぜんまいが巻き戻されるときの回転力により回転する表輪列と、前記表輪列の回転を制御するための脱進機とを備えるように構成された機械式時計において、前記脱進機が、上記のデテント脱進機で構成されることを特徴としている。この構成により、薄型で調整が容易な機械式時計を実現することができる。また、本発明の機械式時計は、脱進機の力の伝達効率が良いので、現在機械式時計の脱進機として広く普及しているクラブツースレバー脱進機に対して、ぜんまいを小さくすることができ、或いは、同じサイズの香箱を用いて長時間持続の時計を達成することができる。

従来のデテント脱進機においては、てんぷの戻り時に片作動ばねと外し石の噛み合い量を減らし、てんぷのエネルギー損失を低減するために、片作動ばねと作動レバーを同一平面でなく２層に分けて互いに交差させる構造を採用していた。本発明のデテント脱進機においては、てん真の回転中心と、作動レバーの回転中心とを結ぶ直線に対して或る角度をなし、かつ、同一平面内に配置されるように、片作動ばね支持アームおよび片作動ばねを設けている。したがって、本発明のデテント脱進機においては、てんぷのエネルギー損失を低減することができ、デテント脱進機を搭載した時計ムーブメントの薄型化を図ることができる。

また、本発明のデテント脱進機は、止め石支持アームを上記片作動ばね支持アームの反対側に湾曲させるように構成している。また、本発明のデテント脱進機の１つの好ましい構造においては、止め石支持アームの厚さを片作動ばね支持アームの厚さと異なるように構成している。また、本発明のデテント脱進機の１つの好ましい構造においては、止め石支持アームの一部、および、片作動ばね支持アームの一部のうちの少なくとも一方を肉抜きするように構成している。この構成により、作動レバーを軽量化することができ、作動レバーの慣性モーメントを小さくすることができる。また、本発明のデテント脱進機の１つの好ましい構造においては、復帰ばねは、作動レバーの回転中心に対して、止め石支持アームおよび片作動ばね支持アームの反対側に位置するように配置されている。この構成により、作動レバーの慣性モーメントを小さくすることができる。

上記のように構成することにより、作動レバーの重心位置を作動レバー軸（回転中心）の上に配置することができ、あるいは、作動レバーの重心位置を作動レバー軸（回転中心）の付近に配置することができる。作動レバーの重心位置が作動レバー軸に近づくほど、作動レバーの慣性モーメントは小さくなり作動レバーは回転しやすくなる。したがって、この構成により、ムーブメントを縦姿勢にしたときの姿勢の差による作動レバーの原位置復帰を速くすることができ、且つ、縦姿勢にした際の姿勢に差による作動レバーの原位置復帰のタイミング誤差を低減させることが出来る。これによって、姿勢が異なっても、止め石とがんぎ車の歯部の噛み合い量を確保することができる。

従来のデテント脱進機、特にスプリングデテントにおいては、作動レバーが復帰バネ部に対して大きく、いわゆる頭でっかちになり、重心位置が作動レバー回転中心にないことから、がんぎ車の解除の時にも、重力の影響を受け、がんぎ車を解除しやすい姿勢と、がんぎ車を解除しにくい姿勢が生じていた。このため、姿勢の差により、てんぷのエネルギー損失が生じていた。これに対して、本発明のデテント脱進機においては、止め石支持アーム、および、片作動ばね支持アームのバランスをとることにより、作動レバーの重心位置を作動レバー軸（作動レバーの回転中心軸）の付近の位置に配置することができる。これにより、縦姿勢時において、姿勢の差による作動レバーの慣性モーメントの影響を小さくすることができる。

本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の構造を示す表平面図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の構造を示す裏平面図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の構造を示す斜視図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す斜視図（その１）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す斜視図（その２）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す斜視図（その３）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す斜視図（その４）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す斜視図（その５）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す斜視図（その６）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す斜視図（その７）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す平面図（その８）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す平面図（その９）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造、及び、与圧調整機構を持つ復帰ばねの構造を示す平面図（その１０）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造、及び、与圧調整機構を持つ復帰ばねの構造を示す平面図（その１１）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの構造を示す平面図（その１２）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの製造工程の一部を説明する原理図（その１）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの製造工程の一部を説明する原理図（その２）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを製造する電鋳加工の概略を説明する原理図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その１）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その２）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その３）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その４）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その５）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その６）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その７）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その８）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その９）であり、（ａ）は全体平面図であり、（ｂ）は部分拡大平面図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、脱進機の作動状態を示す平面図（その１０）である。 図２９（ａ）は、作動レバーの与圧調整機構の構造を示す平面図であり、図２９（ｂ）は、図２９（ａ）の線Ａ−Ａにおける断面図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーの片作動ばね規制レバーとピンの構造を示す斜視図である。 本発明のデテント脱進機を用いた機械式時計の実施形態において、ムーブメントを裏蓋側から見たときの表輪列、脱進機などの概略構造を示す平面図である。 従来のスプリング型デテント脱進機の構造を示す斜視図である。 従来のピボット型デテント脱進機の構造を示す斜視図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第二の製造工程の一部を説明する原理図（その１）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第二の製造工程の一部を説明する原理図（その２）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第二の製造工程の一部を説明する原理図（その３）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程において、基板に作動レバーを形成する工程を説明する原理図である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程の一部を説明する原理図（その１）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程の一部を説明する原理図（その２）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程の一部を説明する原理図（その３）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程の一部を説明する原理図（その４）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程の一部を説明する原理図（その５）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程の一部を説明する原理図（その６）である。 本発明のデテント脱進機の実施形態において、作動レバーを作るための第三の製造工程の一部を説明する原理図（その７）である。

以下に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。一般に、時計の駆動部分を含む機械体を「ムーブメント」と称する。ムーブメントに文字板、針を取付けて、時計ケースの中に入れて完成品にした状態を時計の「コンプリート」と称する。時計の基板を構成する地板の両側のうちで、時計ケースのガラスのある方の側、すなわち、文字板のある方の側をムーブメントの「裏側」又は「ガラス側」又は「文字板側」と称する。地板の両側のうちで、時計ケースの裏蓋のある方の側、すなわち、文字板と反対の側をムーブメントの「表側」又は「裏蓋側」と称する。ムーブメントの「表側」に組み込まれる輪列を「表輪列」と称する。ムーブメントの「裏側」に組み込まれる輪列を「裏輪列」と称する。

（１）本発明のデテント脱進機の構成：
図１から図３を参照すると、本発明のデテント脱進機１００は、がんぎ車１１０と、がんぎ車１１０の歯部１１２と接触可能な振り石１２２および外し石１２４を有するてんぷ１２０と、がんぎ車１１０の歯部１１２と接触可能な接触平面１３２Ｂを含む止め石１３２を有する作動レバー１３０とを含む。

作動レバー１３０は、止め石１３２を支持する止め石支持アーム１３１と、外し石１２４と接触可能な部分を含む片作動ばね１４０と、片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇの位置を定めるための片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０を有している。片作動ばね１４０の一方の端部は作動レバー１３０に固定され、復帰ばね１５０の一方の端部は作動レバー１３０に固定される。或いは、片作動ばね１４０および復帰ばね１５０は、作動レバー１３０と一体に形成される。

作動レバー１３０は、止め石１３２が、がんぎ車１１０に近づく方向と、止め石１３２が、がんぎ車１１０から遠ざかる方向の２方向に回転可能なように構成されている。片作動ばね１４０の支点１４０Ｂは、作動レバー１３０の回転中心１３０Ａに対して解除側にある位置に配置される。片作動ばねの変形ばね部１４０Ｄは、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね支持アーム１３３との間に配置される。片作動ばね１４０は、その先端部分が、てんぷ１２０の回転中心１２０Ａと、作動レバー１３０の回転中心１３０Ａとを結ぶ直線である作動基準直線１２９を基準としたときに、がんぎ車１１０がある側と反対側において、てんぷ１２０の回転中心１２０Ａから遠ざかるにつれて、前記作動基準直線１２９からの距離が増加するように角度をなして配置されている。

片作動ばねの変形ばね部１４０Ｄの外し石接触部１４０Ｇに続く部分は、てんぷ１２０の回転中心１２０Ａと、作動レバー１３０の回転中心１３０Ａとを結ぶ直線である作動基準直線１２９に対して、角度ＤＧをなすように構成される。この角度ＤＧは、５度から４５度の範囲内にあるのが好ましく、５度から３０度の範囲内にあるのが一層好ましい。

従来のピボット型デテント脱進機、および、従来のスプリング型デテント脱進機においては、脱進機の重量が重くなる傾向にあった。また、てんぷが戻るときに、片作動ばねによる抵抗、及び、自由振動を妨げる区間を減少させる脱進機のレイアウトを取ろうとすると、構造上、脱進機の総厚が厚くなる傾向になっていた。また、従来のスプリング型デテント脱進機については、作動レバーが大きいために、いわゆる頭でっかちになり、重心位置が前のめりになる傾向になっていた。

