JP5350271B2 - シラン置換ポリエチレンオキサイド反応体および産業工程におけるアルミノケイ酸塩スケールを防止または減少させる目的で用いる方法 - Google Patents

シラン置換ポリエチレンオキサイド反応体および産業工程におけるアルミノケイ酸塩スケールを防止または減少させる目的で用いる方法 Download PDF

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Description

本発明では、アルカリ性工程流れを有する産業工程で用いられる装置の上または中に生じるスケールを防止または抑制するための材料および方法を記述する。
産業工程、特にアルカリ性工程流れを有する産業工程で用いられる工程装置の中および上にスケールが生成すると言った問題は非常に良く知られている。そのようなスケールが工程装置の表面に蓄積すると大きな問題になりかつ熱伝達率損失の原因になる。このように、そのような工程における蒸発装置に追加的熱を供給する必要が生じる結果として追加的費用がかかる可能性がある。
アルカリ性工程流れを有するそのような産業工程の一例は、製紙用クラフト回収工程であり、これは100年以上に渡って知られておりかつその主題に関して数多くの教科書に雄弁に記述されている(非特許文献1を参照)。より最近になって、クラフト紙製造機に密封型ループサイクルが開発され、その結果として、非特許文献2に記述されているように、アルミニウムとケイ素が工程装置内に蓄積することが原因で前記装置内にスケールが生成する問題が大きくなってきている。従って、クラフトパルプ製造機内に生じるアルミノケイ酸塩スケールを抑制するための方法および組成物を提供する必要があることは充分に認識されている。マレイン酸とアクリル酸と次亜燐酸の三元重合体をクラフトパルプ製造機用スケール防止剤として用いることが特許文献1に記述されている。この種類の重合体は炭酸カルシウムスケールに対して有効であることが示されてはいるが、アルミノケイ酸塩スケールに有効であることは示されていない。
高レベル核廃棄物(HLNW)施設では、廃棄物の体積を最小限にしかつ有害な長期間貯蔵用材料を固定化する目的で放射能が豊富に存在する固体状および液状の廃棄物を処理する施設である。HLNW処理は現在下記の2種類の工程で実施されている:1つの工程は酸性条件下で実施されかつ1つの工程はアルカリ性条件下で実施されている。廃棄物をガラス化する前の前処理段階中にアルミノケイ酸ナトリウムスケールがアルカリ性工程条件下で成長することが大きな問題になっている。
その前処理施設の中でそのような廃棄物に蒸発、濾過、イオン交換およびさらなる蒸発を受けさせる。蒸発中にアルミノケイ酸塩スケールが蒸発装置の壁の表面および加熱用表面に生じる可能性がある。その上、移送用パイプもまたそのようなスケールおよび沈澱物の蓄積が原因で詰まってくる可能性があることで保守の目的で閉鎖する必要が生じ得る。
その前処理されたHLNW廃棄物はガラス化用施設に送られる。HLNW廃棄物は調製用溶融槽に送られ、その槽にシリカおよび他のガラス形成性材料が添加される。次に、その混合物を加熱した後、その溶融した混合物を大型のステンレス鋼製容器の中に注ぎ込み、冷却した後、一時貯蔵槽に送られ、その中に永久的貯蔵場所が選択されるまで貯蔵される。
前記ガラス化装置の操作によって生じたSi含有ガラス形成性材料の一部を蒸発装置に再循環させて戻す(前処理中)。そのアルミン酸ナトリウムの形態で溶解しているアルミニウムとケイ酸ナトリウム種が溶液中でゆっくり反応して複雑な水化アルミノケイ酸ナトリウム種が生じる。そのような種の中には非晶質アルミノケイ酸塩(アルミノケイ酸塩ヒドロゲル)、ゼオライト、ソーダライトおよびカンクリナイトのファミリーが存在し、そ
れらは集合的に「アルミノケイ酸ナトリウム」として知られる。そのような核廃棄物流れにはまた硝酸塩および亜硝酸塩イオンも高濃度(各イオンが2Mに及び)で入っておりかつOHイオンも非常に高濃度(タンクのある部分では16Mに及び)で入っている。そのような要因によってアルミノケイ酸塩スケールが生成する速度が非常に高くなる。その結果として、生じたアルミノケイ酸ナトリウムスケールがアルカリ性HLNW液中で示す溶解度が低くなってしまう。
また、アルミノケイ酸ナトリウムスケールは好ましくないHLNW生成物であるとも考えられている、と言うのは、放射性ランタニドおよびアクチニドがアルミノケイ酸塩スケールのケージ構造の中に取り込まれかつ二ウラン酸ナトリウムと一緒に沈澱するからである(非特許文献3)。従って、HLNWの体積(アルミノケイ酸塩スケールの結果としてもたらされる体積を包含)を最小限にすることができれば、HLNW施設にとって好ましいことである。このように、アルミノケイ酸ナトリウムスケールの成長は核廃棄物処理にとって経済的および操作的に大きな否定的影響を与えるものであることは分かるであろう。
従って、核廃棄物蒸発装置にアルミノケイ酸ナトリウムスケールが生成する問題に対する解決法を提供することができれば、これは好ましいことである。
上述した問題を解決しようとする試みが行われたが、それによってもたらされた成功度は限られていた(非特許文献4を参照)。前記著者は、アルミノケイ酸塩スケールの生成量が減少するか或はなくなるようにSiを溶液から鉄含有沈澱物の形態で除去する目的で硝酸鉄を用いることを試験した。そのような方策はある程度の利点を有するが、それでも、そのように鉄を高濃度で含有する沈澱物を廃棄処理する必要がありかつ追加的濾過装置操作を行う必要もある。また、低分子量の化合物をHLNW用スケール防止剤として用いることが非特許文献5にも提案されたが、全く満足されるものでないことが確認されている。
このように、産業工程で用いられる装置にアルミノケイ酸塩スケールが蓄積することが問題になっている産業工程、例えばクラフトパルプ紙工程および核廃棄物処理流れなどにおけるそのような蓄積を減少させるに有効な経済的方法が求められている。
米国特許第5409571号
G.A.Smook、「Handbook for Pulp and paper technologists」、第3版 P.N.WannamakerおよびW.J.Frederick、「Application of solubility data to predicting the accumulation of aluminum and silicon in alkaline pulp mills」、Minimum Effluent Mills Symposium、1996、303頁 Peterson,R.A.およびPierce,R.A.、(2000)、Sodium diuranate and sodium aluminosilicate precipitation testing results、WSRC−TR−2000−00156、Westinghouse Savannah River Company、Aiken、SC. Wilmarthおよび共同研究者、Wilmarth,W.R.、Mills,J.T.およびDukes,V.H.、(2005)、Removal of silicon from high−level waste streams via ferric flocculation、Separation Sci.Technol.、40、1−11 W.R.WilmarthおよびJ.T.Mills、「Results of Aluminosilicate Inhibitor Testing」、WSRC−TR−2001−00230
発明の要約
本発明は、アルカリ性工程流れを有する工程、例えばクラフトパルプ製造工程または高レベル核廃棄物蒸発工程処理流れなどにおけるアルミノケイ酸塩スケール生成を減少またはなくす目的で基−Si(OR”)(ここで、R”はH、アルキル基、Na、KまたはNHである)を末端基またはペンダント型基として少なくとも0.5モル%有する重合体を用いた材料および方法を提供することで、上述した問題などを解決するものである。本発明の材料をそのような産業工程流れに添加すると、それらは装置の表面に生じるアルミノケイ酸塩スケールを減少させ、完全に防止さえする。その上、本材料は経済的に実施可能な処理濃度で効果を示す。
発明の詳細な説明
本発明は、アルカリ性工程流れ、例えばクラフトパルプ製造工程流れまたは高レベル核廃棄物処理流れなどを有する産業工程におけるアルミノケイ酸塩含有スケールを減少させるための方法および材料に向けたものである。そのような処理を受けさせるべき工程流れは、アルカリ性条件を有しかつスケール生成が生じる工程流れのいずれであってもよく、例えばクラフト工程の黒色、緑色および白色液または高レベル核廃棄物蒸発工程流れなどであってもよい。
本方法は、そのような工程流れに−Si(OR”)(ここで、R”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNHである)を含有するペンダント基または末端基を少なくとも5モル%有する重合体をアルミノケイ酸塩含有スケールを抑制する量で添加する段階を含んで成る。そのような重合体に存在させる−Si(OR”)官能基の量は、所望の結果を達成するに充分な量であり、その重合体に存在する総単量体基の約0.5モル%から約100モル%の範囲であってもよい。しかしながら、それを所望の結果をもたらすに必要な最も少ない量で用いるのが最も経済的である。そのような重合体の調製を好適には最初にシリルエーテル誘導体である重合体−Si(OR”)(ここで、R”=C1−C3アルキル、アリール)、例えば重合体−Si(OCHCHまたは重合体−Si(OCHなどとして行う。そのシリルエーテル誘導体を産業工程流れに直接添加してもよいか或はそれらを工程流れに添加する前に加水分解を起こさせてシラノール誘導体を生じさせることで下記の一般構造:重合体−Si(OH)、重合体−Si(ONa)、重合体−Si(OK)および重合体−Si(ONHで表される重合体を生じさせておくことも可能である。そのような形態物のいずれかを工程流れに添加してもよいことが本発明の便利な特徴である。そのような重合体の分子量は少なくとも約500、最も好適には少なくとも約1000であるべきである。
