JP5347299B2 - 吸水性物品の製法 - Google Patents
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1.塗布装置の準備
要部が図1及び図2の構造を有する塗布装置1を用意した。ノズル4は、ニードル径が1.4mmのものであり、ノズル4(SUS316製)の軸間の距離を25mmの一定としてノズル4を39個配置した。(ノズル4は、25mm間隔で配置される)また、3mm厚さの基材2がノズル4の下方に来たときに、ノズル4との距離が25mmとなるようにノズル位置を調整した。また、塗布装置1の周囲環境が温度25℃、相対湿度45%RHとなるように調整した。
イソシアネート基を有するイソシアネートとして、ヘキサメチレンジイソシアネートのビューレットタイプポリイソシアネート(商品名「N3200」住友バイエルウレタン製)を塗布剤Aとした。
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(LS−3150、信越シリコーン社製)を、90重量%のエタノールと10重量%のイソプロピルアルコールからなる変性アルコール(エキネンF−1、キシダ化学社製)で1重量%となるように溶液を調製した。次に該溶液を吸収したセルロース繊維からなるワイパー(商品名「ベンコット」、型式M−1、50mm×50mm、小津産業製)で、1000mm×1000mm×3mm(厚さ)の矩形状のフロート法で得られたソーダ石灰珪酸塩ガラスよりなるガラス板の表面を払拭することで該溶液を塗布し、室温状態にて乾燥後、水道水を用いてワイパーで膜表面を水洗することで、基材2を準備した。
基材2を、搬送装置(図1及び2では図示されない)によりノズル4が配列された箇所より上流側から投入する。そして、基材2が下流側に約500mm進行すれば、別の基材2を投入する。本実施例では、計10枚の基材2が投入された。基材2を水平方向に速度0.4m/sで搬送させ、ノズル4の下方を通過させる。基材2の下流側辺がノズル4の開口部(ニードル)下方に到達後、基材2が下流方向(基材2の進行方向)に10mm進んだ時点から吐出圧力を0.025〜0.05MPaの範囲で調節してフロー量2.2g/秒となるように塗布液3の給液を開始し、基材2の上流側辺から10mm下流側箇所がノズル4の開口部(ニードル)下方に到達したときに塗布液3の供給を終了させる。この繰り返しにより、投入された基材2に全て塗布液3の塗布を行った。尚、ノズル4からの塗布液3の供給は、電磁弁5での開閉操作により、電磁弁が開のときに塗布液3が基材2上に供給される。
固形分濃度を24質量%となるように希釈溶媒の添加量を調整した以外は、実施例1と同様にして10枚の吸水性物品を得た。本実施例での塗布液の溶媒は、メチルエチルケトンが94質量%、酢酸ノルマルブチルが6質量%となっている。また、本塗布液は、25℃での粘度が1.8mPa・sであった。本実施例で得られた各吸水性物品は、呼気を吹きかけても曇らず、また、各物品とも外観に異常がなく、成膜面内の被膜の膜厚も42±3μmであった。
固形分濃度を20質量%となるように希釈溶媒の添加量を調整した以外は、実施例1と同様にして10枚の吸水性物品を得た。本実施例での塗布液の溶媒は、メチルエチルケトンが94質量%、酢酸ノルマルブチルが6質量%となっている。また、本塗布液は、25℃での粘度が1.3mPa・sであった。本実施例で得られた各吸水性物品は、呼気を吹きかけても曇らず、また、各物品とも外観に異常がなく、被膜の膜厚も35±3μmであった。
固形分濃度を16質量%となるように希釈溶媒の添加量を調整した以外は、実施例1と同様にして10枚の吸水性物品を得た。本実施例での塗布液の溶媒は、メチルエチルケトンが83質量%、酢酸ノルマルブチルが17質量%となっている。また、本塗布液は、25℃での粘度が1.3mPa・sであった。本実施例で得られた各吸水性物品は、呼気を吹きかけても曇らず、また、各物品とも外観に異常がなく、被膜の膜厚も23±3μmであった。