これに対して、本発明のデテント脱進機において、片作動ばね支持アーム１３３の下面（すなわち、地板側の表面）と、片作動ばね１４０の下面（すなわち、地板側の表面）は、がんぎ車１１０の回転中心軸線１１０Ａ、および、てんぷ１２０の回転中心軸線に対して垂直な１つの平面内に位置する部分を含むように構成されている。この構成により、薄型のデテント脱進機を実現することができる。

片作動ばね１４０は、例えば、ニッケル、りん青銅、ステンレス鋼などの弾性材料の板ばねで構成されるのがよい。片作動ばね１４０は、変形ばね部１４０Ｄと、外し石接触部１４０Ｇとを含む。片作動ばね１４０の変形ばね部１４０Ｄの横方向厚さの方向（撓みの方向）は、作動レバー１３０の回転中心軸線１３０Ａに対して垂直な方向であるのが好ましい。片作動ばね１４０の変形ばね部１４０Ｄの横方向厚さＴＢは、例えば、０．０３ｍｍから０．３ｍｍに形成するのがよい。作動レバー１３０の縦方向厚さＴＳは、例えば、０．０５ｍｍから０．５ｍｍに形成するのがよい。縦方向厚さＴＳと横方向厚さＴＢとの比ＴＳ／ＴＢ（アスペクト比）が１から５程度になるように、片作動ばね１４０の変形ばね部１４０Ｄを構成することができる。

止め石１３２が、がんぎ車１１０に近づく方向に作動レバー１３０を回転させる力を作動レバー１３０に加えるための復帰ばね１５０が、作動レバー１３０に設けられる。例えば、復帰ばね１５０は、ニッケル、りん青銅、ステンレス鋼、エリンバー、コエリンバーなどの弾性材料の渦巻きばねで構成されるのがよい。或いは、復帰ばね１５０は、板ばね又は線ばねで構成してもよい。渦巻きばねで構成された復帰ばね１５０の外周端部は、作動レバー１３０に固定される。或いは、渦巻きばねで構成された復帰ばね１５０は、作動レバー１３０と一体に形成される。

一方、前記特許文献２に開示されているデテント脱進機においては、復帰ばねが存在せず、制止部材６の位置制御を小ローラ２３と、第１フィンガ１４と、第２フィンガ１１で行っている。この従来のデテント脱進機では、復帰ばねを用いる制御と比較すると、てんぷの振り幅（振り角）に対する摺動による、てんぷの自由振動を阻害する区間（角度の範囲）が非常に大きく設定されている。したがって、この構造は、時計の計時精度上、不利であるものと考えられる。

また、従来のデテント脱進機では、構成部品点数が数点にわたる為、デテント脱進機の組立て誤差が生じて、デテント脱進機の完成品の精度ばらつき（重心位置、振り角、歩度などのばらつき）として影響を及ぼすおそれが大きかった。これに対して、本発明においては、デテント脱進機の構成部品点数を削減することができるので、デテント脱進機の完成品の精度を向上させることが可能である。

渦巻きばねで構成された復帰ばね１５０は、作動レバー１３０の窓部の中に配置することができる。渦巻きばねで構成された復帰ばね１５０の内周端部は、復帰ばね調整偏心ピン１５１に固定される。復帰ばね調整偏心ピン１５１は、止め石１３２ががんぎ車１１０に近づく方向に作動レバー１３０を回転させる力を作動レバー１３０に加えることができるような位置に配置される。復帰ばね１５０は、作動レバー１３０の回転中心１３０Ａに対して、止め石支持アーム１３１および片作動ばね支持アーム１３３の反対側に位置するように配置されるのがよい。

図２９を参照すると、復帰ばね１５０の初期位置を調整するための復帰ばね調整偏心ピン１５１は、地板１７０に対して回転可能なように設けられる。復帰ばね調整偏心ピン１５１は、偏心軸部１５１Ｆと、ヘッド部１５１Ｈと、固定部１５１Ｋとを含む。固定部１５１Ｋは地板１７０の固定孔に回転可能なように挿入される。偏心軸部１５１Ｆの偏心量は、例えば、０．１ｍｍから２ｍｍ程度に設定することができる。ドライバ溝１５１Ｍがヘッド部１５１Ｈに設けられる。復帰ばね調整偏心ピン１５１の偏心軸部１５１Ｆを回転させることにより、復帰ばね１５０の内端部は、固定部１５１Ｋの中心軸線を基準として移動することができるように構成される。

図１から図３を参照すると、復帰ばね１５０は、がんぎ車の回転中心軸線１１０Ａに対して垂直な平面内で、作動レバー１３０に力を加えるように構成されている。片作動ばね１４０と、復帰ばね１５０は、作動レバー１３０の回転中心１３０Ａに対して対称方向の位置に配置されている。復帰ばね１５０が作動レバー１３０に力を加える方向は、作動レバー１３０の止め石１３２を設けた部分が、がんぎ車１１０に近づく方向に回転するような方向となるように構成されている。

従来のピボット型デテント脱進機では、渦巻き型戻しばねの組付け誤差による偏心や、渦巻き型戻しばね単品の偏心の影響から、渦巻き型戻しばねによる作動レバーのバランスを取る調整が難しかった。また、渦巻き型戻しばねの組付け誤差から生じる重心位置のばらつきや、作動レバー全体のバランス（重心位置）を補正するために、作動レバーのバランス調整を考慮した調整式バランサーを設定する必要が発生していた。このため、デテント脱進機が大型化していた。

また、前記特許文献２に開示されている脱進機においては、てんぷが１往復作動する間に（１ヘルツ振動の時計において、てんぷが２振動する間に）、２度の退却が生じている。この退却は、てんぷの慣性力を用いて、本来１つの方向に回転しようとする、がんぎ車を逆転させるものであって、てんぷに与えるストレスが大きいものである。

これに対して、本願発明においては、上記の構成を採用することにより、復帰ばね１５０が常に作動レバー１３０に力を加えるので、作動レバー１３０は、すぐに、図１に示す初期位置に戻ることができる。また、本発明のデテント脱進機においては、クラブツースレバー型脱進機における「引き」の作用に相当する初期位置に戻る力を復帰ばね１５０により作動レバー１３０に加えるので、従来のデテント脱進機と比較すると、外乱の影響を受けにくい特徴がある。

がんぎ車１１０は、がんぎ歯車１０９と、がんぎかな１１１とを含む。歯部１１２は、がんぎ歯車１０９の外周部に形成される。例えば、図１に示すように、１５個の歯部１１２が、がんぎ歯車１０９の外周部に形成される。がんぎ車１１０は、地板１７０と輪列受（図示せず）に対して回転可能なようにムーブメントに組み込まれる。がんぎかな１１１の上軸部は、輪列受（図示せず）に対して回転可能なように支持される。がんぎかな１１１の下軸部は、地板１７０に対して回転可能なように支持される。

てんぷ１２０は、てん真１１４と、てん輪１１５と、大つば１１６と、ひげぜんまい（図示せず）とを含む。振り石１２２は、大つば１１６に固定される。てんぷ１２０は、地板１７０とてんぷ受（図示せず）に対して回転可能なようにムーブメントに組み込まれる。てん真１１４の上軸部は、てんぷ受（図示せず）に対して回転可能なように支持される。てん真１１４の下軸部は、地板１７０に対して回転可能なように支持される。

作動レバー１３０は、地板１７０と輪列受（図示せず）に対して回転可能なようにムーブメントに組み込まれる。作動レバー１３０の回転中心１３０Ａには、作動レバー軸１３６が固定される。作動レバー軸１３６の上軸部は、輪列受（図示せず）に対して回転可能なように支持される。作動レバー軸１３６の下軸部は、地板１７０に対して回転可能なように支持される。或いは、作動レバー１３０は、地板１７０と作動レバー受（図示せず）に対して回転可能なようにムーブメントに組み込むこともできる。この構成では、作動レバー軸１３６の上軸部は、作動レバー受（図示せず）に対して回転可能なように支持される。作動レバー１３０の片作動ばね支持アーム１３３の先端には、ばね受部１３０Ｄが設けられる。片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇは、ばね受部１３０Ｄに接触可能なように配置される。

図１および図３０を参照すると、作動レバー１３０の初期位置を調整するための調整偏心ピン１６１が地板１７０に回転可能なように設けられる。調整偏心ピン１６１は、偏心軸部１６１Ｆと、ヘッド部１６１Ｈと、固定部１６１Ｋとを含む。固定部１６１Ｋは地板１７０の固定孔に回転可能なように挿入される。偏心軸部１６１Ｆの偏心量は、例えば、０．１ｍｍから２ｍｍ程度に設定することができる。ドライバ溝１６１Ｍがヘッド部１６１Ｈに設けられる。調整偏心ピン１６１の偏心軸部１６１Ｆは、作動レバー１３０の止め石支持アーム１３１の外側面部に接触するように配置される。調整偏心ピン１６１の偏心軸部１６１Ｆを回転させることにより、作動レバー１３０の初期位置を容易に調整することができる。