好適な態様における−Si(OR”)(ここで、R”=H、C1−C3アルキル、ア
リール、Na、KまたはNHである)含有基には、−G−R−X−R’−Si(OR”)(ここで、G=基の存在なし、NH、NR”またはO;R=基の存在なし、C=O、O、C1−C10アルキルまたはアリール;X=基の存在なし、NR、O、NH、アミド、ウレタンまたは尿素;R’=基の存在なし、O、C1−C10アルキルまたはアリール;およびR”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH)に従う基が含まれる。
1つの態様における基は、−NH−R−X−R’−Si(OR”)(ここで、R=基の存在なし、O、C1−C10アルキルまたはアリール;X=O、NH、アミド、ウレタンまたは尿素;R’=基の存在なし、O、C1−C10アルキルまたはアリール;およびR”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH)である。
別の態様において、そのような基がペンダント型である重合体は、そのペンダント型基が結合している窒素を少なくとも1個含有し得る。ペンダント型基が結合している窒素を少なくとも1個含有する典型的な重合体には、これらに限定するものでないが、下記の式:
Figure 0005350271
[式中、x=0.1−100%、y=99.9−0%;およびR=基の存在なし、C1−C10アルキル、アリールまたは−COX−R’−(ここで、X=OまたはNH、およびR’=基の存在なし、C1−C10アルキルまたはアリール);およびR”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH
に従う重合体が含まれ、式:
Figure 0005350271
[式中、x=0.5−20%、y=99.5−80%およびR=C2−C6]
に従う重合体が好適であり、式:
Figure 0005350271
[式中、x=0.5−20%、y=99.5−80%]
に従う重合体が具体例である。
別の態様では、−Si(OR”)を含有するペンダント型基もしくは末端基を有する重合体を生じさせる時、基−Si(OR”)(ここで、R”=H、C1−C10アルキル、アリール、Na、KまたはNH)を含有する重合性の不飽和単量体を用いてそのような重合体を生じさせるが、場合によりそれを1種以上の追加的重合性単量体と共重合させることも可能である。そのような追加的重合性単量体の例には、これらに限定するものでないが、ビニルピロリドン、(メタ)アクリルアミド、N−置換アクリルアミド、例えばN−アルキルアクリルアミドまたはアクリルアミドメチルプロパンスルホン酸など、(メタ)アクリル酸およびこれの塩もしくはエステル、マレイミド、酢酸ビニル、アクリロニトリルおよびスチレンが含まれる。−Si(OR”)基を含有する特に好適な重合性不飽和単量体は、式VおよびVIで表される単量体である。
Figure 0005350271
式中、P=H、C1−C3アルキル、−CO2R”、−CONHR
R=C1−C10アルキル、アリール、
R’=H、C1−C3アルキルまたはアリール
X=O、NHまたはNR
R”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH
そのような重合体の例には、トリアルコキシビニルシラン、例えばCH=CHSi(OCHCHおよび式VII:
Figure 0005350271
[式中、P=H、R=−CHCHCH−、R’=H、X=NHおよびR”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH
で表される単量体などのホモおよび共重合体が含まれる。
そのような種類の単量体を他のいずれかの重合性単量体、例えばこの上に記述した単量体などと一緒に共重合させることも可能である。特に好適な共重合性単量体には、ビニルピロリドン、(メタ)アクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸およびこれの塩もしくはエステルおよびマレイミドが含まれる。特に炭素原子を4−20個含有するN−置換アクリルアミド、例えばN−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−アミルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−オクチルアクリルアミドなどが好適である。
好適な態様では、式:
Figure 0005350271
[式中、w=0−99%、x=1−99%、y=1−99%、z=0.5−20%およびM=H、Na、K、NH;およびR”=H、C1−C10アルキル、アリール、Na、KまたはNH;P=HまたはCH、L=HまたはC1−C10アルキル、アリールもしくはアラルキル、F=−G−R−X−R’−Si(OR”)(ここで、G=基の存在なし、NH、NR”またはO;R=基の存在なし、C=O、O、C1−C10アルキルまたはアリール;X=基の存在なし、NR、O、NH、アミド、ウレタンまたは尿素;R’=基の存在なし、O、C1−C10アルキルまたはアリール;およびR”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH)、およびVPDは置換もしくは非置換ビニルピロリドン単量体から生じた部分である]
に従う重合体を用いる。典型的な重合体は、式VII:
Figure 0005350271
[式中、P=H、R=−CHCHCH−、R’=H、X=NHおよびR”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH
で表される1種以上の共重合用単量体のホモもしくは共重合体であり、下記の式:
Figure 0005350271
[式中、w=0−90%、x=0−50%、y=0−90%、z=2−50モル%]
に従う重合体が具体例である。
別の態様では、式:
Figure 0005350271
[式中、w=1−99.9%、x=0.1−50%、y=0−50%、z=0−50%およびQ=C1−C10アルキル、アリール、アミド、アクリレート、エーテル、COXR(ここで、X=OまたはNHおよびR=H、Na、K、NH、C1−C10アルキルまたはアリールまたは他の置換基のいずれか)、X=NH、NP(ここで、P=C1−C3アルキルまたはアリールまたはO);R’=C1−C10アルキルまたはアリール;V”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNHであるか或は無水物環を形成している)、R”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH、およびD=NR1またはOR1(ここで、R1=H、C1−C20アルキル、C1−C20アルケニルまたはアリール)、但しR、R”、V”およびR1基の全部が同じである必要はないことを条件とする]
に従う重合体を用い、式:
Figure 0005350271
[式中、w=1−99.9%、x=0.1−50%、y=0−50%、z=0−50%、そしてQはフェニルである]
に従う重合体、および式:
Figure 0005350271
[式中、w=1−99.9%、x=0.1−50%、y1+y2=0−50%、y1およびy2=0−50%、z=0−50%;そしてQはフェニルである]
に従う重合体が具体例である。
別の態様では、式:
A−O−(CHCHO)(CHCH(CH)O)y(CHCHO)−O−B
[式中、x=5−100%(モル%として)、yおよびz=0−100%、そして少なくとも1個のAおよび/またはB単位は基−Si(OR”)(ここで、R”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH)を含有する基である]
に従う重合体を用いる。典型的なそのような重合体には、
A−O−(CHCHO)(CHCH(CH)O)y(CHCHO)−O−B
[ここで、Aおよび/またはB=R−Si(OR”)、そしてx=5−50%、y=5−95%およびz=0−50%]、即ちエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体が−Si(OR”)基で置換されている重合体、および
A−O−(CHCHO)(CHCH(CH)O)y(CHCHO)−O−B
[ここで、Aおよび/またはB=R−Si(OR”)、x=100%、y=0%およびz=0%]、即ちポリエチレンオキサイドのホモ重合体が−Si(OR”)基で置換されている重合体が含まれる。
別の態様では、多糖もしくは多糖誘導体から生じさせた重合体を用いる。ペンダント型−Si(OR”)基を結合させることが可能な如何なる多糖も使用可能である。そのような多糖は好適には産業工程流れ、例えばクラフトパルプ製造工程流れの液体または高レベル核廃棄物工程流れなどに溶解すべきである。本発明で用いるに有用な多糖には、これらに限定するものでないが、セルロースおよびこれの誘導体、例えばヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシブチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロースなど、澱粉および澱粉誘導体、例えばカチオン性澱粉、グアー、デキストラン、デキストリン、キサンタン、寒天、カラギーナンなどが含まれる。特に澱粉およびセルロースの誘導体が好適であり、ヒドロキシエチルセルロースと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物が具体例である。
