JP5356798B2 - ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料及びそれを用いた絶縁電線 - Google Patents
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Description
ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料は、NMPなどを主成分とする反応溶媒中で、ポリアミドイミド樹脂を構成するイソシアネート成分と酸成分とをほぼ等モルにて、窒素ガス気流下で脱炭酸、縮合反応させて得られる。このようなポリアミドイミド樹脂絶縁塗料は、アミド結合とイミド結合の間にある分子構造単位が比較的規則的に並んで形成され、水素結合やπ−π相互作用などで僅かながら結晶性を有する。
ポリアミドイミド樹脂のイソシアネート成分としては、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(H−MDI)、キシシレンジイソシアネート(XDI)、水添XDIなどの脂肪族ジイソシアネート類や、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルスルホンジイソシアネート(SDI)などのジイソシアネート類などが挙げられる。また、トリフェニルメタントリイソシアネートなどの多官能イソシアネートやポリメリックイソシアネート、TDIなどの多量体などでも良い。TDIやMDIの異性体を含むものも同じ効果をもたらすことができる。但し、MDIとTMAとから合成されるポリアミドイミド樹脂において、200℃以上の耐熱性や機械的特性などの優れた特性レベルを維持させるためには、芳香族ジイソシアネート類が望ましい。
ポリアミドイミド樹脂の酸成分としては、トリメリット酸(TMA)、またはトリメリット酸の誘導体のうちの三塩基酸が挙げられる。また、酸成分中には、イソフタル酸、テレフタル酸などのジカルボン産類、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、3,3’4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、3,3’4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、4,4’−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)等の芳香族テトラカルボン酸二無水物類やブタンテトラカルボン酸二無水物や5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物類、トリス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート(CIC酸)などのトリカルボン酸類、トリメシン酸などを一部添加することもできる。
ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料に含有され、ポリアミドイミド樹脂の末端基であるイソシアネート基を封止する封止剤としては、カルボン酸が有効である。封止剤としてカルボン酸を用いることにより、ポリアミドイミド樹脂絶縁塗料の合成時に、カルボン酸がポリアミドイミド樹脂の末端基であるイソシアネート基とアミド結合を作り出し、このアミド結合が熱に強いため、焼付け時において封止剤が解離せず、イソシアネート基が再生成されることを防止できる。そのため、焼付け時において脱炭酸反応が起きず、発泡の原因物質である二酸化炭素を発生しないため、外観が良好なポリアミドイミド樹脂絶縁皮膜を得ることができる。
図1に本発明に係る絶縁電線の構造例を示す。
この絶縁電線は、導体1にポリアミドイミド樹脂絶縁皮膜2を形成したものであり、導体1の周囲に上記実施の形態で説明したポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を塗布、焼付けすることにより得られる。
この絶縁電線は、導体1の表面にポリイミド樹脂絶縁塗料、ポリエステル樹脂絶縁塗料、ポリエステルイミド樹脂絶縁塗料、H種ポリエステルイミド樹脂絶縁塗料などからなる中間絶縁皮膜3を形成し、該中間絶縁皮膜3上にポリアミドイミド樹脂絶縁皮膜2を形成したものである。なお、中間絶縁皮膜3は、上記樹脂絶縁塗料に、シリカ微粒子などを含むオルガノゾルが分散されてなる耐部分放電性絶縁塗料を塗布、焼付けして形成した耐部分放電性能の高い耐部分放電性絶縁皮膜であってもよい。
各実施例、比較例の絶縁電線を以下のようにして製造した。
まず、攪拌機、還流冷却管、窒素流入管、温度計を備えたフラスコに、イソシアネート成分として255.0g(1.02モル)のMDI、酸成分として192.0g(1.0モル)のTMA、及び溶剤として700gのNMPを投入し、窒素雰囲気中で攪拌しながら約1時間で140℃まで加熱した。平均分子量約22000のポリアミドイミド樹脂溶液が得られるように、この温度で2時間反応させて合成を行った後、下記実施例、及び比較例に示す封止剤をポリアミドイミド樹脂溶液に混合することにより、イソシアネート成分の末端基を封止して合成反応を停止させる。放冷後にDMFで希釈し、樹脂分濃度(不揮発分)が約30重量%のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を得た。
約1100gのポリアミドイミド樹脂溶液に、封止剤としてp−ビニル安息香酸30gを混合して合成反応を停止させ、放冷後にDMFで希釈して樹脂分濃度(不揮発分)が約30重量%のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を得た。
約1100gのポリアミドイミド樹脂溶液に、封止剤としてp−ビニル安息香酸15gを添加し、5分ほど反応させた後、メタノール15gをさらに添加して合成反応を停止させ、放冷後DMFで希釈して樹脂分濃度(不揮発分)が約30重量%のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を得た。
約1100gのポリアミドイミド樹脂溶液に、封止剤としてp−ビニル安息香酸10gを添加し、5分ほど反応させた後、メタノール20gを混合して合成反応を停止させ、放冷後DMFで希釈して樹脂分濃度(不揮発分)が約30重量%のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を得た。
約1100gのポリアミドイミド樹脂溶液に、封止剤としてメタノール30gを混合して合成反応を停止させ、放冷後DMFで希釈して樹脂分濃度(不揮発分)が約30重量%のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を得た。
約1100gのポリアミドイミド樹脂溶液に、封止剤としてベンジルアルコール30gを混合して合成反応を停止させ、放冷後NMPで希釈して樹脂分濃度(不揮発分)が約30重量%のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を得た。
2 ポリアミドイミド絶縁皮膜
3 中間絶縁皮膜
Claims (3)
- ポリアミドイミド樹脂を構成するイソシアネート成分と酸成分とを溶剤中で反応させて得られるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料であって、前記ポリアミドイミド樹脂は、末端基であるイソシアネート基が不飽和二重結合を有するカルボン酸からなる封止剤にて封止されて前記ポリアミドイミド樹脂の末端が二重結合を持つことを特徴とするポリアミドイミド樹脂絶縁塗料。
- 前記カルボン酸は、p−ビニル安息香酸である請求項1に記載のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料。
- 請求項1又は2に記載のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を、導体上に塗布してポリアミドイミド樹脂絶縁皮膜が形成されていることを特徴とする絶縁電線。
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