図２９を参照すると、作動レバー１３０の初期位置を調整するための調整偏心ピン１６２を地板１７０に回転可能なように設けることもできる。調整偏心ピン１６２は、偏心軸部１６２Ｆと、ヘッド部１６２Ｈと、固定部１６２Ｋとを含む。固定部１６２Ｋは地板１７０の固定孔に回転可能なように挿入される。偏心軸部１６２Ｆの偏心量は、例えば、０．１ｍｍから２ｍｍ程度に設定することができる。ドライバ溝１６２Ｍがヘッド部１６２Ｈに設けられる。調整偏心ピン１６２の偏心軸部１６２Ｆは、作動レバー１３０の片作動ばね支持アーム１３３の基部の側面に接触するように配置することができる。調整偏心ピン１６２の偏心軸部１６２Ｆを回転させることにより、作動レバー１３０の初期位置を容易に調整することができる。

図１、図３および図２９を参照すると、片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇを片作動ばね支持アーム１３３に押し付けるための片作動ばね規制レバー１４１が作動レバー１３０に設けられる。片作動ばね規制レバー１４１は、規制レバー体１４２と、規制ピン１４３とを含む。規制レバー体１４２は、作動レバー軸１３６に固定することができる。規制ピン１４３は規制レバー体１４２に固定される。規制ピン１４３の側面部は、片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇを片作動ばね支持アーム１３３に押し付けるように、片作動ばね１４０の支点に近い部分の側面部に接触するように構成される。

図１を参照すると、変形例として、規制レバー体１４２Ｂ（仮想線で示す）は、作動レバー軸１３６とは異なる位置において、作動レバー１３０に固定することができる。規制レバー体１４２は、鍔付きピンなどによって固定によることもできるし、或いは、止めねじによって固定することもできる。この構成により、片作動ばね規制レバー１４１により、片作動ばね１４０を押す力を容易に調整することができる。

（２）作動レバーの構成：
（２・１）第１タイプ：
前述したように、図３を参照すると、第１タイプの作動レバー１３０の本体部１３０Ｈは、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０とを有している。片作動ばね１４０および復帰ばね１５０は、作動レバー１３０と一体に形成される。片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇは、てんぷ１２０の回転中心１２０Ａと、作動レバー１３０の回転中心１３０Ａとを結ぶ直線である作動基準直線１２９に対して角度ＤＧが５度から４５度の範囲内にあるように形成される。片作動ばね支持アーム１３３の下面（すなわち、地板側の表面）と、片作動ばね１４０の下面（すなわち、地板側の表面）は、１つの平面内に位置するように構成される。片作動ばね１４０は、片作動ばね支持アーム１３３よりも作動基準直線１２９に近い位置に配置される。

止め石支持アーム１３１は、作動基準直線１２９からみて凸になるような１以上の曲線部を含む形状に形成される。片作動ばね支持アーム１３３は、作動基準直線１２９からみて凸になるような１以上の曲線部を含む形状に形成される。すなわち、止め石支持アームを片作動ばね支持アームの反対側に湾曲させるように構成している。片作動ばね１４０は、作動基準直線１２９からみて凸になるような１以上の曲線部を含む形状に形成される。

渦巻きばねで構成された復帰ばね１５０の外周端部は、作動レバー１３０に固定される。復帰ばね１５０は、止め石支持アーム１３１の基部と、片作動ばね支持アーム１３３の基部が一体となる部分に設けられた窓部の中に形成される。すなわち、復帰ばねは、作動レバーの回転中心に対して、止め石支持アームおよび片作動ばね支持アームの反対側に位置するように配置されている。

止め石支持アーム１３１の厚さと、片作動ばね１４０の厚さと、片作動ばね支持アーム１３３の厚さと、復帰ばね１５０の厚さは、全て同じ厚さとなるように作動レバー１３０は形成されるのがよい。止め石支持アーム１３１を構成する材料と、片作動ばね１４０を構成する材料と、片作動ばね支持アーム１３３を構成する材料と、復帰ばね１５０を構成する材料は、全て同じ材料となるように作動レバー１３０は形成されるのがよい。

従来のデテント脱進機においては、作動レバーの重心位置が作動レバーの支点にないことにより、作動レバーの慣性モーメントの増加を引き起こし、渦巻き型戻しばねの原位置復帰を遅らせる原因になる課題（問題点）があった。また、作動レバーの重心位置が作動レバーの支点にないことにより、デテント脱進機を縦姿勢にしたときに、重力の影響を受け、姿勢の違いで作動レバーの解除と渦巻き型戻しばねの原位置復帰の動作に差を生じさせていた。このため、特に縦姿勢の時に脱進機誤差に差が生じ、歩度の差（姿勢差）が大きくなる課題があった。

これに対して、本願発明においては、上記の構成を採用することにより、作動レバー１３０の重心位置を作動レバー１３０の支点に近づけることができ、また、作動レバー１３０の慣性モーメントを小さくすることができる。

なお、片作動ばね支持アーム１３３は、その先端部分が、作動基準直線のがんぎ車１１０のある側とは反対側において、てんぷの回転中心から遠ざかるにつれて作動基準直線からの距離が増加するように角度を成して構成されていればよく、片作動ばね支持アーム１３３の全体の形状はどのように形成されていても構わないが、上述したように曲線部を有していた方が望ましい。このように片作動ばね支持アーム１３３が曲線部を備えることにより、片作動ばね支持アーム１３３と止め石支持アーム１３１の干渉を確実に避けることができ、片作動ばね支持アーム１３３の先端部分から片作動ばねの支点までの距離を最短にすることができるとともに、作動レバー１３０の慣性モーメントを低減させることができる。

また、片作動ばね支持アーム１３３は、先端部分から根元部分に向うにつれて断面積が大きくなるように構成されるのが望ましい。これにより、片作動ばね支持アーム１３３は、先端部分が先細りであり、その重量が根元部分に比べて少ないため、片作動ばね支持アーム１３３の慣性モーメントを低減させることができる。また、片作動ばね支持アーム１３３の根元部分に応力が集中しても、片作動ばね支持アーム１３３の先端部よりも太く根元部分が形成されているため、片作動ばね支持アームの根元部分の破損を防ぐことができる。

（２・２）第２タイプ：
図４を参照すると、第２タイプの作動レバー１３０Ｂの本体部１３０ＨＢは、止め石支持アーム１３１Ｂと、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０とを有している。止め石支持アーム１３１Ｂの厚さは、片作動ばね１４０の厚さよりも厚くなるように構成される。第２タイプの作動レバー１３０Ｂにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９上に配置するか、或いは、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９の近くに配置することができる。

（２・３）第３タイプ：
図５を参照すると、第３タイプの作動レバー１３０Ｃの本体部１３０ＨＣは、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３Ｃと、復帰ばね１５０とを有している。片作動ばね支持アーム１３３Ｃの一部は肉抜きされている。図示した例では、４箇所の肉抜き部１３３Ｃ１〜１３３Ｃ４が、片作動ばね支持アーム１３３Ｃに設けられている。片作動ばね支持アーム１３３Ｃに肉抜き部を設ける個数は、１個であってもよいし、複数であってもよい。第３タイプの作動レバー１３０Ｃにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９上に配置するか、或いは、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９の近くに配置することができる。この構成により、作動レバーを軽量化することができ、作動レバーの慣性モーメントを小さくすることができる。

（２・４）第４タイプ：
図６を参照すると、第４タイプの作動レバー１３０Ｄの本体部１３０ＨＤは、止め石支持アーム１３１Ｄと、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３Ｄと、復帰ばね１５０とを有している。止め石支持アーム１３１Ｄの一部は肉抜きされ、かつ、片作動ばね支持アーム１３３Ｄの一部は肉抜きされている。図示した例では、３箇所の肉抜き部１３１Ｄ１〜１３１Ｄ３が止め石支持アーム１３１Ｂに設けられ、４箇所の肉抜き部１３３Ｄ１〜１３３Ｄ４が片作動ばね支持アーム１３３Ｄに設けられている。止め石支持アーム１３１Ｂに肉抜き部を設ける個数は、１個であってもよいし、複数であってもよい。片作動ばね支持アーム１３３Ｄに肉抜き部を設ける個数は、１個であってもよいし、複数であってもよい。第４タイプの作動レバー１３０Ｄにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。肉抜き部を設ける個数と肉抜き部を設ける位置を選定することにより、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９上に配置するか、或いは、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９の近くに配置することができる。この構成により、作動レバーを軽量化することができ、作動レバーの慣性モーメントを小さくすることができる。上述したように、本発明のデテント脱進機の好ましい構造においては、止め石支持アームの一部、および、片作動ばね支持アームの一部のうちの少なくとも一方を肉抜きするように構成することができる。

（２・５）第５タイプ：
図７を参照すると、第５タイプの作動レバー１３０Ｅの本体部１３０ＨＥは、止め石支持アーム１３１Ｅと、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０とを有している。止め石１３２Ｅが止め石支持アーム１３１Ｅと一体に形成されている。この構成により、作動レバーと止め石の製造工程を削減することができる。