本発明で用いる重合体の製造はいろいろな様式で実施可能である。例えば、それらの製造は基−Si(OR”)(ここで、R”=H、C1−C3アルキル、アリール、Na、KまたはNH)を含有する単量体、例えばシラン単量体などを重合させるか或はそのような単量体と1種以上の共重合用単量体を共重合させることなどで実施可能である。本発明で用いるに適したシラン単量体には、これらに限定するものでないが、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ブテニルトリエトキシシラン、ガンマ−N−アクリルアミドプロピルトリエトキシシラン、p−トリエトキシシリルスチレン、2−(メチルトリメトキシシリル)アクリル酸、2−(メチルトリメトキシシリル)−1,4ブタジエン、N−トリエトキシシリルプロピル−マレイミド、および無水マレイン酸と他の不飽和無水物と−Si(OR”)基含有アミノ化合物の他の反応生成物が含まれる。そのような単量体に塩基水溶液による加水分解をそれらを重合させる前または後に受けさせてもよい。本発明で用いるに適した共重合用単量体には、これらに限定するものでないが、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン、(メタ)アクリル酸およびこれのエステルもしくは塩、(メタ)アクリルアミドおよび置換アクリルアミド、例えばアクリルアミドメチルプロパンスルホン酸、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−アミルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−オクチルアクリルアミドなどが含まれる。また、そのような共重合体はグラフト共重合体、例えばポリアクリル酸−g−ポリ(ビニルトリエトキシシラン)およびポリ(酢酸ビニル−コ−クロトン酸)−g−ポリ(ビニルトリエトキシシラン)などであってもよい。そのような重合体の製造はいろいろな溶媒中で実施可能である。そのような使用に適した溶媒には、これらに限定するものでないが、アセトン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが含まれる。ある場合には、そのような重合体は反応溶媒に可溶であり、それの回収を前記溶媒を留出させることで実施する。別法として、そのような重合体が反応溶媒に不溶な場合、生成物の回収を濾過で実施する。本発明で用いるに適した開始剤には、これらに限定するものでないが、2,2’アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)および2,2−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイドおよびクメンヒドロパーオキサイドが含まれる。
本発明の別の態様において、本発明で用いるに有用な重合体の製造は、−Si(OR”)基を含有するばかりでなく現存する重合体が有するペンダント型基もしくはバックボーン原子のいずれかと反応する反応性基も含有する化合物をそのような重合体と反応させることで実施可能である。例えば、ポリアミンと多糖と−Si(OR”)基を含有するいろいろな化合物を反応させて重合体を生じさせた後、それを本発明で用いることも可能である。適切な反応性基には、これらに限定するものでないが、ハロゲン化アルキル基、例えばクロロプロピル、ブロモエチル、クロロメチルおよびブロモウンデシルなどが含まれる。そのような−Si(OR”)を含有する化合物は、エポキシ官能基、例えばグリシドキシプロピル、1,2−エポキシアミル、1,2−エポキシデシルまたは3,4−エポキシシクロヘキシルエチルなども含有する化合物であってもよい。特に3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好適な化合物である。
そのような反応性基はまたヒドロキシル基とハライドの組み合わせ、例えば3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルなどであってもよい。そのような反応性部分はまたイソシアネート基を含有していてもよく、例えばイソシアナトプロピルまたはイソシアナトメチルなどであってもよく、それらは反応して尿素結合を形成する。加うるに、無水物基を含有するシラン、例えば無水トリエトキシシリルプロピルこはく酸なども本発明で重合体を製造する時に用いるに適する。そのような反応は混ぜ物なしまたは適切な溶媒中で実施可能である。加うるに、他のアミノ基もしくは窒素原子をハロゲン化アルキル、エポキシドまたはイソシアネートを有する重合体と反応させることで他の官能基、例えばアルキル基などを付加させることも可能である。そのようなポリアミンの製造はいろいろな方法を用いて実施可能である。それらの製造はアジリジンまたは同様な化合物の開環重合で実施可能である。それらの製造をまたアミン、例えばアンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、エチレンジアミンなどと反応性化合物、例えば1,2−ジクロロエタン、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリンおよび同様な化合物などの縮合反応で実施することも可能である。
無水物基を含有する重合体を−Si(OR”)を含有するいろいろな化合物と反応させることで本発明で用いるに適した重合体を生じさせることも可能である。適切な無水物含有重合体には、無水マレイン酸とエチレン系不飽和単量体、例えばスチレン、エチレン、アルファオレフィン、例えばオクタデセンなど、メタ(アクリルアミド)、(メタ)アクリル酸、アクリル酸エステル、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、アクリル酸ブチルなどおよびメチルビニルエーテルなどの共重合体が含まれる。そのような重合体はまたグラフト共重合体、例えばポリ(1,4−ブタジエン)−g−無水マレイン酸またはポリエチレン−g−無水マレイン酸などであってもよい。他の適切な無水物単量体には、これらに限定するものでないが、無水イタコン酸および無水シトラコン酸が含まれる。適切な反応性シラン化合物には、これらに限定するものでないが、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビス(ガンマ−トリエトキシシリルプロピル)アミン、N−フェニル−ガンマ−アミノプロピルトリエトキシシラン、p−アミノフェニルトリエトキシシラン、3−(m−アミノフェノキシプロピル)−トリメトキシシランおよびガンマ−アミノブチルトリエトキシシランが含まれる。そのような重合体をアミン、アルコールおよび他の化合物と反応させることでそれに他の官能基を付加させることも可能である。本発明で用いるに適した好適な重合体では、無水マレイン酸がそのような無水物でありそして共重合用単量体はスチレンである。好適なシランはガンマ−アミノプロピルトリエトキシシランである。また、そのような無水物基のいくつかを別のアミン、例えばジエチルアミンなどと反応させるのも有利である。
−Si(OR”)基を含有する同じ種類のアミノ化合物をペンダント型のイソシアネート基を含有する重合体、例えばイソプロペニルジメチルベンジルイソシアネートとビニルイソシアネートと共重合用単量体(これらに限定するものでないが、酢酸ビニル、スチレン、アクリル酸およびアクリルアミドを包含)などの共重合体などと反応させることも可能である。また、そのような重合体を他の化合物、例えばアミンなどと反応させることで性能を向上させることも可能である。
また、−Si(OR”)基を有するイソシアネート官能化合物、例えばガンマ−イソシアナトプロピルトリメトキシシランなどをヒドロキシル基を含有する重合体、例えばポリ(酢酸ビニル)の加水分解品および酢酸ビニルと他の単量体の共重合体の加水分解品などと反応させることも可能である。使用に適した他のヒドロキシル含有重合体には、これらに限定するものでないが、多糖およびN−メチロールアクリルアミド含有重合体が含まれる。
本方法で工程流れに添加する重合体の量は、関係する産業工程流れ(例えばクラフトパルプ製造工程または高レベル核廃棄物流れの液体)の組成に依存する可能性があり、必要な量は一般にアルミノケイ酸塩含有スケールを抑制する量のみである。一般的には、本重合体を好適には経済的かつ実用的に好ましい濃度で当該工程流れに添加する。好適な濃度は、約0ppm以上から約300ppmの濃度、より好適には約0ppm以上から約50
ppmの濃度であり、最も好適には、本重合体を約0ppm以上から約10ppmの濃度で当該工程流れに添加する。
本重合体をスケール生成が起こり得る産業工程流れのいずれか、例えばクラフトパルプ製造工程の黒色液蒸発装置およびそのような工程の緑色および白色の液体工程流れなどに直接添加してもよい。しかしながら、本重合体をそのような黒色液蒸発装置に送られる仕込み流れまたは再循環流れもしくは液体に添加するのが好適である。本重合体を当該産業工程流れに添加する時期はその工程中の如何なる時点であってもよいが、その工程中に熱をかける前またはかけている間の便利ないずれかの時点でそれを添加するのが好適である。通常は、本重合体を蒸発装置の直前に添加する。
