JP5344438B2 - 物質固定用基板、物質固定化基板および分析方法 - Google Patents
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Description
近年、抗体または抗原をプレート上に固定化した、免疫測定のためのイムノプレートや、核酸をチップ上に固定化したDNAチップ等が広く用いられている。基体上に固定化された物質を検出するための方法としては、化学発光法、蛍光法、発色法等がある。中でも、化学発光法は、高感度検出が可能であり、かつ検出装置が安価であるため、広く用いられている方法である。
そこで本発明の目的は、ポリペプチド、核酸、脂質等の物質を化学発光法により高感度に検出するための手段を提供することにある。
本発明を完成するに至った。
表面の少なくとも一部にクロムおよびモリブデンからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属または該金属の合金からなる金属部を有する、前記物質固定用基板
に関する。
上記物質は、前記金属部上に固定化されており、かつ
固定化された物質を化学発光法によって直接的または間接的に検出するために使用される、前記物質固定化基板
に関する。
前記基板は、基板表面の少なくとも一部にクロムおよびモリブデンからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属または該金属の合金からなる金属部を有し、該金属部上に前記物質が固定化されている、前記分析方法
に関する。
本発明は、化学発光法によって直接的または間接的に検出される物質を固定化するための物質固定用基板に関する。本発明の物質固定用基板は、表面の少なくとも一部にクロムおよびモリブデンからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属または該金属の合金からなる金属部を有する。クロムおよびモリブデンに物質を固定化し化学発光法により固定化された物質を検出することにより、きわめて高感度な検出が可能になることが、本発明者らの検討の結果、新たに見出された。これは、クロムおよびモリブデンが高反射率を有することに起因すると考えられる。
以下に、本発明の物質固定用基板について、更に詳細に説明する。
以下に、本発明の物質固定化基板について更に詳細に説明する。
クロムコートガラス基板の作製
ガラス基体の一方の表面全面に真空蒸着法によりクロムからなる金属層を形成した。ガラス基体の厚さは0.7mm、クロム層の厚さは約1100Åであった。上記蒸着処理により、クロム層とガラス基体との間には、厚さ約500Åの酸化クロム層が形成された。
蒸着材料をクロムからモリブデンに変えた点以外、実施例1と同様の方法でガラス基体の一方の表面全面に真空蒸着法によりモリブデンからなる金属層を形成した。
BSA固定化チップの作製(1)
(1)ピランハ処理
実施例1で作製したクロムコートガラス基板を、ピランハ溶液(硫酸:30質量%過酸化水素水=1:3(質量比))中に5分間浸漬した後、MilliQ水ですすぐ操作を2回繰り返した。
(2)ポリマー層の形成
PCT/JP2004/004510(WO2004/088319)の実施例3に記載の方法によって得たアジド基含有ポリエチレングリコール(以下、「Az-PEG」ともいう)を、50質量%エタノール水溶液に溶解(Az-PEG量:0.15質量%)してポリマー層形成用塗布液を調製した。この塗布液を、上記基板のクロム層表面上に滴下しスピンコート(4000rpm×30sec)した後、0.09MPaにて15分間減圧乾燥を行った。その後、ポリマー層表面へUV照射(ブラックライト(波長300〜400nm)で7分間)した。
(3)BSAの固定化
抗原溶液としてBSA水溶液(BSA濃度:0.5mg/ml)を、アレイヤーを用いて図1に示すアレイヤープログラムでポリマー層上にスポットした。その後、常温常圧で7分間乾燥し、次いでスポットを含むポリマー層表面へUV照射(ブラックライト(波長300〜400nm)で7分間)し、抗原が固定化されたチップを作製した。作製したチップをホスフェートバッファー溶液(以下、「PBS」ともいう)に0.1質量%Tween20(登録商標)を添加した洗浄溶液でミキサー(強度0)にて3分間洗浄した後、0.1MPaで5分間減圧乾燥した。
λDNA固定化チップの作製(1)
抗原溶液に添加する抗原をλDNAに変更した点(抗原溶液中のλDNA濃度:1mg/ml)以外、実施例3と同様の方法でλDNA固定化チップを作製した。
BSA固定化チップの作製(2)
実施例2で作製したモリブデンコートガラス基板を使用した点以外、実施例3と同様の方法でモリブデンコートガラス基板上へ抗原を固定化しチップを作製した。
λDNA固定化チップの作製(2)