（２・６）第６タイプ：
図８を参照すると、第６タイプの作動レバー１３０Ｆの本体部１３０ＨＦは、止め石支持アーム１３１Ｆと、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０とを有している。止め石支持アーム１３１Ｆの横幅は、片作動ばね１４０の横幅よりも大きくなるように構成される。第６タイプの作動レバー１３０Ｆにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９上に配置するか、或いは、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９の近くに配置することができる。

（２・７）第７タイプ：
図９を参照すると、第７タイプの作動レバー１３０Ｆ２の本体部１３０ＨＦは、止め石支持アーム１３１Ｆ２と、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０とを有している。止め石支持アーム１３１Ｆ２には、２個の幅広部１３１Ｆ３、１３１Ｆ４が形成されている。幅広部１３１Ｆ３、１３１Ｆ４の横幅は、片作動ばね１４０の横幅よりも大きくなるように構成される。幅広部を設ける数は１個であってもよいし、又は、複数であってもよい。第７タイプの作動レバー１３０Ｆ２において、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９上に配置するか、或いは、作動レバーの重心の位置を作動基準直線１２９の近くに配置することができる。

（２・８）第８タイプ：
図１０を参照すると、第８タイプの作動レバー１３０Ｇの本体部１３０ＨＧは、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね１４０Ｇと、片作動ばね支持アーム１３３Ｇと、復帰ばね１５０とを有している。片作動ばね１４０Ｇは、直線状になるように構成される。片作動ばね支持アーム１３３Ｇは、直線状になるように構成される。第８タイプの作動レバー１３０Ｇにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、片作動ばね１４０Ｇの撓み特性を安定させることができる。

（２・９）第９タイプ：
図１１を参照すると、第９タイプの作動レバー１３０Ｊの本体部１３０ＨＪは、止め石支持アーム１３１Ｊと、片作動ばね支持アーム１３３Ｊとを有している。本体部１３０ＨＪと別個に形成された片作動ばね１４０Ｊは、その一方の端部が本体部１３０ＨＪのスリットの中にレーザ溶接などの溶接加工により固定される。本体部１３０ＨＪと別個に形成された復帰ばね１５０Ｊは、その一方の外端部が本体部１３０ＨＪの上面にレーザ溶接などの溶接加工により固定される。第９タイプの作動レバー１３０Ｇにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、本体部１３０ＨＪを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で片作動ばね１４０Ｊを形成することができる。また、この構成により、本体部１３０ＨＪを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で復帰ばね１５０Ｊを形成することができる。

（２・１０）第１０タイプ：
図１２を参照すると、第１０タイプの作動レバー１３０Ｋの本体部１３０ＨＫは、止め石支持アーム１３１Ｋと、片作動ばね支持アーム１３３Ｋとを有している。本体部１３０ＨＫと別個に形成された片作動ばね１４０Ｋは、その一方の端部が本体部１３０ＨＫのスリットの中に、かしめ加工により固定される。本体部１３０ＨＫと別個に形成された復帰ばね１５０Ｋは、その一方の外端部が本体部１３０ＨＫのスリットの中に、かしめ加工により固定される。第１０タイプの作動レバー１３０Ｋにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、本体部１３０ＨＫを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で片作動ばね１４０Ｋを形成することができる。また、この構成により、本体部１３０ＨＫを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で復帰ばね１５０Ｋを形成することができる。

（２・１１）第１１タイプ：
図１３を参照すると、第１１タイプの作動レバー１３０Ｍの本体部１３０ＨＭは、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね支持アーム１３３と、片作動ばね１４０とを有している。本体部１３０ＨＭと別個に形成された復帰ばね１５０Ｍは、その変形ばね部の先端部付近が本体部１３０ＨＭを押すように配置される。復帰ばね１５０Ｍは、地板１７０に固定される。第１１タイプの作動レバー１３０Ｍにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、本体部１３０ＨＫを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で復帰ばね１５０Ｋを形成することができる。

（２・１２）第１２タイプ：
図１４を参照すると、第１２タイプの作動レバー１３０Ｎは、本体部１３０ＨＮと、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね支持アーム１３３Ｎとを有している。片作動ばね支持アーム１３３Ｎは、本体部１３０ＨＮおよび止め石支持アーム１３１とは別個に形成される。本体部１３０ＨＮと別個に形成された片作動ばね１４０Ｎは、その一方の端部が本体部１３０ＨＮと、片作動ばね支持アーム１３３Ｎとの間に配置され、２本の横ねじ１４５Ｎ１、１４５Ｎ２により、本体部１３０ＨＮと片作動ばね支持アーム１３３Ｎに対して固定される。本体部１３０ＨＮと別個に形成された復帰ばね１５０Ｎは、その変形ばね部の先端部付近が本体部１３０ＨＮを押すように配置される。復帰ばね１５０Ｎは、地板１７０に固定される。第１２タイプの作動レバー１３０Ｎにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、本体部１３０ＨＮを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で片作動ばね１４０Ｎを形成することができる。また、この構成により、本体部１３０ＨＮを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で復帰ばね１５０Ｎを形成することができる。

（２・１３）第１３タイプ：
図１５を参照すると、第１３タイプの作動レバー１３０Ｐは、本体部１３０ＨＰと、止め石支持アーム１３１Ｐと、片作動ばね支持アーム１３３Ｐとを有している。止め石支持アーム１３１Ｐは、本体部１３０ＨＰとは別個に形成される。片作動ばね支持アーム１３３Ｎは、本体部１３０ＨＰとは別個に形成される。本体部１３０ＨＮと別個に形成された片作動ばね１４０Ｐは、その一方の端部が本体部１３０ＨＰと、片作動ばね支持アーム１３３Ｐとの間に配置され、２本の横ねじ１４５Ｐ１、１４５Ｐ２により、本体部１３０ＨＰと片作動ばね支持アーム１３３Ｐに対して固定される。本体部１３０ＨＮと別個に形成された復帰ばね１５０Ｎは、その変形ばね部の先端部付近が、本体部１３０ＨＰと、止め石支持アーム１３１Ｐとの間に配置され、２本の横ねじ１４５Ｐ３、１４５Ｐ４により、本体部１３０ＨＰと止め石支持アーム１３１Ｐに対して固定される。復帰ばね１５０Ｐのその変形ばね部の元部は、地板１７０に固定される。第１３タイプの作動レバー１３０Ｐにおいて、他の構成は、前述した第１タイプの作動レバー１３０と同様である。この構成により、本体部１３０ＨＰを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で片作動ばね１４０Ｐを形成することができる。また、この構成により、本体部１３０ＨＰを形成する材料の撓み特性よりも撓み特性が良い材料で復帰ばね１５０Ｐを形成することができる。

（３）作動レバーの製造方法：
次に、作動レバーを製造する方法の一例について説明する。
（３・１）作動レバーを作るための第一の製造工程：
図１６（ａ）を参照すると、電鋳部品の製造のために用いる基板４２０を準備する（工程４０１）。基板４２０を構成する材料は、シリコン、ガラス、プラスチックなどである。エッチングの加工精度を考えると、シリコンが適している。基板４２０の大きさは、例えば、２インチ（約５０ｍｍ）から８インチ（約２００ｍｍ）の範囲の半導体製造に用いられる標準寸法であるのが好ましい。基板４２０の厚さは、基板４２０の大きさによって異なるが、例えば４インチシリコン基板の場合、３００μｍから６２５μｍの厚さのものが用いられる。

図１６（ｂ）を参照すると、基板４２０の表面にフォトレジストをコートし、コートしたフォトレジストに必要形状を露光し、現像してマスク４２２をパターニングする（工程４０２）。マスク４２２は、フォトレジスト、ＳｉＯ₂ などの他の酸化膜、アルムニウム、クロムなどの金属膜で形成することができる。フォトレジスト以外の材料で構成したマスクを用いる場合、フォトレジストをマスクとして、フォトレジスト以外の材料をエッチングすることによりマスクを形成することができる。マスク４２２の厚さは、基板４２０とマスク４２２のエッチング時の選択比とエッチング深さによって決定される。例えば、基板４２０とマスク４２２の選択比が１００対１のとき、基板４２０のエッチング深さ１００μｍに対する必要なマスク４２２の厚さは１μｍ以上である。好ましくは１．５μｍから１０μｍの範囲とする。

図１６（ｃ）を参照すると、マスク４２２を有する基板４２０をＤＲＩＥ（Deep RIE）によりエッチングし、基板４２０にエッチング穴４２０ｈを形成する（工程４０３）。

図１６（ｄ）を参照すると、基板４２０の表面からマスク４２２をリムーブする（工程４０４）。或いは、マスク４２２をリムーブしないで、マスク４２２の上に金属薄膜を形成し、電鋳加工のための表面導体化を行うこともできる。マスク４２２の上に形成する金属薄膜は、例えば、金、銀、銅、ニッケルなどで構成することができる。このような方法では、マスク４２２を構成する材料を選択することによって、電鋳部品を基板４２０の表面から取り外すときの犠牲層として用いることも可能である。このような犠牲層として用いることができる材料として、例えばフォトレジストに代表される樹脂材料が挙げられる。フォトレジストは有機溶媒、発煙硝酸等によって容易に除去することが可能である。