高レベル核廃棄物
比較実施例A
スチレン/無水マレイン酸共重合体とブチルアミンの反応生成物(比較重合体A)の調製は下記の通りである:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.1でMが約16,000の乾燥したスチレン/無水マレイン酸共重合体(SMA)(10.0g)を100mlのトルエンに入れて懸濁させる。1.72gのブチルアミンを10mlのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加える。その混合物を3時間還流させる。固体状の生成物を濾過で取り出し、洗浄した後、乾燥させる。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−ブチル半アミド含有量が24モル%で無水マレイン酸含有量が23モル%の重合体を得る。
比較実施例B
SMAと獣脂アミンとジエチルアミンの反応生成物(比較重合体B)の調製は下記の通りである:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.1でMが約16,000の乾燥したSMA(100.0g)を941.7gのトルエンに入れて懸濁させる。25.2gの獣脂アミンと27.5gのジエチルアミンを35.2gのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加えた後、その混合物を30分間還流させる。その結果として得たトルエンスラリーを室温に冷却した後、約700mlの2%苛性水溶液に混合しながら加える。トルエン層を分離した後、水相中に残存するトルエンを蒸留で除去する。その水溶液を0.2μmの親水性ポリエーテルスルホンフィルターを用いた限外濾過で更に精製した後、凍結乾燥させることで乾燥した重合体を得る。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−ジエチル半アミド含有量が38モル%で無水マレイン酸に由来するN−獣脂半アミド含有量が9モル%の重合体を得る。
比較実施例C
N−t−オクチルアクリルアミドとアクリル酸の共重合体(比較重合体C)の調製は下記の通りである:2.81gのアクリル酸と2.52gのN−t−オクチルアクリルアミドと0.14gの2−メルカプトエタノールを12.5gのDMFと13.87gのジオキサンに溶解させた後、窒素でパージ洗浄する。その混合物を75℃に加熱した後、0.16gの2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3gのジオキサンに入れて加える。75℃で6時間後の混合物を冷却することで所望重合体を溶液の状態で得る。それによってアクリル酸含有量が73.7モル%でN−t−オクチルアクリルアミド含有量が26.3モル%の重合体を得る。
実施例1−重合体i
シラン含有単量体単位が1モル%の重合体をもたらすSMAとブチルアミンと(3−アミノプロピル)トリエトキシシランの反応生成物(重合体i)の調製は下記の通りである
:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.0でMが約16,000の乾燥したSMA(10.0g)を100mlのトルエンに入れて懸濁させる。1.72gのブチルアミンと0.21gの(3−アミノプロピル)トリエトキシシランを10mlのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加える。その混合物を3時間還流させる。固体状の生成物を濾過で取り出し、洗浄した後、乾燥させる。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−ブチル半アミド含有量が23.9モル%で無水マレイン酸に由来するN−(3−トリエトキシシリル)プロピル半アミド含有量が1モル%で無水マレイン酸含有量が22.1モル%の重合体を得る。
実施例2−重合体ii
シラン含有単量体単位が3.8モル%の重合体をもたらすSMAとブチルアミンと(3−アミノプロピル)トリエトキシシランの反応生成物(重合体ii)の調製は下記の通りである:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.1でMが約16,000の乾燥したSMA(10.0g)を100mlのトルエンに入れて懸濁させる。1.72gのブチルアミンと0.83gの(3−アミノプロピル)トリエトキシシランを10mlのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加える。その混合物を3時間還流させる。固体状の生成物を濾過で取り出し、洗浄した後、乾燥させる。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−ブチル半アミド含有量が23.9モル%で無水マレイン酸に由来するN−(3−トリエトキシシリル)プロピル半アミド含有量が3.8モル%で無水マレイン酸含有量が19.3モル%の重合体を得る。
実施例3−重合体iii
シラン含有単量体単位が7.6モル%の重合体をもたらすSMAとブチルアミンと(3−アミノプロピル)トリエトキシシランの反応生成物(重合体iii)の調製は下記の通りである:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.1でMが約16,000の乾燥したSMA(10.0g)を100mlのトルエンに入れて懸濁させる。1.72gのブチルアミンと1.66gの(3−アミノプロピル)トリエトキシシランを10mlのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加える。その混合物を3時間還流させる。固体状の生成物を濾過で取り出し、洗浄した後、乾燥させる。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−ブチル半アミド含有量が23.9モル%で無水マレイン酸に由来するN−(3−トリエトキシシリル)プロピル半アミド含有量が7.6モル%で無水マレイン酸含有量が15.5モル%の重合体を得る。
実施例4−重合体iv
シラン含有単量体単位が3.8モル%の重合体をもたらすSMAと獣脂アミンとジエチルアミンと(3−アミノプロピル)トリエトキシシランの反応生成物(重合体iv)の調製は下記の通りである:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.1でMが約16,000の乾燥したSMA(100.0g)を941.7gのトルエンに入れて懸濁させる。25.2gの獣脂アミンと24.8gのジエチルアミンと8.3gの(3−アミノプロピル)トリエトキシシランを38.9gのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加えた後、その混合物を30分間還流させる。その結果として得たトルエンスラリーを室温に冷却した後、約700mlの2%苛性水溶液に混合しながら加える。トルエン層を分離した後、水相中に残存するトルエンを蒸留で除去する。その水溶液を0.2μmの親水性ポリエーテルスルホンフィルターを用いた限外濾過で更に精製した後、凍結乾燥させることで乾燥した重合体を得る。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−(3−トリエトキシシリル)プロピル半アミド含有量が3.8モル%で無水マレイン酸のN−獣脂半アミド含有量が9.4モル%で無水マレイン酸のN,N−ジエチル半アミド含有量が33.8モル%の重合体を得る。
実施例5−重合体v
シラン含有単量体単位が7.5モル%の重合体をもたらすSMAと獣脂アミンとジエチルアミンと(3−アミノプロピル)トリエトキシシランの反応生成物(重合体v)の調製は下記の通りである:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.1でMが約16,000の乾燥したSMA(100.0g)を941.7gのトルエンに入れて懸濁させる。20.2gの獣脂アミンと23.4gのジエチルアミンと16.7gの(3−アミノプロピル)トリエトキシシランを40.2gのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加えた後、その混合物を30分間還流させる。その結果として得たトルエンスラリーを室温に冷却した後、約700mlの2%苛性水溶液に混合しながら加える。トルエン層を分離した後、水相中に残存するトルエンを蒸留で除去する。その水溶液を0.2μmの親水性ポリエーテルスルホンフィルターを用いた限外濾過で更に精製した後、凍結乾燥させることで乾燥した重合体を得る。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−(3−トリエトキシシリル)プロピル半アミド含有量が7.5モル%で無水マレイン酸のN−獣脂半アミド含有量が7.5モル%で無水マレイン酸のN,N−ジエチル半アミド含有量が30モル%の重合体を得る。
実施例6−重合体vi