抗原溶液に添加する抗原をλDNAに変更した点(抗原溶液中のλDNA濃度:1mg/ml)以外、実施例5と同様の方法でλDNA固定化チップを作製した。
化学発光法による分析(1)
実施例3〜6で作製した各チップの抗原固定化表面に、PBSにて希釈した一次反応溶液(抗BSA抗体溶液:100ng/ml、抗λDNA抗体陽性血清:100倍希釈)をそれぞれ滴下し、ミキサー(強度0)にて20分間反応させた。次いで、PBS(0.1質量% Tween 20(登録商標)含有)でミキサー(強度0)にて3分間洗浄した。その後、10質量%BSA入りPBSにて希釈した二次抗体(Anti−rabbit IgG:100倍希釈、Anti−human IgG:4000倍希釈)を滴下し、ミキサー(強度0)にて20分間反応させた。PBS(0.1質量% Tween 20(登録商標)含有)でミキサー(強度0)にて3分間洗浄した後、化学発光試薬を添加し発光強度を測定した。
基板を一方の表面に金をコートした金コートガラス基板に変更した点以外、実施例3と同様の方法でBSA固定化チップを作製し、このチップについて実施例7と同様の方法で化学発光法による分析を行った。
基板を一方の表面に金をコートした金コートガラス基板に変更した点以外、実施例4と同様の方法でλDNA固定化チップを作製し、このチップについて実施例7と同様の方法で化学発光法による分析を行った。
実施例7、比較例1、2で得られたCCDカメラ写真(暗所、倍率50倍)を図2に示す。実施例7、比較例1、2において抗原溶液のスポット回数を1回、2回、3回と変更して得られた発光強度とスポット回数の関係を示すグラフを図3に示す。
図2および図3に示す結果から、クロムコート基板およびモリブデンコート基板は、金コート基板と比べて発光強度が高く高感度検出が可能であることがわかる。また、図3に示すように、スポット回数を増やしても発光強度の大幅な増加は見られず、金コート基板ではスポット回数を増やしてもクロムコート基板およびモリブデンコート基板と同等の発光強度を得ることはできなかった。
なお、ポリマー層上にBSA溶液をスポットすると、スポット領域においてポリマー層の再溶解が起こり、BSAが直接クロム層表面と接触し物理吸着することにより、クロム層上にBSAを固定化できたと考えられる。
BSA固定化チップの作製(3)
ピランハ処理を行わなかった点以外、実施例3と同様の方法でBSA固定化チップを作製した。
BSA固定化チップの作製(4)
実施例3においてピランハ処理に代えてクロムコート基板をオゾン雰囲気中で10分間紫外線照射するオゾン処理を行った点以外、実施例3と同様の方法でBSA固定化チップを作製した。
化学発光法による分析(2)
実施例3、8、9で作製した各チップについて、実施例7と同様の方法で化学発光法による分析を行った。
実施例10において測定されたスポット最大発光強度を図4に示し、バックグラウンドの最大発光強度を図5に示す。図6は、実施例3,8、9におけるS/N比を示すグラフである。
図4に示すように、実施例3、8、9で作製したチップによれば高強度な発光が検出された。また、図5に示すようにバックグラウンドの発光強度が低かったことから、非特異的吸着が抑制されたことがわかる。このように実施例3、8、9では、スポットからの発光強度が高く、かつバックグラウンドの発光強度が低いため、図6に示すように高S/Nでの高感度分析が可能であった。
抗核抗体検査
実施例1と同様の方法で作製したクロムコートガラス基板を用いて以下の方法により細胞溶液の抗核抗体検査を行った。
(1)ポリマー層の形成
Az-PEGを、50質量%エタノール水溶液に溶解(Az-PEG量:0.15質量%)してポリマー層形成用塗布液を調製した。この塗布液を、クロム層表面上に滴下しスピンコート(5000rpm×30sec)した後、0.09MPaにて15分間減圧乾燥を行った。その後、ポリマー層表面へUV照射(ブラックライト(波長300〜400nm)で7分間)した。
(2)Nuc固定化チップの作製
1.25mg/ml、2.5mg/ml、5mg/mlの核画分抽出液(Nuc)をアレイヤーにて、ポリマー層上にスポットした。その後、常温常圧で7分間乾燥後、上記と同様のブラックライトにて7分間UV照射しチップを作製した。作製したチップを、PBS(0.1質量% Tween 20(登録商標)含有)でミキサー(強度0)にて3分間洗浄した後、0.1MPaで5分間減圧乾燥した。
(3)抗核抗体検査
ブラッドフォード法によって核画分抽出液のタンパク量を定量した。定量結果を基に、それぞれ既知の濃度にタンパク質溶液を調製にした。そして、それぞれのタンパク質濃度に対して10%のビスアジドを混合した。調製したタンパク質溶液を基板上にアレイヤーにてスポットを行った。常温常圧で7分間乾燥後、上記ブラックライトにて7分間UV照射した。その後、チップをPBS(0.1質量% Tween 20(登録商標)含有)でミキサー(強度0)にて3分間洗浄した後、0.1MPaで5分間減圧乾燥した。乾燥後のチップに、100倍希釈した血清をそれぞれ滴下し、ミキサー(強度0)にて20分間反応させた。その後、PBS(0.1質量% Tween 20(登録商標)含有)でミキサー(強度0)にて3分間洗浄した。