図１６（ｅ）を参照すると、基板４２０の表面と、エッチング穴４２０ｈの底面に、金、銀、銅、ニッケルなどの金属の導電膜４２４を付着させて、基板４２０の表面の導体化を行う（工程４０５）。金属の導電膜４２４の付着は、スパッタリング、蒸着、無電解めっきなどの方法により行うことができる。金属の導電膜４２４の膜厚は、数ｎｍ（不連続膜）から数μｍの範囲であるのが好ましい。

図１７（ａ）を参照すると、軸部品４２６を準備する。本発明の作動レバーにおいて、軸部品は、作動レバー軸１３６と、復帰ばね調整偏心ピン１５１である。軸部品４２６を構成する材料は、ガラス、セラミック、プラスチックなどの非導電性の材料を用いることができる。軸部品４２６をアルミニウムで構成する場合、軸部品４２６にアルマイト処理を行うのがよい。軸部品４２６を炭素鋼、ステンレス鋼などの金属で構成する場合、軸部品４２６に酸化膜を付加するのがよい。付加する酸化膜として、軸部品４２６を構成する金属の陽極酸化膜、ＳｉＯ２などがあげられる。或いは、軸部品４２６を金属で構成する場合、軸部品４２６にテフロン（登録商標）などの合成樹脂をコーティングしてもよい。コーティングする材料は、前記テフロン（登録商標）のほか、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミドなどの非導電性樹脂があげられる。或いは、軸部品４２６を金属で構成する場合、軸部品４２６の電鋳金属を析出させない部分にレジストを付着させ、電鋳加工が終わったのち、レジストを剥離してもよい。

軸部品４２６は上軸部４２６ａと、下軸部４２６ｂと、上軸部４２６ａと下軸部４２６ｂとの間に位置するフランジ部４２６ｆとを含む。軸部品４２６の下軸部４２６ｂの先端を含む下軸部の部分を基板４２０のエッチング穴４２０ｈに挿入する（工程４０６）。この状態で、軸部品４２６のフランジ部４２６ｆの下面は、導電膜４２４から離れて配置されるのがよい。エッチング穴４２０ｈの内径は、下軸部４２６ｂを受け入れることができるように決められている。本発明の方法により、軸部品４２６をばらばらになっている本体部品に挿入するよりも作業を容易に行うことができる。また、本発明の方法では、軸部品４２６の下軸部４２６ｂを挿入すべき基板４２０のエッチング穴４２０ｈの位置が予め定められているので、軸部品４２６を挿入する工程を自動化するのが可能になる。さらに、本発明の方法では、例えば、外径が４インチ（約１００ｍｍ）から８インチ（約２００ｍｍ）であるような大きなウェハに軸部品４２６を挿入するので、軸部品４２６を挿入すべき部品の機械的強度が大きく、この部品が破損するおそれはほとんどない。

図１７（ｂ）を参照すると、基板４２０に厚膜レジストを堆積させ、堆積した厚膜レジストに必要形状を露光し、現像して外形形成用レジスト４２８をパターニングする（工程４０７）。外形形成用レジスト４２８の厚さは、電鋳加工すべき部品の本体の厚さより厚くなるように設定する。外形形成用レジスト４２８の厚さは、軸部品４２６のフランジ部４２６ｆの上面より厚くなるように形成されるのがよい。外形形成用レジスト４２８の厚さは、電鋳加工すべき部品の本体の厚さによって異なるけれども、１００μｍから数ｍｍの範囲であるのが好ましい。本発明の方法では、前記工程４０６を行った後に前記工程４０７を行ってもよいし、或いは、これらの工程を行う順番を逆にして、前記工程４０７を行った後に前記工程４０６を行ってもよい。

図１７（ｃ）を参照すると、軸部品４２６を挿入した基板４２０に電鋳加工を行い、外形形成用レジスト４２８と軸部品４２６との間に電鋳金属部４３０を形成する（工程４０８）。

機械部品を形成する場合において、電鋳金属部４３０を形成する電鋳金属は、例えば、レバーなどの構造物に使用する場合、摺動性を考慮し、硬度が高いクロム、ニッケル、鉄、および、これらを含む合金で構成することができる。また、構造物の内面を硬度が高いクロム、ニッケル、鉄、およびこれらを含む合金で構成し、構造物の表面を硬度が低い錫、亜鉛、およびこれらを含む合金などで構成するように、特性が異なる二種以上の金属又は合金で電鋳金属部４３０を構成することができる。また、電鋳金属部４３０は、構造物の表面と内面で金属の組成が異なる合金などで構成することができる。

軸部品４２６のフランジ部４２６ｆは、電鋳金属部４３０の中に配置されるのがよい。フランジ部４２６ｆを電鋳金属部４３０の中に配置することにより、軸部品４２６と電鋳金属部４３０との間の接触面積を増やすことができ、軸部品４２６が電鋳金属部４３０から抜けるのを阻止するだけでなく、軸部品４２６が電鋳金属部４３０に対して回転するのを効果的に阻止することができる。すなわち、フランジ部４２６ｆは、軸部品４２６と一体に形成される電鋳金属部４３０の中に位置するように構成された、軸部品４２６の抜け、軸部品４２６の回転などを阻止するための輪郭形状を構成している。

次に、図１８を参照して、電鋳加工の具体的な方法を説明する。図１８（ａ）を参照すると、電鋳すべき金属材料により電鋳液を選ぶ必要があり、例えば、ニッケル電鋳加工ではスルファミン酸浴、ワット浴、硫酸浴などが用いられる。スルファミン酸浴を用いてニッケル電鋳を行う場合は、電鋳加工用の処理槽７４０の中にスルファミン酸ニッケル水和塩を主成分とするスルファミン酸浴電鋳液７４２を入れる。電鋳すべき金属材料からなる陽極電極７４４をスルファミン酸浴７４２の中に浸漬させる。例えば、陽極電極７４４は、電鋳すべき金属材料からなるボールを複数用意し、この金属ボールをチタン等で作った金属製のかごの中に入れることにより構成することができる。電鋳加工を行うべき電鋳型７４８をスルファミン酸浴７４２の中に浸漬させる。

図１８（ｂ）を参照すると、電鋳型７４８を電源７６０の陰極に接続し、陽極電極７４４を電源７６０の陽極に接続すると、陽極電極７４４を構成する金属がイオン化してスルファミン酸浴中を移動し、電鋳型７４８の型キャビティ７４８ｆ上に金属として析出する。配管（図示せず）を介して弁（図示せず）を処理槽７４０に接続することができる。濾過用フィルタを配管に設け、処理槽７４０から排出されるスルファミン酸浴を濾過することができる。濾過されたスルファミン酸浴は、注入用配管（図示せず）から処理槽７４０の中に戻すことができる。

図１７（ｄ）を参照すると、基板４２０から外形形成用レジスト４２８をリムーブし、電鋳部品４３２を取り外す（工程４０９）。電鋳部品４３２は、軸部品４２６と、軸部品４２６に一体化された電鋳金属部４３０とを含む。軸部品４２６のフランジ部４２６ｆが電鋳金属部４３０の中に配置されるので、軸部品４２６が電鋳金属部４３０から分離するおそれがない。

なお、変形例として、作動レバーの本体部（止め石支持アーム、片作動ばね、片作動ばね支持アーム、復帰ばね）のみを電鋳加工により製造し、その後に、後工程として軸部品（作動レバー軸、および、復帰ばね調整偏心ピン）を固定することもできる。この方法を用いると、電鋳加工の工程を簡略化することが可能になる。

上記の電鋳部品の製造方法を用いると、電鋳加工により作製した電鋳金属部に他部品を打ち込む必要がなく、或いは、電鋳金属部に他部品を接着などにより取付ける必要がない。したがって、上記の電鋳部品の製造方法を用いることにより、金属部品と金属部品（軸など）を一体電鋳成形することができるし、また、金属部品と非導電性の部品（軸など）を一体電鋳成形することができる。すなわち、上記の電鋳部品の製造方法の製造方法を用いることにより、金属部品と金属部品、或いは、金属部品と非導電性の部品が一体電鋳成形されるので、後付け工程を用意することなしに、複数部品からなる機械部品を形成することができる。さらに、電鋳の加工条件を調整することにより、電鋳部品に生じる内部応力を調整することができ、非導電性の部品の取付け圧力をコントロールし、電鋳部品を破損させることなく強固に非導電性の部品を電鋳金属部に固定することができる。