シラン含有単量体単位が3.8モル%の重合体をもたらすSMAと獣脂アミンとジエチルアミンと(3−アミノプロピル)トリエトキシシランの反応生成物(重合体vi)の調製は下記の通りである:無水マレイン酸に対するスチレンのモル比が約1.1でMが約16,000の乾燥したSMA(100.0g)を941.7gのトルエンに入れて懸濁させる。10.1gの獣脂アミンと28.9gのジエチルアミンと8.3gの(3−アミノプロピル)トリエトキシシランを31.3gのトルエンに入れることで生じさせた溶液を周囲温度で加えた後、その混合物を30分間還流させる。その結果として得たトルエンスラリーを室温に冷却した後、約700mlの2%苛性水溶液に混合しながら加える。トルエン層を分離した後、水相中に残存するトルエンを蒸留で除去する。その水溶液を0.2μmの親水性ポリエーテルスルホンフィルターを用いた限外濾過で更に精製した後、凍結乾燥させることで乾燥した重合体を得る。それによってスチレン含有量が53モル%で無水マレイン酸に由来するN−(3−トリエトキシシリル)プロピル半アミド含有量が3.8モル%で無水マレイン酸のN−獣脂半アミド含有量が3.8モル%で無水マレイン酸のN,N−ジエチル半アミド含有量が39.4モル%の重合体を得る。
実施例7
N−(3−トリエトキシシリル)プロピルアクリルアミド(TESPA)の調製は下記の通りである:197.4gの(3−アミノプロピル)トリエトキシシランと89.9gのトリエチルアミンを330gのTHFに溶解させ、窒素でパージ洗浄した後、0℃に冷却する。混合を行いながら83.9gの塩化アクリロイルを滴下し、滴下後の混合物を40℃に2時間加熱する。その混合物を室温に冷却した後、塩を濾過で除去する。その結果として得たTESPAの溶液(THF中42%)をさらなる精製なしにそのまま用いる。
実施例8−重合体viii
シラン含有単量体単位の含有量が5モル%の重合体をもたらすN−t−オクチルアクリルアミドとアクリル酸と1−ビニル−2−ピロリジノンとTESPAの四元重合体(重合体vii)の調製は下記の通りである:1.89gの1−ビニル−2−ピロリジノンと0.66gのアクリル酸と2.21gのN−t−オクチルアクリルアミドと1.30gのTESPA(THF中42%)と0.14gの2−メルカプトエタノールを14gのDMFと11.64gのジオキサンに溶解させた後、窒素でパージ洗浄する。その混合物を75℃に加熱した後、0.16gの2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3gのジオキサンに入れて加える。75℃で6時間後の混合物を冷却することで所望重合体を溶液の状態で得る。その重合体をイソプロピルアルコールで沈澱させることで更に精製し、洗浄した後、乾燥させる。それによって1−ビニル−2−ピロリジノン含有量が42.5モル%でアクリル酸含有量が22.5モル%でTESPA含有量が5モル%でN−t−オクチルアクリルアミド含有量が30モル%の重合体を得る。
実施例9−重合体ix
シラン含有単量体単位の含有量が5モル%の重合体をもたらす1−ビニル−2−ピロリジノンとTESPAの共重合体(重合体viii)の調製は下記の通りである:4.69gの1−ビニル−2−ピロリジノンと1.44gのTESPA(THF中42%)と0.14gの2−メルカプトエタノールを12.5gのDMFと13.07gのジオキサンに溶解させた後、窒素でパージ洗浄する。その混合物を75℃に加熱した後、0.16gの2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3gのジオキサンに入れて加える。75℃で6時間後の混合物を冷却することで所望重合体をそれが15%の濃度で入っている溶液の状態で得る。それによって1−ビニル−2−ピロリジノン含有量が95モル%でTESPA含有量が5モル%の重合体を得る。
実施例10−重合体x
シラン含有単量体単位の含有量が5モル%の重合体をもたらすN−t−オクチルアクリルアミドとアクリル酸とTESPAの三元重合体(重合体x)の調製は下記の通りである:2.46gのアクリル酸と2.21gのN−t−オクチルアクリルアミドと1.56gのTESPA(THF中42%)と0.14gの2−メルカプトエタノールを12.5gのDMFと12.97gのジオキサンに溶解させた後、窒素でパージ洗浄する。その混合物を75℃に加熱した後、0.16gの2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3gのジオキサンに入れて加える。75℃で6時間後の混合物を冷却することで所望重合体をそれが15%の濃度で入っている溶液の状態で得る。それによってアクリル酸含有量が70モル%でTESPA含有量が5モル%でN−t−オクチルアクリルアミド含有量が25モル%の重合体を得る。
実施例11−重合体xi
シラン含有単量体単位の含有量が2.2モル%の重合体をもたらすポリエチレンオキサイドと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xi)の調製は下記の通りである:20.0gのポリエチレンオキサイド(Mが約2000)を10.0gのDMSOに溶解させた後、窒素でパージ洗浄する。その混合物に2.63gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを加えた後、45%のKOHを1.36g加える。その結果として得た混合物を80℃に1時間加熱することで所望重合体をそれが65.8%の濃度で入っている溶液の状態で得る。それによってエチレンオキサイド含有量が約97.8モル%で3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン含有量が2.2モル%の重合体を得る。
実施例12−重合体xii
シラン含有単量体単位の含有量が3.1モル%の重合体をもたらすポリ(エチレングリコール)−ブロック−ポリ(プロピレングリコール)−ブロック−ポリ(エチレングリコ
ール)と3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xi)の調製は下記の通りである:30.0gのポリ(エチレングリコール)−ブロック−ポリ(プロピレングリコール)−ブロック−ポリ(エチレングリコール)(エチレンオキサイドが50重量%でMが約1900)と4.52gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを窒素下で混合する。45%のKOHを2.34g加えた後、その結果として得た混合物を80℃に1時間加熱することで所望重合体を92.6%の濃度で得る。それによってエチレンオキサイド含有量が約55.1モル%でプロピレンオキサイド含有量が41.8モル%で3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン含有量が3.1モル%の重合体を得る。
実施例13−重合体xiii
シラン含有単量体単位の含有量が3.0モル%の重合体をもたらすポリ(エチレングリコール)−ブロック−ポリ(プロピレングリコール)−ブロック−ポリ(エチレングリコール)と3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xiii)の調製は下記の通りである:30.0gのポリ(エチレングリコール)−ブロック−ポリ(プロピレングリコール)−ブロック−ポリ(エチレングリコール)(エチレンオキサイドが10重量%でMが約2000)と4.3gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを窒素下で混合する。45%のKOHを2.22g加えた後、その結果として得た混合物を80℃に1時間加熱することで所望重合体を92.9%の濃度で得る。それによってエチレンオキサイド含有量が約12.3モル%でプロピレンオキサイド含有量が84.7モル%で3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン含有量が3.0モル%の重合体を得る。
実施例14−重合体xiv
シラン含有単量体単位の含有量が0.5モル%の重合体をもたらすポリエチレンイミンと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xiv)の調製は下記の通りである:25.4gのポリエチレンイミン(Mが約25,000)と0.7gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを混合した後、その結果として得た混合物を70℃に16時間加熱することで所望重合体を脆い軟質ゲルとして得る。
実施例15−重合体xv
シラン含有単量体単位の含有量が1.0モル%の重合体をもたらすポリエチレンイミンと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xv)の調製は下記の通りである:25.72gのポリエチレンイミン(Mが約25,000)と1.43gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを混合した後、その結果として得た混合物を70℃に16時間加熱することで所望重合体を脆い軟質ゲルとして得る。
実施例16−重合体xvi
シラン含有単量体単位の含有量が2.0モル%の重合体をもたらすポリエチレンイミンと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xvi)の調製は下記の通りである:11.39gのポリエチレンイミン(Mが約25,000)と1.28gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを混合した後、その結果として得た混合物を70℃に16時間加熱することで所望重合体を脆い軟質ゲルとして得る。
実施例17−重合体xvii