希釈溶媒をメチルエチルケトンの代わりにアセトンとした以外は、実施例1と同様にして10枚の吸水性物品を得た。本比較例での塗布液の溶媒は、アセトンが94質量%、酢酸ノルマルブチルが6質量%となっている。また、本塗布液は、25℃での粘度が1.7mPa・sであった。本比較例で得られた各吸水性物品は、基材2に塗布された塗布液3のレベリングが達成される前に溶媒の蒸発が起こったために、レベリング不足により被膜の平坦化が十分ではなかった。
固形分濃度を2質量%となるように希釈溶媒の添加量を調整した以外は、実施例1と同様にして10枚の吸水性物品を得た。本実施例での塗布液の溶媒は、メチルエチルケトン94質量%、酢酸ノルマルブチルが6質量%となっている。また、本塗布液は、25℃での粘度が0.6mPa・sであった。本比較例で得られた各吸水性物品の被膜の膜厚は4±1μmと薄く、目標の吸水量が得られなかった。また、塗布液3が塗布された面の反対側に塗布液の周り込みが起こっていた。
希釈溶媒をメチルエチルケトンの代わりに酢酸イソブチルとした以外は、実施例と同様にして10枚の吸水性物品を得た。本実施例での塗布液の溶媒は、酢酸イソブチルが94質量%、酢酸ノルマルブチルが6質量%となっている。また、本塗布液は、25℃での粘度が4.0mPa・sであった。本比較例で得られた各吸水性物品は、基材2に塗布された塗布液3のレベリングが不十分で、ライン状の被膜が複数に形成された。
固形分濃度を35質量%となるように希釈溶媒の添加量を調整した以外は、実施例1と同様にして10枚の吸水性物品を得た。本実施例での塗布液の溶媒は、メチルエチルケトン94質量%、酢酸ノルマルブチルが6質量%となっている。また、本塗布液は、25℃での粘度が3.8mPa・sであった。本比較例で得られた各吸水性物品は、基材2に塗布された塗布液3のレベリングが不十分で、ライン状の被膜が複数に形成された。
2 基材
3 塗布液
31 液滴状の塗布液
32 レベリング作用により平坦化された液滴状の塗布液
33 レベリング作用により表面が平坦化された塗布液
4 ノズル
5 電磁弁
Claims (5)
- 基材及び該基材上に形成された吸水性を有するウレタン樹脂よりなる被膜を有する吸水性物品の製法であり、該製法は、塗布液の基材への塗布工程を有し、該塗布工程は、水平に搬送された基材の基材面に該基材の上方に配置され且つ基材の搬送方向に対して基材を垂直に横切る方向に配列された複数のノズルから塗布液を供給する工程を有し、前記塗布液をポリイソシアネートと、ポリオールが混合されてなる固形分と、メチルエチルケトンを含有する溶媒であって、該溶媒を基準としてメチルエチルケトンの含有量が80質量%以上の溶媒とを有するものとし、ノズルからの塗布液の吐出時には、ノズルから吐出された液滴状の塗布液が相互に重ならないようにノズル間隔をノズルの軸間距離を100mm以内で一定間隔に調整し、ノズルの先端と基材との距離は、5〜150mmで調整し、塗布液の粘度を1〜3mPa・sとなるように調整することで、基材の水平搬送のみで、基材上の塗布された塗布液が、該塗布液のレベリング作用によって平坦化せしめることを特徴とする吸水性物品の製法。
- 塗布液中の固形分濃度を5〜30質量%とすることを特徴とする請求項1に記載の吸水性物品の製法。
- ノズル内の塗布液の水分量を1000ppm以下に調整することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の吸水性物品の製法。
- ノズルの下方に基材がないときにはノズルからの塗布液の給液を停止することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の吸水性物品の製法。
- 塗布液が界面活性剤を有し、該界面活性剤が固形分に対して0.007〜0.0001倍量であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の吸水性物品の製法。
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