さらに、電鋳金属部に固定すべき部品の固定部に、半径方向に凹凸する種々の輪郭形状を設けることができる。このような半径方向に凹凸する輪郭形状として、例えば、フランジ部、波状部、雄ねじ部、ローレット部、丸カット部、溝部などを挙げることができる。このような電鋳金属部に固定すべき部品に設けられた半径方向に凹凸する輪郭形状を、それぞれ、１つ、或いは、複数個、或いは、前記輪郭形状の何種類かを組み合わせて複数個、電鋳金属部に固定すべき部品の固定部に設けることにより、電鋳金属部に固定すべき部品が電鋳金属部から外れたり、電鋳金属部から抜けたり、電鋳金属部に対して滑ったりするのを確実かつ効果的に防止することができる。すなわち、半径方向に凹凸する輪郭形状を電鋳金属部の中に配置することにより、電鋳金属部に固定すべき部品と電鋳金属部との間の接触面積を増やすことができ、電鋳金属部に固定すべき部品が電鋳金属部から抜けるのを阻止するだけでなく、電鋳金属部に固定すべき部品が電鋳金属部に対して回転するのを効果的に阻止することができる。すなわち、電鋳金属部に固定すべき部品に設けられた半径方向に凹凸する輪郭形状は、電鋳金属部に固定すべき部品と一体に形成される電鋳金属部の中に位置するように構成された、電鋳金属部に固定すべき部品の抜け、電鋳金属部に固定すべき部品の回転などを阻止するための輪郭形状を構成している。

（３・２）作動レバーを作るための第二の製造工程：
本発明のデテント脱進機の実施形態において、止め石１３２は、作動レバー１３０と一体に形成することができる。以下に説明する第二の製造工程によって、止め石１３２は作動レバー１３０と一体に電鋳加工により形成することができる。

図３４（ａ）を参照すると、電鋳部品の製造のために用いる基板５０１を準備する。基板５０１を構成する材料は、シリコン、ガラス、プラスチック、ステンレス鋼、アルミニウムなどである。基板５０１の大きさは、例えば、２インチ（約５０ｍｍ）から８インチ（約２００ｍｍ）である。基板５０１の厚さは、例えば、４インチシリコン基板の場合、３００μｍから６２５μｍの厚さのものが用いられる。

基板５０１の表面に導電層５０２を堆積させ、導電層５０２の上にフォトレジスト５０３を堆積させる。導電層５０２の厚さは、数１０ｎｍから数μｍの範囲であるのが好ましい。フォトレジスト５０３の厚さは、数μｍから数ｍｍの範囲である。フォトレジスト５０３の厚さは、作製する電鋳部品の１段目（すなわち、電鋳型５１１の１段目）の厚さとほぼ等しいのが好ましい。フォトマスク（図示せず）を用いて不溶部５０３ａと、可溶部５０３ｂを形成する。導電層５０２を構成する材料は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）などである。フォトレジスト５０３は、ネガ型であってもよいし、或いは、ポジ型であってもよい。フォトレジスト５０３は、エポキシ系の樹脂をベースとする化学増幅型のフォトレジストを用いるのが好ましい。

導電層５０２は、スパッタリング法で形成することもできるし、真空蒸着法で形成することもできる。フォトレジスト５０３を堆積させる方法は、スピンコートであってもよいし、ディップコートであってもよいし、スプレーコートであってもよいし、或いは、複数のシート状のフォトレジストフィルムを重ね合わせて形成してもよい。不溶部５０３ａと、可溶部５０３ｂを形成するために、フォトマスク（図示せず）を通して紫外光を露光する。フォトレジスト５０３が化学増幅型であるときは、紫外光を露光した後、ＰＥＢ（Post Exposure Bake）を行う。

図３４（ｂ）を参照すると、次に、フォトレジスト５０３の現像を行わずに、金属層５０５を堆積させる。金属層５０５の厚さは、数ｎｍから数μｍの範囲であるのが好ましい。フォトレジスト５０３がポジ型であり、電鋳型５１１の２段目以降の工程で不溶部５０３ａに露光光が照射されるパターンの場合、金属層５０５の厚さは、数１０ｎｍ以上であり、露光光が不溶部５０３ａに照射さらない遮光性を有していればよい。金属層５０５の材料は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）などである。金属層５０５を堆積させる方法は、スパッタリング法や真空蒸着法などの気相堆積法であってもよいし、或いは、無電解めっきなどのウエット法を用いてもよい。

図３４（ｃ）を参照すると、次に、金属層５０５の上にフォトレジスト５０６を堆積させ、不溶部５０６ａと、可溶部５０６ｂを形成する。フォトレジスト５０６の厚さは、数μｍから数ｍｍの範囲であり、作製する電鋳部品の２段目（すなわち、電鋳型５１１の２段目）の厚さとほぼ等しいのが好ましい。フォトレジスト５０６は、ネガ型であってもよいし、或いは、ポジ型であってもよい。フォトレジスト５０６は、エポキシ系の樹脂をベースとする化学増幅型のフォトレジストを用いるのが好ましい。フォトレジスト５０６は、フォトレジスト５０３と同じものであってもよいし、フォトレジスト５０３と異なるものであってもよい。フォトレジスト５０６を堆積させる方法は、スピンコートであってもよいし、ディップコートであってもよいし、スプレーコートであってもよいし、或いは、複数のシート状のフォトレジストフィルムを重ね合わせて形成してもよい。不溶部５０６ａと、可溶部５０６ｂを形成するために、フォトマスク（図示せず）を通して紫外光を露光する。フォトレジスト５０６が化学増幅型であるときは、紫外光を露光した後、ＰＥＢ（Post Exposure Bake）を行う。

図３４（ｃ）を参照すると、次に、基板５０１を現像液の中に浸漬させて、フォトレジスト５０３およびフォトレジスト５０６を現像する。このとき、可溶部５０３ｂ上の電極５０５は、リフトオフ加工によって除去され、不溶部５０３ａ上の電極５０５ａが残り、電鋳型５１１を得ることができる。可溶部５０３ｂ、可溶部５０６ｂ、および、不要な電極５０５を除去するために、超音波振動を与えながら現像を行ってもよい。

図３５を参照すると、電鋳液５２２が電鋳槽に満たされる。電鋳型５１１と電極５２３が電鋳液５２２の中に浸漬される。ニッケルを析出させる場合、電鋳液５２２としてスルファミン酸ニッケル水和塩を含む水溶液を使用する。ニッケルを析出させる場合、電極５２３の材料はニッケルである。電鋳型５１１の導電層５０２は、電源５２５に接続される。電源５２５の電圧によって、導電層５０２を通して電子が供給され、導電層５０２から金属が析出される。析出された金属は、基板５０１の厚さ方向に成長する。

図３６（ａ）を参照すると、電鋳物５３０ａが導電層５０２から析出される。このとき、電流は電極５０５ａに流れないので、電鋳物５３０ａは電極５０５ａ上に析出しない。

図３６（ｂ）を参照すると、電流は電極５０５ａに流れないので、電鋳物５３０ａは電極５０５ａ上に析出しない。電極５０５ａと電鋳物５３０ａが接触すると、電極５０５ａに電流が流れて、電鋳物５３０ａが電極５０５ａ上に析出する。

図３６（ｃ）を参照すると、所望の厚さまで電鋳物５３０ａを電極５０５ａ上に析出させた後、研磨工程によって電鋳物５３０ａの厚さを揃える。電鋳工程において、電鋳物５３０ａの厚さを制御することが可能であるときは、研磨工程を行わなくてもよい。

図３６（ｄ）を参照すると、電鋳物５３０ａを電鋳型５１１から取り出して電鋳部品５３０を得る。電鋳物５３０ａを電鋳型５１１から取り出す工程は、不溶部５０３ａ、不溶部５０６ａを有機溶剤で溶かすことによって行うこともできるし、或いは、基板５０１から分離する力を電鋳物５３０ａに加えて、電鋳物５３０ａを基板５０１から物理的に引き剥がすこともできる。導電層５０２および電極５０５ａが電鋳物５３０ａに付着しているときは、ウエットエッチングや研磨などにより、導電層５０２および電極５０５ａを電鋳物５３０ａから除去することができる。

以上説明した工程を適用することにより、電鋳型５１１の１段目に止め石１３２を形成し、電鋳型５１１の２段目に作動レバー１３０を形成することができる。すなわち、電鋳型５１１の１段目に止め石１３２を形成し、かつ、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０とを電鋳型５１１の２段目に一体に形成することができる。或いは、電鋳型５１１の１段目に止め石１３２を形成し、かつ、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３とを電鋳型５１１の２段目に一体に形成することができる。以上説明した工程により、アスペクト比が１から５である片作動ばね１４０を作動レバー１３０に一体に形成することができる。

なお、上述した同様の製造方法により、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０との少なくとも２つが同時に形成されていればよく、それらの全てが同時に形成されていなくてもよい。

（３・３）作動レバーを作るための第三の製造工程（ボッシュプロセス）：
以下に説明する第三の製造工程によって、止め石支持アーム１３１と、片作動ばね１４０と、片作動ばね支持アーム１３３と、復帰ばね１５０との少なくとも２つを同時に形成することができる。図３７を参照すると、第三の製造工程によって、基板６２０を用いて作動レバー６３０を形成することができる。