シラン含有単量体単位の含有量が4.0モル%の重合体をもたらすポリエチレンイミンと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xvii)の調製は下記の通りである:10.0gのポリエチレンイミン(Mが約25,000)と2.29gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを混合した後、その結果として得た混合物を70℃に16時間加熱することで所望重合体を脆い軟質ゲルとして得る。
実施例18−重合体xviii
シラン含有単量体単位の含有量が高い(〜30モル%の)重合体をもたらすヒドロキシエチルセルロースと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物(重合体xviii)の調製は下記の通りである:8.0gの乾燥したヒドロキシエチルセルロース(分子量が24,000−27,000)と2.0gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを5gのアセトン中で混合する。アセトンを蒸発で除去した後、その結果として得た混合物を100℃に16時間加熱することで所望重合体を得る。
Figure 0005350271
Figure 0005350271
実施例19
試験手順
脱イオン水に炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、アルミン酸ナトリウム溶液(三水化アルミナに分解を苛性中で受けさせることで生じさせた)、ケイ酸ナトリウム、硝酸ナトリウムおよび亜硝酸ナトリウムを添加することで、合成の高レベル核廃棄物液を作成する。この液の最終的組成を表2に示す。
Figure 0005350271
重合体サンプルを前記核廃棄物液に添加する前にそれの全部を2%のNaOH水溶液に溶解させることで、以前に反応しなかったいくらか存在する無水物およびトリアルコキシルシラン基に加水分解を受けさせることでトリアルコキシルシラン基をシラオール基またはナトリウム塩に変化させる。125mlのポリエチレン製ボトルにスケール減少用添加剤(用いる場合)を低用量の場合には2%NaOH水溶液中0.5%の溶液として入れそして高用量の場合には3%の溶液を用いる。次に、前記ボトルに撹拌を行いながら前記合成の高レベル核廃棄物原液を120ml加える。そのボトルを密封して撹拌しながら102℃に18±2時間加熱する。そのような試験(ボトル)を1回に24個に及んで実施する。18時間が終了した時点で前記ボトルを開けて、溶液を濾過する(0.45μmのフィルター)。その液中にかなりの量のアルミノケイ酸塩スケールが遊離したアルミノケイ酸塩として生じたことを観察する(これは最初にポリエチレン表面上に生じた可能性がある)。以下の実施例では、この試験中に生じたスケールの重量を同じ組の試験の一部である2回の比較ブランク試験(即ち添加剤を使用しない)で生じたスケールの平均重量に対するパーセントとして表す。
この上に概略を示した試験手順を用いて、ブチルアミンと反応させたシラン含有量がいろいろな一連のSMA型重合体にアルミノケイ酸塩スケール抑制活性に関する試験を受けさせ、その結果を表3に報告する。
Figure 0005350271
実施例20
実施例19に概略を示した如き試験手順を用いて、獣脂アミンおよびジエチルアミンと反応させたシラン含有量がいろいろな一連のSMA重合体にスケール抑制活性に関する試験を受けさせ、その結果を表4に報告する。
Figure 0005350271
実施例21
実施例19に概略を示した如き試験手順を用いて、シラン含有単量体TESPAを用いて製造した一連の重合体にスケール抑制活性に関する試験を受けさせ、その結果を表5に報告する。
Figure 0005350271
実施例22
実施例19に概略を示した如き試験手順を用いて、シラン含有量がいろいろな一連のポリエーテル型重合体にスケール抑制活性に関する試験を受けさせ、その結果を表6に報告する。
Figure 0005350271
実施例23
実施例19に概略を示した如き試験手順を用いて、シラン含有量がいろいろな一連のポリエチレンイミン型重合体にスケール抑制活性に関する試験を受けさせ、その結果を表7に報告する。
Figure 0005350271
実施例24
実施例19に概略を示した如き試験手順を用いて、シラン含有ヒドロキシエチルセルロース誘導体にスケール抑制活性に関する試験を受けさせ、その結果を表8に報告する。
Figure 0005350271
クラフトパルプ製造機スケール抑制試験
実施例25
典型的なクラフトパルプ製造機の黒色液に見られる状態を模擬する目的で、典型的な黒色液を模擬する合成の工程液の調製を下記のようにして行う。
塩基性アルミン酸塩溶液の調製を以下の処方に従ってアルミン酸塩およびNaOH溶液を水に添加した後に撹拌を一晩行うことで実施する。次に、その溶液を3μmの濾過膜(Pall Versapor−3000T w/wa、47mm)に通して濾過する:
NaO.Al.3 HO 100.0g
50% NaOH 146.6g
脱イオン水 753.4g
―――――――
総量 1000.0g
この塩基性アルミン酸塩溶液を用いて模擬クラフト黒色液溶液の調製を以下に示す処方および手順に従って実施する。酢酸ナトリウムを所望ナトリウムイオン濃度が達成されるように添加する。特に明記しない限り、量をグラムで表しそしてパーセントを重量/重量で表す。

炭酸ナトリウム 121.9
硫酸ナトリウム 32.7
チオ硫酸ナトリウム 36.4
60%の水硫化ナトリウム 70.9
酢酸ナトリウム 445.3
50%の水酸化ナトリウム 290.7
29.55%のSiO 14.0
塩基性アルミン酸塩溶液 25.1
脱イオン水 1746
―――――――
総量 2783g=2.30リットル

計算した濃度:
[CO 2−]=0.5M
[SO 2−]=0.1M
[S 2−]=0.1M
[SH]=0.33M
[Na]=5.7M
[OH]=1.6M
[Si]=0.03M
[Al]=0.01M
前記溶液の調製では、水を急速撹拌しながらこれに炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、水硫化ナトリウムおよび酢酸ナトリウムを添加することで調製を実施する。撹拌を30分間行った後の溶液を粗いガラスフリットに通して濾過することで不溶な材料を少量除去する。水酸化ナトリウム溶液、シリカ溶液そして最後に塩基性アルミン酸塩溶液の添加を各添加後に撹拌を行うことを伴わせて実施する。その溶液を以下に記述するようにして直ちに用いる。
実施例26から33の各々では、重合体iii(実施例3)、v(実施例5)、viii(実施例8)、ix(実施例9)、xi(実施例11)、xii(実施例12)、xvii(実施例17)およびxviii(実施例18)の個々の重合体溶液を使用前に2%のNaOH溶液で前以て希釈して1%(重量/重量)の活性濃度にしておく。
ラベルを付けておいた4オンスの広口HDPE製ジャーに重合体溶液を1.45gの量で加える(または対照試験では水を1.45g加える)。次に、各ジャーに模擬クラフト黒色液溶液を145g(120ml)加えた後、蓋をして振とうする。次に、各ジャーに「試験溶液」を入れる。重合体の用量を100ppmにする。
次に、圧力が解放され得るように前記ジャーに付けた蓋を緩めた後、前記ジャーを102℃のオーブンの床の上に置くことでクラフト工程液の加熱を模擬する。1.5時間に前記蓋をきつく絞めた後、前記ジャーを回転式焼き器の上に置いて、オーブンの中に入れる。各サンプルを前記オーブンの中の回転式焼き器の上で一晩(16.5時間)回転させた後、前以て重量を測定しておいた3μmの濾過膜(Pall Versapor−3000T w/wa、47mm)を用いて濾過する。各膜といくらか集められた固体を約5mlの水で洗浄した後、直径が2.5インチのウォッチガラスの上に置く。鋼製皿に前記ウォッチガラスと膜の全部を入れて、102℃のオーブンに30分間入れることで、その濾過で取り出した固体を乾燥させる。各膜と固体の重量を測定した後、その固体の重量を差で計算する。次に、スケール抑制%を下記の様式で計算する:
Figure 0005350271
実施例26−33で重合体に試験を100ppmの量で受けさせた時の結果を表9に示す。
Figure 0005350271
実施例34
50mlの水に40℃で99%のPEO(Aldrich、セントルイス、MO、数平均分子量が2000)を100.0g溶解させる。グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランを12.55g加えた後、触媒である45%の水酸化カリウム(KOH)を6.5g加える。その混合物を60℃に2時間加熱することでトリメトキシシランエーテルを生じさせる。この生成物を使用前にNaOH溶液に溶解させることでナトリウム塩を生じさせる。
以下の実施例35−38の重合体は、エポキシド末端キャップド(end−capped)(2,3−エポキシプロピル末端キャップド)ポリエチレンオキサイド重合体とアミノアルキルトリアルコキシシランの反応生成物であり、これらの調製を以下の如く実施することで下記の構造を有する共重合体を生じさせる:
A−{CHCHOHCHO−(CHCHO)x(CHCH(CH)O)(CHCHO)−CHCHOHCHO−(B)}
ここで、yおよびz=0、Aは−NH(CH−Si(OEt)であり、そしてBは>N(CH−Si(OEt)である。
次に、各生成物を使用前に2.5%の水酸化ナトリウム溶液に溶解させることでナトリ
ウム塩[A=−NH(CH−Si(Na)およびB=>N(CH−Si(Na)]の溶液を生じさせる。重合体の濃度を以下に示す。
実施例35