上記洗浄後のチップに、10質量%BSA含有PBS にて4000倍希釈したHRP標識抗ヒト(HRP labeled Anti-human) IgGを滴下し、ミキサー(強度0)にて20分間反応させた。その後、チップをPBS(0.1質量% Tween 20(登録商標)含有)でミキサー(強度0)にて3分間洗浄した後、後、化学発光試薬を添加しCCDカメラ写真(暗所、倍率50倍)の撮影および発光強度の測定を行った。
ワットマン社製ニトロセルロース・コートガラス基板を、ニトロセルロース層表面への紫外線照射および洗浄後、ブロッキング溶液(4質量%スキムミルク)中で2時間インキュベートすることによりブロッキングを行った。その後、ニトロセルロース表面へ実施例11と同様の方法で抗核抗体検査を行った。
実施例11および比較例3で撮影されたCCDカメラ写真を図7に示す。図8は、実施例11および比較例3で測定されたシグナル強度、図9はバックグラウンドを引いたシグナル強度、図10はS/N比を示すグラフである。図7〜10中、「ANA+」は、「抗核抗体(Anti-Nucleus Antibody)あり「、「ANA−」は、「抗核抗体なし」を意味する。
これらの結果から、実施例11のチップは、シグナル強度が高く、かつバックグラウンドが低いため、高いS/Nでの高感度分析が可能であることが示された。
これに対し、ニトロセルロース基板を使用した比較例3では、ブロッキングをしたにもかかわらずバックグラウンドが高く良好なS/Nを得ることはできなかった。
Claims (10)
- 化学発光法によって直接的または間接的に検出される物質を固定化するための物質固定用基板であって、
表面の少なくとも物質を固定化するための領域にクロムおよびモリブデンからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属または該金属の合金からなる金属部を有し(ただし前記金属部表面にはリンカー分子を結合させる処理は施されていない)、かつ前記金属部表面の少なくとも前記領域を含む領域に、分子全体として電気的に中性なポリマー層を有する、前記物質固定用基板。 - 前記金属部は、表面にピランハ処理および/またはオゾン処理が施されている請求項1に記載の物質固定用基板。
- 前記固定化される物質は、ポリペプチド、核酸、脂質、細胞およびその構成要素からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1または2に記載の物質固定用基板。
- 請求項1または2に記載の物質固定用基板に物質が固定された物質固定化基板であって、
上記物質は、前記金属部上に固定化されており、かつ
固定化された物質を化学発光法によって直接的または間接的に検出するために使用されることを特徴とする物質固定化基板。 - 前記物質は、ポリペプチド、核酸、脂質、細胞およびその構成要素からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項4に記載の物質固定化基板。
- 基板に固定化された物質を化学発光法によって直接的または間接的に検出することを含む分析方法であって、
前記基板は、基板表面の少なくとも物質を固定化するための領域にクロムおよびモリブデンからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属または該金属の合金からなる金属部を有し(ただし前記金属部表面にはリンカー分子を結合させる処理は施されていない)、かつ前記金属部表面の少なくとも前記領域を含む領域に、分子全体として電気的に中性なポリマー層を有し、
前記金属部上に前記物質が固定化されている、前記分析方法。 - 前記金属部上に物質を固定化する前に、該金属部表面にピランハ処理および/またはオゾン処理を施す請求項6に記載の分析方法。
- 前記物質は、ポリペプチド、核酸、脂質、細胞およびその構成要素からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項6または7に記載の分析方法。
- 前記基板に固定化された物質を化学発光法によって直接的に検出する請求項6〜8のいずれか1項に記載の分析方法。
- 前記基板に固定化された物質と特異的に反応する物質を化学発光法によって検出することにより、前記基板に固定化された物質を間接的に検出する請求項6〜8のいずれか1項に記載の分析方法。
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