図３７および図３８を参照すると、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３とのパターンが形成されたフォトマスク（図示せず）を用いて、フォトレジスト６１１に紫外線やＸ線等の露光光を照射し、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３とにあたる部分のフォトレジスト６１１を硬化させる。そして、未硬化のフォトレジスト６１１の部分を除去し、エッチングパターンが完成する。

図３８では、図３７の線Ｚ−Ｚに示す断面の部分において、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３とに対応した位置のフォトレジスト６１１を２箇所表示している。本実施形態では、活性層６１０ｂに谷部６１５を連続形成しながらエッチングすることにより、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３と形成する。以下、図３９から図４４を参照して、第三の製造工程を詳細に説明する。

図３９は、一回目のＳｉエッチング工程を説明する図である。一回のＳｉエッチング工程で削るＳｉの厚みはＴ１とする。ここで、隣接するフォトレジスト６１１間には凹部６１４が形成される。また、フォトレジスト６１１の無い、Ｓｉ面の露出している部分がエッチングされるが、等方性エッチングを行うことで、フォトレジスト６１１の下にある活性層６１０ｂの側面６１７も部分的にエッチングされ、谷部６１５が形成される。エッチングする厚みＴ１を制御することで、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３とに対応する側面６１７の谷部６１５の半径Ｒ１を任意の大きさにできる。このようにして、一回の等方性エッチングにより一つの山部６２６ｍに相当する一つの谷部６１５が形成される。

図４０は、保護膜を形成した図である。二回目のエッチングでフォトレジスト６１１の下にある活性層６１０ｂが図３９の状態以上に削られないよう、一回目のエッチング面（凹部６１４）に保護膜６１９を形成する。保護膜６１９は、例えば、フッ化炭素などで形成されている。保護膜６１９は、Ｃ₄Ｆ₈ガスなどを用いてＣＶＤ法によりＳｉの表面に膜を形成する。

図４１は、凹部６１４の底面６２１の保護膜６１９のみを除去した図である。凹部６１４の側面（側面６１７）の保護膜６１９を残し、底面６２１の保護膜６１９のみを除去して活性層６１０ｂ（Ｓｉ面）を露出させる。このように底面６２１の保護膜６１９のみを除去するには、例えば、ＳＦ₆ガスを用いてエッチングを行うと、イオンが底面６２１の保護膜６１９に対して鉛直方向から衝突し、そのイオン衝撃により底面６２１の保護膜６１９のみが除去される。

図４２は、二回目のＳｉエッチング工程を説明する図である。図３９と同様に、Ｓｉの等方性エッチングを行う。すると、保護膜６１９が形成されていない底面６２１のＳｉが等方エッチングされる。この後、図４０に示す工程から図４２に示す工程を所定の回数行う。

図４３は、Ｓｉエッチング、保護膜形成、底面の保護膜除去をＢＯＸ層（ＳｉＯ₂面）６１０ｃに到達するまで繰り返し行った図である。図３９に示すＳｉエッチング工程、図４０に示す保護膜形成工程、図４１に示す保護膜除去工程を、基板６１０のＢＯＸ層６１０ｃに達するまで繰り返し行う。

図４４は、保護膜６１９を全て除去した図である。保護膜６１９は、酸素プラズマアッシングによって除去する。活性層６１０ｂの側面６１７に形成された保護膜６１９を除去する。この保護膜６１９が除去された部分は、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３とに対応する。

以上説明したように、第三の製造工程によって、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３とを同時に形成することができる。すなわち、上記の第三の製造工程を適用することによって、デテント脱進機の構成部品である作動レバーを高い精度で効率的に製造することができる。

（３・４）作動レバーを作るための第四の製造工程（クライオプロセス）：
以下に説明する第四の製造工程によって、止め石支持アーム６３１と、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３と、復帰ばね６５０との少なくとも２つを同時に形成することができる。

具体的には、先ず、上述した図３８に示すように、チャンバー内において、片作動ばね６４０と、片作動ばね支持アーム６３３とに対応した位置のフォトレジスト６１１を形成する。そして、チャンバー内を極低温（例えば、−１９３度）に設定した状態で、ＳＦ₆ガスとＯ₂とからなるエッチングガスをフォトレジスト６１１に照射する。

これにより、フォトレジスト６１１で覆われていない活性層６１０ｂの部分が直線状にエッチングされることになる（図示せず）。すなわち、上述した第三の製造工程では、活性層６１０ｂにおけるエッチング部分の側面において谷部６１５が連続して波状に形成されることになるが、第四の製造工程では、活性層６１０ｂにおけるエッチング部分の側面が直線状に形成される。上記の第四の製造工程を適用することによって、デテント脱進機の構成部品である作動レバーを高い精度で効率的に製造することができる。

（４）本発明のデテント脱進機の作動：
（４・１）作動その１：
図１９を参照すると、てんぷ１２０が自由振動することにより、大つば１１６が矢印Ａ１の方向（反時計回り方向）に回転する。

（４・２）作動その２：
図２０を参照すると、大つば１１６に固定された外し石１２４が矢印Ａ１の方向（反時計回り方向）に回転して、片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇに接触する。

（４・３）作動その３：
図２１を参照すると、外し石１２４が矢印Ａ１の方向（反時計回り方向）に回転し、片作動ばね１４０が、外し石１２４に押されて、ばね受突起部１３０Ｄを押す。すると、作動レバー１３０は、矢印Ａ２の方向（時計回り方向）に回転する。がんぎ車１１０の歯部１１２の先端部は、止め石１３２の接触平面１３２Ｂの上を摺動する。

（４・４）作動その４：
図２２を参照すると、作動レバー１３０が矢印Ａ２の方向（時計回り方向）に回転する作動に伴い、作動レバー１３０の止め石支持アーム１３１は調整偏心ピン１６１から離れる。

（４・５）作動その５：
図２３を参照すると、ぜんまいが巻き戻されるときの回転力により回転する表輪列により、がんぎ車１１０は回転され、がんぎ車１１０は駆動される。がんぎ車１１０が矢印Ａ４の方向（時計回り方向）に回転することにより、がんぎ車１１０の歯部１１２の先端部は振り石１２２に接触し、てんぷ１２０に回転力を伝える。大つば１１６が矢印Ａ１の方向（反時計回り方向）に所定の角度まで回転すると、外し石１２４は、片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇから離れる。
（４・６）作動その６：
図２４を参照すると、復帰ばね１５０のばね力により、作動レバー１３０は、矢印Ａ３の方向（反時計回り方向）に回転して、当初の位置に戻ろうとする。止め石１３２の接触平面１３２Ｂに接触していた、がんぎ車１１０の歯部１１２の先端部は止め石１３２から外れる（がんぎ車１１０は解除される）。復帰ばね１５０のばね力により、作動レバー１３０は、矢印Ａ３の方向（反時計回り方向）に回転して、作動レバー１３０の止め石支持アーム１３１は調整偏心ピン１６１に向かって押し戻される。

（４・７）作動その７：
図２５を参照すると、てんぷ１２０が矢印Ａ１の方向（反時計回り方向）に自由振動することにより、がんぎ車１１０の次の歯部１１２の先端部は止め石１３２の接触平面１３２Ｂに落下する。復帰ばね１５０のばね力により、作動レバー１３０の止め石支持アーム１３１は調整偏心ピン１６１に接触する。

（４・８）作動その８：
図２６を参照すると、てんぷ１２０が自由振動することにより、大つば１１６が矢印Ａ５の方向（時計回り方向）に回転する。

（４・９）作動その９：
図２７（ａ）を参照すると、大つば１１６に固定された外し石１２４が矢印Ａ５の方向（時計回り方向）に回転して、片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇに接触する。外し石１２４が矢印Ａ５の方向（時計回り方向）に回転し、片作動ばね１４０が、外し石１２４に押される。

図２７（ｂ）を参照すると、作動ばね１４０は、作動レバー１３０のばね受突起部１３０Ｄから離れる。したがって、作動レバー１３０が静止した状態で、片作動ばね１４０のみが、外し石１２４により矢印Ａ６の方向（反時計回り方向）に押しだされる。

（４・１０）作動その１０：
図２８を参照すると、大つば１１６が矢印Ａ５の方向（時計回り方向）に所定の角度まで回転すると、外し石１２４は、片作動ばね１４０の外し石接触部１４０Ｇから離れる。すると、片作動ばね１４０は、当初の位置に戻り、てんぷ１２０は自由振動する。

（４・１１）作動の繰り返し：
以下同様に、図１９に示す状態から図２８に示す状態に至る作動を繰り返すことができる。

（５）本発明のデテント脱進機を備えた機械式時計：
さらに、本発明は、機械式時計の動力源を構成するぜんまいと、前記ぜんまいが巻き戻されるときの回転力により回転する表輪列と、前記表輪列の回転を制御するための脱進機とを備えるように構成された機械式時計において、前記脱進機が、上記のデテント脱進機で構成されることを特徴としている。この構成により、薄型で調整が容易な機械式時計を実現することができる。また、本発明の機械式時計は、脱進機の力の伝達効率が良いので、ぜんまいを小さくすることができ、或いは、同じサイズの香箱を用いて長時間持続の時計を実現することができる。