RaschigのD−400DGE a PEOジグリシジルエーテル[PEOのMW=396(1分子当たりのエチレンオキサイド単位の数が9であることに相当)](20g)と7.8gのアミノプロピルトリエトキシシランを70−80℃で1時間反応させることでシランエーテルを生じさせる。その結果として生じた生成物のMWは約3000であり、これは下記の構造に相当する:
A−{CHCHOHCHO−(CHCHO)x(CHCH(CH)O)(CHCHO)−CHCHOHCHO−(B)}
ここで、x=9、yおよびz=0、そしてaは約4であり、Aは−NH(CH−Si(OEt)であり、そしてBは>N(CH−Si(OEt)である。
次に、その生成物を2.5%の水酸化ナトリウム溶液に溶解させることでナトリウム塩[Aは−NH(CH−Si(ONa)でありそしてBは>N(CH−Si(ONa)である]が20.6%入っている溶液を生じさせる。
同様に、実施例36、37、38の調製も同じ様式であるが分子量がいろいろなポリエチレンオキサイド(PEO)ジグリシジルエーテルを用いて実施する。
実施例36
Nagase Chemtex(大阪、日本)のDenacol 861 PEOジグリシジルエーテル[PEOのM=988(xが約22である)](20.33g)と8.0gのアミノプロピルトリエトキシシランを80℃で1時間反応させる。その生成物を使用前に2.3%のNaOHに溶解させることでナトリウム塩が30.9%入っている溶液を生じさせる。
実施例37
Nagase Chemtex(大阪、日本)のDenacol 821 PEOジグリシジルエーテル[分析を基にしたPEOのM=224(xが約5である)](14.0g)と16.8gのアミノプロピルトリエトキシシランを80℃で1時間反応させることでトリエトキシシランエーテル反応生成物を生じさせる。次に、その生成物を使用前に2.3%のNaOHに溶解させることでナトリウム塩が31.6%入っている溶液を生じさせる。
実施例38
Denacol 832(Nagase Chemtexによる分析を基にしたPEOのPEOジグリシジルエーテルのM=390)(17.0g)と14.1gのアミノプロピルトリエトキシシランを80℃で1時間反応させる。その生成物を3.6%のNaOHに溶解させることでナトリウム塩が31.3%入っている溶液を生じさせる。
実施例39
以下のスケール抑制試験を前記実施例19に示した試験手順に従って実施する[模擬高レベル核廃棄物(HLNW)液を使用]。この液の組成を表10に記述する。スケール抑制の結果を表11に示す。
Figure 0005350271
Figure 0005350271
表11−試験条件
重合体の用量:100mg/l
手順は上述した如く。

Claims (11)

  1. 産業工程におけるアルミノケイ酸塩スケールを減少させるための組成物であって、式:
    A−{CH2CHOHCH2O−(CH2CH2O)x(CH2CH (CH3) O)y(CH2CH2O)z−CH2CHOHCH2O−(B)]a
    [式中、a=1−100、x/x+y+z=5−100%、y/x+y+zおよびz/x+y+z=0−100%、そしてAは−NH (CH 2 ) n −Si(OR”) 3 から成る群より選択されそして繰り返し単位Bは>N (CH 2 ) n −Si(OR”) 3 から成る群より選択されかつArはアラルキルまたは芳香基であり、かつR”はH、Cl−C20の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキル基、IもしくはII族の金属および式NR1R2R3R4+で表されるアンモニウム塩から成る群より選択され、かつR1、R2、R3、R4はH、C1−C20の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキル基から選択される]
    に従う重合体を含有して成る組成物。
  2. R”がH、IもしくはII族の金属イオンおよび式NR1R2R3R4+で表されるアンモニウム塩から選択されかつR1、R2、R3、R4が各々独立してH、C1−C20の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキル基から選択される請求項1記載の組成物。
  3. 産業工程におけるアルミノケイ酸塩スケールを減少させるための組成物であって、(a)エポキシ官能化ポリアルキレンオキサイド重合体と(b)アミノ官能基と−Si(OR”)3官能基を含有する有機化合物の反応生成物を含んで成っていて前記−Si( OR”)3 基が加水分解を受けてI族もしくはII族の金属イオンまたはアンモニウムイオンNR1R2R3R4+(ここで、R1、R2、R3、R4は個別にH、C1−C20の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキル基から選択される)の塩を形成している重合体を含有して成る組成物。
  4. アミノ官能基と−Si( OR”)3 官能基を含有する前記有機化合物がアミノアルキルトリアルコキシシランおよびアミノアリールトリアルコキシシランから選択される請求項3記載の組成物。
  5. アミノ官能基と−Si( OR”)3 官能基を含有する前記有機化合物がアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルジエチレントリアミン、ベンジルエチレンジアミンプロピルトリメトキシシラン、ビニルベンジルエチレンジアミンプロピルトリメトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、NH2(CH2)2 NH (CH2)3−Si( OCH3)3、NH2( CH2)2 NH(CH2)2 NH(CH2)3−Si( OCH3)3、ビス−(ガンマ−トリメトキシシリルプロピル)アミンおよびこれらの組み合わせから成る群より選択される請求項3 または4記載の組成物。
  6. 前記−Si( OR”)3 基が加水分解を受けてI族もしくはII族の金属イオンまたはアンモニウムイオンNR1R2R3R4+(ここで、R1、R2、R3、R4は個別にH、C1−C20の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキル基から選択される)の塩を形成している請求項1から2のいずれか記載の組成物。
  7. yおよびz=0%である請求項1記載の組成物。
  8. (a)エポキシド末端キャップドポリエチレンオキサイド重合体と(b)アミノ官能基と−Si( OR”)3 官能基を含有する有機化合物の反応生成物を含有して成る請求項1−2のいずれか1項記載の組成物。
  9. アミノ官能基と−Si( OR”)3 官能基を含有する前記有機化合物がアミノプロピルトリメトキシシランおよびアミノプロピルトリエトキシシランから選択される請求項5記載の組成物。
  10. y=1−50%である請求項1記載の組成物。
  11. アルカリ性工程流れを有する産業工程で用いられる装置に生じるアルミノケイ酸塩含有スケールを減少させる方法であって、前記アルカリ性工程流れに請求項1−10のいずれか記載の重合体をアルミノケイ酸塩含有スケールを抑制する量で添加する段階を含んで成る方法。
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7390415B2 (en) * 2002-07-22 2008-06-24 Cytec Technology Corp. Method and compositions for preventing or reducing aluminosilicate scale in alkaline industrial processes
AU2008214212B2 (en) * 2007-02-05 2012-03-01 Cytec Technology Corp. Silane substituted polyethylene oxide reagents and method of using for preventing or reducing aluminosilicate scale in industrial processes
DE102009034607A1 (de) * 2009-07-24 2011-01-27 Evonik Goldschmidt Gmbh Neuartige Siliconpolyethercopolymere und Verfahren zu deren Herstellung
BR112012003574B1 (pt) * 2009-08-20 2020-12-01 Statoil Petroleum As método para inibir formação de incrustação dentro de um sistema de produção de hidrocarboneto, usos de um organossilano em combinação com um mineral de argila e opcionalmente um carboneto de metal, e de um mineral de argila e opcionalmente um carboneto de metal e/ou um organossilano, composição de tratamento de poço de hidrocarboneto, e, kit para inibir a formação de incrustação dentro de um sistema de produção de hidrocarbonetos.
