JP5355524B2 - 光起電力素子 - Google Patents
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Description
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、光起電力層の材料として金属酸化物を用いて、簡便な方法で製造できる光起電力素子を提供することを目的とする。
前記透光性基板は、透光性を有するものであれば特に限定されず、ソーダ石灰ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。透光性基板は、光起電力素子の基板として充分な強度を有していればよいが、透光性を確保するため、厚さは1mm〜5mmが好ましい。
前記透明導電膜層は、酸化チタン層から伝導電子を集める集電極であって、光を透す集電極として機能する。該透明導電膜としては、フッ素ドープ二酸化スズ(FTO)膜、スズドープ酸化インジウム(ITO)膜、酸化亜鉛(ZnO)膜などが挙げられる。透明導電膜は、スパッタリング法などにより形成することができる。なお、透光性基板及び透明導電膜として、市販の透明導電酸化物被覆ガラス(例えば、SOLARONIX社、「TCO22−7」、「TCO−15」)などを用いてもよい。
前記酸化チタン層は、光起電力層で発生した伝導電子を受け取る層である。前記酸化チタン層の厚さは、10nm以上が好ましく、より好ましくは100nm以上、さらに好ましくは1μm以上であり、30μm以下が好ましく、より好ましくは20μm以下が好ましく、さらに好ましくは15μm以下である。酸化チタン層の厚さが10nm以上であれば、n型半導体としての機能がより良好となり、30μm以下であれば、下地(透明導電膜層)から剥離しにくくなり、より容易に形成することができる。
本発明の光起電力素子においては、前記透明導電膜層と前記酸化チタン層との間に下地層を形成してもよい。前記下地層を形成することにより、透明導電膜層と酸化チタン層との密着性を向上させることができる。
前記光起電力層は、酸化ニッケルと酸化チタンとの混合層からなるか、又は、酸化ニッケルの単一層からなる。
前記光起電力層が、酸化ニッケルと酸化チタンからなる場合、酸化ニッケルと酸化チタンとの質量比(酸化チタン/酸化ニッケル)は1.5未満である。前記質量比が1.5以上では、光起電力層中の酸化チタンが多過ぎ、酸化ニッケルによる光吸収が低下してしまう。なお、前記質量比は、1.2以下が好ましく、より好ましくは0.7以下である。
前記電極層は、光起電力層から酸化チタン層へ流れ出した伝導電子が、光起電力素子に繋げられた外部回路を通った後、光起電力層に戻るための電極として作用する。前記電極層としては、カーボン膜やAg、Niなどの金属膜が挙げられる。電極層は、市販の電極材料を含有する樹脂ペースト(例えば、藤倉化成社製、「ドータイト(登録商標)」など)を塗布乾燥することで形成できる。また、Ag、Niなどの金属膜については、スパッタリング法、蒸着法などの気相成長法により形成することができる。また、特にNi膜については、電気めっき法、無電解めっき法によっても形成することができる。
製造例1
透光性基板及び透明導電膜としては、透明導電酸化物被覆ガラス(SOLARONIX社製、「TCO22−15」、合計厚さ2.2mm、抵抗率15Ω/□以下)を使用した。
この透明導電膜が形成されたガラスを、中性洗剤で洗浄した後、TiCl4水溶液(濃度1質量%)に浸漬した状態で、70℃の温度で60分間熱処理を行い、下地層を形成した。
酸化チタン層を得るためのチタニアペーストのスクリーン印刷回数、光起電力層を得るための混合ペースト中の酸化チタン粒子含有量を表1に記載の条件に変更したこと以外は、製造例1と同様にして光起電力素子を得た。なお、チタニアペーストのスクリーン印刷を2回行う場合、1回目を塗工し、150℃の温度で0.1時間乾燥させた後、2回目を塗工した。
酸化チタン層を得るためのチタニアペーストのスクリーン印刷回数、光起電力層を得るための混合ペースト中の酸化チタン粒子含有量を表1に記載の条件に変更し、電極膜を銀に変更したこと以外は、製造例1と同様にして光起電力素子を得た。なお、チタニアペーストのスクリーン印刷を2回行う場合、1回目を塗工し、150℃の温度で0.1時間乾燥させた後、2回目を塗工した。
また、銀電極はスキージを用いて薄く塗り広げる方法で形成した。
製造例1〜9の光起電力素子に、投光器(岩崎電気社製、「アーバンアクト」)を用いて、色温度6500K、照度10万LUXの光を照射し、光起電力素子の光起電力を測定した。結果を表1に示した。
Claims (8)
- 透光性基板上に、透明導電膜層、酸化チタン層、光起電力層及び電極層をこの順で積層してなり、
前記光起電力層が、酸化ニッケルと酸化チタンからなり、酸化ニッケルと酸化チタンとの質量比(酸化チタン/酸化ニッケル)が1.5未満であり、且つ、前記酸化チタンの粒子径が10nm以上、100nm以下であることを特徴とする光起電力素子。 - 前記光起電力層を構成する前記酸化ニッケルの粒子径が10nm以上、5μm以下である請求項1に記載の光起電力素子。
- 前記酸化チタン層を構成する酸化チタンの粒子径は10nm以上、200nm以下である請求項1または2に記載の光起電力素子。
- 前記光起電力層は、粒子径が10nm以上、5μm以下の酸化ニッケル、および粒子径が10nm以上、100nm以下の酸化チタンを含む混合ペーストを、スクリーン印刷法により前記酸化チタン層上に塗工して得られるものである請求項1〜3のいずれかに記載の光起電力素子。
- 前記酸化チタン層は、粒子径が10nm以上、200nm以下の酸化チタンを含むペーストを、スクリーン印刷法により前記透明導電膜層上に塗工して得られるものである請求項1〜4のいずれかに記載の光起電力素子。
- 前記電極層がカーボンまたは銀からなる請求項1〜5のいずれかに記載の光起電力素子。
- 前記請求項1〜3、6のいずれかに記載の光起電力層を製造する方法であって、前記光起電力層は、粒子径が10nm以上、5μm以下の酸化ニッケル、および粒子径が10nm以上、100nm以下の酸化チタンを含む混合ペーストを、スクリーン印刷法により前記酸化チタン層上に塗工して得ることを特徴とする光起電力層の製造方法。
- 前記酸化チタン層は、粒子径が10nm以上、200nm以下の酸化チタンを含むペーストを、スクリーン印刷法により前記透明導電膜層上に塗工して得られるものである請求項7に記載の製造方法。
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