図３１を参照すると、本発明の機械式時計において、ムーブメント（時計の駆動部分を含む機械体）３００は、ムーブメントの基板を構成する地板１７０を有する。ムーブメントの「３時方向」には、巻真３１０が配置されている。巻真１１０が、地板１７０の巻真案内穴に回転可能に組み込まれる。てんぷ１２０、がんぎ車１１０、作動レバー１３０を含むデテント脱進機と、四番車３２７、三番車３２６、二番車３２５、香箱車３２０を含む表輪列は、ムーブメント１００の「表側」に配置される。おしどり、かんぬき、かんぬき押さえを含む切換装置（図示せず）は、ムーブメント３００の「裏側」に配置される。さらに、香箱車３２０の上軸部を回転可能なように支持する香箱受（図示せず）と、三番車３２６の上軸部、四番車３２７の上軸部、がんぎ車１１０の上軸部を回転可能なように支持する輪列受（図示せず）と、作動レバー１３０の上軸部を回転可能なように支持する作動レバー受（図示せず）と、てんぷ１２０の上軸部を回転可能なように支持するてんぷ受（図示せず）とが、ムーブメント３００の「表側」に配置される。

二番車３２５が、香箱車３２０の回転により回転するように構成される。二番車３２５は二番歯車と、二番かなとを含む。香箱歯車は二番かなと噛み合うように構成される。三番車３２６が二番車３２５の回転により回転するように構成される。三番車３２６は三番歯車と、三番かなとを含む。四番車３２７が、三番車３２６の回転により１分間に１回転するように構成される。四番車３２７は四番歯車と、四番かなとを含む。三番歯車は四番かなと噛み合うように構成される。四番車３２７の回転により、がんぎ車１１０は、作動レバー１３０に制御されながら回転するように構成される。がんぎ車１１０は、がんぎ歯車と、がんぎかなとを含む。四番歯車は、がんぎかなと噛み合うように構成される。分車３２９が、香箱車３２０の回転により回転するように構成される。香箱車３２０、二番車３２５、三番車３２６、四番車３２７、分車３２９は表輪列を構成する。

二番車３２５に取り付けられた筒かな３２９の回転に基づいて日の裏車３４０が回転するように構成される。日の裏車３４０の回転に基づいて筒車（図示せず）が回転するように構成される。二番車３２５の回転により、三番車３２６が回転するように構成される。三番車３２６の回転により、四番車３２７は１分間に１回転するように構成される。筒車は１２時間に１回転するように構成される。スリップ機構が二番車３２５と筒かな３２９との間に設けられる。二番車３２５は１時間に１回転するように構成される。

本発明のデテント脱進機においては、てんぷのエネルギー損失を低減することができ、デテント脱進機を搭載した時計ムーブメントの薄型化を図ることができる。本発明のデテント脱進機においては、縦姿勢時において、姿勢の差による作動レバーの慣性モーメントの影響を小さくすることができる。したがって、本発明のデテント脱進機は、機械式の腕時計、マリンクロノメータ、機械式の置時計、機械式の壁掛け時計、大型の機械式の街頭時計、及び、本発明を搭載したトゥールビヨン脱進機及びそれを有する腕時計などに広く適用することができる。本発明のデテント脱進機を搭載した機械式時計は、ぜんまいを小さくすることができ、或いは、同じサイズの香箱を用いて長時間持続の時計を実現することができる。

１００ デテント脱進機
１１０ がんぎ車
１２０ てんぷ
１２２ 振り石
１２４ 外し石
１３０ 作動レバー
１３１ 止め石支持アーム
１３２ 止め石
１３３ 片作動ばね支持アーム
１４０ 片作動ばね
１４１ 片作動ばね規制レバー
１５０ 復帰ばね
１６２ 復帰ばね調整偏心ピン
１７０ 地板
３００ ムーブメント（機械体）
３２０ 香箱車
３２５ 二番車
３２６ 三番車
３２７ 四番車

Claims (13)

1. がんぎ車（１１０）と、がんぎ車（１１０）の歯部と接触可能な振り石（１２２）および外し石（１２４）を有するてんぷ（１２０）と、がんぎ車（１１０）の歯部と接触可能な止め石（１３２）を有する作動レバー（１３０）とを含む時計用のデテント脱進機（１００）において、
   前記作動レバー（１３０）は、前記止め石（１３２）を支持する止め石支持アーム（１３１）と、前記外し石（１２４）と接触可能な部分を含む片作動ばね（１４０）と、前記片作動ばね（１４０）の先端にある外し石接触部（１４０Ｇ）の位置を定めるための片作動ばね支持アーム（１３３）とを有しており、
   前記作動レバー（１３０）は、前記止め石（１３２）が、前記がんぎ車（１１０）に近づく方向と、前記止め石（１３２）が、前記がんぎ車（１１０）から遠ざかる方向の２方向に回転可能なように構成されており、
   前記片作動ばね（１４０）は、前記てんぷ（１２０）の回転中心（１２０Ａ）と、前記作動レバー（１３０）の回転中心（１３０Ａ）とを結ぶ直線である作動基準直線（１２９）を基準としたときに、前記がんぎ車（１１０）がある側と反対側において、前記片作動ばね（１４０）の先端部分が、前記てんぷ（１２０）の回転中心（１２０Ａ）から遠ざかるにつれて、前記作動基準直線（１２９）からの距離が増加するように角度をなして配置されており、
   前記片作動ばね（１４０）は、前記止め石支持アーム（１３１）と、前記片作動ばね支持アーム（１３３）との間に配置されている、
   ことを特徴とするデテント脱進機。
2. 前記片作動ばね支持アーム（１３３）の下面と、前記片作動ばね（１４０）の下面は、デテント脱進機がんぎ車（１１０）の回転中心軸線（１１０Ａ）、および、前記てんぷ（１２０）の回転中心軸線に対して垂直な１つの平面内に配置されることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
3. 前記片作動ばねの変形ばね部（１４０Ｂ）の前記外し石接触部（１４０Ｇ）に続く部分は、前記てんぷ（１２０）の回転中心（１２０Ａ）と、前記作動基準直線（１２９）に対して、５度から４５度の範囲内にある角度（ＤＧ）をなすように構成されることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
4. 前記止め石支持アーム（１３１）は、前記作動基準直線（１２９）に対して、前記片作動ばね支持アーム（１３３）と反対の側に位置することを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
5. 前記止め石支持アーム（１３１）の幅は、前記片作動ばね支持アーム（１３３）の幅より大きく形成され、或いは、前記止め石支持アーム（１３１）の厚さは、前記片作動ばね支持アーム（１３３）の厚さより厚く形成されることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
6. 前記止め石支持アーム（１３１）の幅は、前記片作動ばね支持アーム（１３３）より細く形成され、かつ、前記片作動ばね支持アーム（１３３）は肉抜きされた部分を含むことを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
7. 前記止め石支持アーム（１３１）、および、前記片作動ばね支持アーム（１３３）のうちの少なくとも一方は、前記作動レバー（１３０）の慣性モーメントを低減させるために、肉抜きされた部分を含むことを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
8. 前記片作動ばね支持アーム（１３３）は、前記作動基準直線（１２９）からみて凸になるような１以上の曲線部を含む形状に形成されることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
9. 前記片作動ばね支持アーム（１３３）は、先端部分から根元部分に向うにつれて断面積が大きくなるように構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
10. 前記デテント脱進機は、さらに、前記止め石（１３２）が前記がんぎ車（１１０）に近づく方向に前記作動レバー（１３０）を回転させる力を前記作動レバー（１３０）に加えるための復帰ばね（１５０）を備え、
    前記復帰ばね（１５０）は、前記作動レバー（１３０）の回転中心（１３０Ａ）に対して、前記止め石支持アーム（１３１）および前記片作動ばね支持アーム（１３３）の反対側に位置するように配置されていることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
11. 前記デテント脱進機は、さらに、前記止め石（１３２）が前記がんぎ車（１１０）に近づく方向に前記作動レバー（１３０）を回転させる力を前記作動レバー（１３０）に加えるための復帰ばね（１５０）を備え、
    前記復帰ばね（１５０）の初期位置を調整するための復帰ばね調整偏心ピン（１６２）が設けられることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
12. 前記片作動ばね（１４０）の外し石接触部（１４０Ｇ）を前記片作動ばね支持アーム（１３３）に押し付けるための片作動ばね規制レバー（１４１）が前記作動レバー（１３０）に設けられることを特徴とする、請求項１に記載のデテント脱進機。
13. 機械式時計の動力源を構成するぜんまいと、前記ぜんまいが巻き戻されるときの回転力により回転する表輪列と、前記表輪列の回転を制御するための脱進機とを備えるように構成された機械式時計において、前記脱進機が、請求項１から１２のいずれか１項に記載のデテント脱進機で構成されることを特徴とする機械式時計。

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