US9416020B2 (en) 2009-09-25 2016-08-16 Nalco Company Surfactant based small molecules for reducing aluminosilicate scale in the bayer process
US8889096B2 (en) * 2009-09-25 2014-11-18 Nalco Company Reducing aluminosilicate scale in the bayer process
US9487408B2 (en) 2009-09-25 2016-11-08 Nalco Company Reducing aluminosilicate scale in the bayer process
CN102373465B (zh) * 2010-08-06 2013-06-26 中化蓝天集团有限公司 一种以含氮双硅烷为主要成膜剂的有机硅金属表面处理剂
JP5742806B2 (ja) 2012-09-14 2015-07-01 信越化学工業株式会社 レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
DE102013216787A1 (de) 2013-08-23 2015-02-26 Evonik Degussa Gmbh Guanidingruppen aufweisende semi-organische Siliciumgruppen enthaltende Verbindungen
US10315944B2 (en) * 2014-04-30 2019-06-11 Dow Global Technologies Llc Polymeric flocculants for treating aqueous mineral suspensions
TW201615648A (zh) * 2014-10-22 2016-05-01 巴斯夫歐洲公司 用於液力黏結劑之單及雙伸烷基三烷氧基矽烷分散劑
US10301414B2 (en) * 2014-12-08 2019-05-28 Cytec Industries Inc. Silicon containing polymer flocculants
CA2971605C (en) * 2014-12-17 2024-01-16 Cytec Industries Inc. Scale inhibitor compositions and methods of using
EP3256420A1 (en) 2015-02-11 2017-12-20 Cytec Industries Inc. Modified amines useful as scale inhibitors in wet process phosphoric acid production
RU2717813C1 (ru) * 2016-06-07 2020-03-25 Сайтек Индастриз Инк. Кремнийсодержащие полимерные флокулянты
CN112516817B (zh) * 2020-11-03 2022-10-11 贵州省材料产业技术研究院 一种聚偏氟乙烯疏松纳滤膜及其制备方法和应用
US11981855B2 (en) * 2022-04-01 2024-05-14 Baker Hughes Oilfield Operations Llc Compositions of matter comprising suspended nanoparticles functionalized with glymo or glymo-like groups and related methods

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3509012A (en) * 1965-11-22 1970-04-28 Owens Corning Fiberglass Corp Composition and compound for treatment of glass fibers to improve elastomeric bonding
US3387699A (en) * 1966-03-10 1968-06-11 Packaging Components Inc Dispensing containers
US4010110A (en) * 1971-08-06 1977-03-01 Drew Chemical Corporation Process for dispersing contaminants in circulating water or polar organic liquid system
US4120400A (en) * 1976-11-22 1978-10-17 Primary Design Group, Inc. Pill package
US4192422A (en) * 1976-11-22 1980-03-11 Primary Design Group, Inc. Pill package
JPH0659365B2 (ja) * 1989-01-27 1994-08-10 信越化学工業株式会社 消泡剤組成物
US5019125A (en) * 1990-06-26 1991-05-28 Marion Merrell Dow Inc. Dispensing container
US5085694A (en) * 1991-03-04 1992-02-04 Dow Corning Corporation Polish compositions
US5360571A (en) * 1992-03-31 1994-11-01 Osi Specialties, Inc. Surfactant compositions
US5275291A (en) * 1992-04-16 1994-01-04 Tredegar Industries Inc. Tablet dispenser
JPH0699879B2 (ja) * 1992-08-27 1994-12-07 伯東株式会社 パルプ蒸解釜のスケール付着防止剤およびスケール付着防止方法
WO1995009211A1 (fr) 1993-09-29 1995-04-06 Nippon Shokubai Co., Ltd. Composition de traitement de surface et moulage en resine a surface traitee
US5510439A (en) * 1993-11-04 1996-04-23 Nalco Chemical Company Vinyl alkoxysilane copolymer polyelectrolytes for pitch deposit control
GB9713876D0 (en) * 1997-06-30 1997-09-03 Glaxo Group Ltd Device for holding blister pack
US6762172B1 (en) * 1997-07-17 2004-07-13 Nova Biogenetics, Inc. Water-stabilized organosilane compounds and methods for using the same
JPH1190488A (ja) * 1997-09-24 1999-04-06 Kurita Water Ind Ltd スケール防止剤
JP2001212805A (ja) 2000-01-31 2001-08-07 Showa Denko Kk 木材処理剤及びその用途
DE10016302A1 (de) * 2000-03-31 2001-10-04 Bsh Bosch Siemens Hausgeraete Küchenmaschine
US6349831B1 (en) * 2000-06-30 2002-02-26 Fisher Clinical Services, Inc. Child-resistant product package
US6945400B2 (en) * 2000-10-18 2005-09-20 Sticky Business, Llc Child resistant senior friendly medicament label
US6406794B1 (en) * 2001-02-08 2002-06-18 Jsr Corporation Film-forming composition
JP2002285086A (ja) * 2001-03-26 2002-10-03 Jsr Corp 膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜
JP2005510431A (ja) * 2001-11-30 2005-04-21 ウエスト・ファーマスーティカル・サービシーズ・インコーポレイテッド 対小児安全容器
US6814873B2 (en) 2002-07-22 2004-11-09 Cytec Technology Corp. Method of preventing or reducing aluminosilicate scale in a bayer process
US7390415B2 (en) 2002-07-22 2008-06-24 Cytec Technology Corp. Method and compositions for preventing or reducing aluminosilicate scale in alkaline industrial processes
US20060124553A1 (en) * 2002-07-22 2006-06-15 Taylor Matthew L Method of preventing or reducing aluminosilicate scale in high level nuclear wastes
DE10301976A1 (de) * 2003-01-20 2004-07-29 Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg Silikonhaltige Polymerisate
JP2006096797A (ja) 2004-09-28 2006-04-13 Dainippon Ink & Chem Inc 水性樹脂組成物、及びそれを用いたインクジェット受理層用組成物
CA2815552C (en) * 2005-02-09 2014-12-09 Cytec Technology Corp. Method of preventing or reducing aluminosilicate scale in industrial processes
DE102005060649A1 (de) * 2005-12-19 2007-06-21 Wacker Chemie Ag Vernetzbare Massen auf der Basis von Organosiliciumverbindungen
US7913857B2 (en) * 2006-02-01 2011-03-29 Woongjin Chemical Co., Ltd. Selective membrane having a high fouling resistance
US7999065B2 (en) 2006-10-13 2011-08-16 Cytec Technology Corp. Hydrophobically modified polyamine scale inhibitors
JP5543208B2 (ja) * 2006-10-13 2014-07-09 サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン 疎水修飾ポリアミン系スケール防止剤
AU2008214212B2 (en) * 2007-02-05 2012-03-01 Cytec Technology Corp. Silane substituted polyethylene oxide reagents and method of using for preventing or reducing aluminosilicate scale in industrial processes

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