JP5338572B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
これらの半導体チップ4Aおよび4Bはワイヤ5A及び5Bと共に封止樹脂6によって封止されている。このようにして得られたスタック型マルチチップモジュールMCMの半導体装置1は基板2の下面に設けた略半球状のはんだバンプ3によって図示しないマザーボード等の電極に接続されている。
これらの半導体チップ4Aおよび4Bはワイヤ5Bと共に封止樹脂6によってひとつのパッケージとして封止されている。得られたスタック型MCMの半導体装置8は基板2に設けたはんだバンプ3によってマザーボード等の電極に接続されている。
しかしながら、従来のMCM型の半導体装置1,8は図6及び図7に示すようにワイヤボンディングを使用するため,高速信号の伝送においてワイヤ5A、5Bによるインダクタンスの増加が無視できなくなってきている。またワイヤ5A、5Bは必ずループ形状に配設されるため,MCM型の半導体装置1,8のさらなる薄型化の障害にもなっている。そこで下記特許文献1に示すようなワイヤボンディングを使用しないMCM型の半導体装置が提案されている。
そして、貫通孔に充填された導電体は電極パッドを介して内部接続用電極に接合することで、小チップは下方に隣接する他の子チップにそれぞれ電気的に接続された構成を備えている。
このような構成により、ワイヤを使用しない集積度の高いMCM型の半導体装置が得られるとしている。
本発明は,このような実情に鑑みて、積層した半導体チップについて簡便な構成で半導体チップの配線を短縮すると共に薄型化を実現した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
本発明による半導体装置の製造方法によれば、基板に無電解めっきによって導電性の給電層を形成し、その上に第一、第二のレジストによって導電性バンプを形成するためのパターンを形成し、導電性バンプの高さが短い場合には第一のレジストパターンのみで導電性バンプを電解めっきで析出させ、高さが長い場合には第一のレジストで析出させた導電性バンプの上に第二のレジストパターンで導電性バンプを電解めっきで析出させることで、積層される複数の半導体チップの配線距離に応じた長さの導電性バンプを形成することができる。これにより、高さの異なる各導電性バンプに積層した複数の半導体チップをそれぞれ接合させて積層することができる。
その後、封止樹脂によって半導体装置全体を封止できる。
図1及び図2に示す第一実施形態による半導体装置10は複数段、例えば2段スタック型マルチチップモジュール(MCM)を示すものである。図1に示す半導体装置10は、例えばプリント基板からなる基板11上に下段側の第一の半導体チップ12と上段側の第二の半導体チップ13とが積層されて配設されている。下段の第一の半導体チップ12は下面に突起電極14が所定間隔を開けて設けられ、突起電極14は基板11上に配設された電極11aにフリップチップ接続されている。
第一の半導体チップ12は、図2に示すように、例えば略四角形板状に形成され、図2に示す例では複数の突起電極14が基板11に対向する面に縦横方向に所定間隔で配列されている。CPUチップなどのように電極数が多い半導体チップは、第一の半導体チップ12のようにチップ全面に突起電極14が配列されることがある。
なお、第一の半導体チップ12は基板11との距離が短いために、突起電極14は上述したはんだ電極で構成して基板にフリップチップ接続することも可能である。
ロジック,マイコンなどの半導体チップは、本実施形態による半導体装置10のように第二の半導体チップ13の周辺に突起電極17が配列される場合が多い。
基板11において、第一、第二の半導体チップ12,13と反対側の面にはマザーボード等との接続のため複数のはんだバンプ18が配列されている。
さらに基板11上に設けた二段の半導体チップ12,13とこれらを突起電極14,17で基板11の電極11aにフリップチップ接合された領域は、封止樹脂20によって封止されている。
例えば、印刷法によるはんだ形成はペースト状のはんだを用いるため高さ方向に細長い柱状に形成することができず,例えば第二の半導体チップ13に接続させるような高い寸法を得るためには基板11に接続される部分の電極面積を大きくする必要がある。またはんだボール搭載法についてもほぼ略半球状のはんだを使用するため,突起電極14,17の高さを得るためには高さに応じて基板11に接続する面の電極面積が大きくなる。
従って、このようなはんだバンプを上段の第二の半導体チップ13に接続するための突起電極17として用いた場合に基板11への接続面積が大きいため特に不利に働く。
突起電極14,17について、本実施形態では銅,銀,錫,金,ニッケルのいずれかによる単一の金属材料で電気めっきによって柱状に形成されている。また、突起電極14,17は2種以上の金属材料を電解めっきによって接合して形成されていてもよい。
図3(a)に示す突起電極17は、銅製の柱状の電極層単体で構成したものであり、基板11の電極部11aと第二の半導体チップ13のはんだバンプの電極部13aとに接続して形成したものである。この構成は、銅がはんだ(スズ−鉛)のスズ成分に溶解してしまい接続不良を起こすことがあるためあまり好ましくない。
図3(b)に示す突起電極17は、銅製の電極層21aにニッケル製の電極層21bを柱状に接続して形成し、はんだバンプの電極部13aと接続させたものである。この場合、ニッケルは銅がスズ中に溶解することをバリアできるが、はんだの濡れ広がりが悪い。
図3(d)に示す突起電極17は、銅製の電極層21aにニッケル製の電極層21bと金製の電極層21cとを柱状に接続して形成したものである。この場合、表面が金なので、はんだ濡れ性が良くニッケル層がバリアになるので銅がスズに溶解せず、最も好ましい。
上述した図3(a)〜(d)に示すいずれの突起電極も採用可能であるが、図3(d)に示す構成の導電性バンプが最も好ましい。
なお、第二の半導体チップ22の形状や突起電極17の配列は図2や図4に示す形状や配列に限定されるものではなく任意であり、第一の半導体チップ12よりも外側に突出する領域を有していて、第一の半導体チップ12から外れて突出した領域で突起電極17によって直接基板11に接続されていればよい。
また、導電性バンプの変形例として、柱状の突起電極14,17に代えて金スタッドを設けて金ワイヤとしての線状の部分の先端側を切除することで突起電極14,17に変わる導電性バンプとして構成してもよい。
例えば、半導体チップを三段積層して構成した場合、一及び二段目の半導体チップ12,13(22)の接続構造には第一実施形態や変形例の構成を採用すると共に、三段目の半導体パッケージが信号の高速伝送を必要としない場合には、ワイヤを用いて基板11の電極11aに接続してもよい。特に、三段目の半導体チップが一段目や二段目の半導体チップ12,13(22)より小さくて外側に突出する部分がない場合にはワイヤ等で基板11に接続することになる。
更に半導体チップに貫通孔を設けて導電性バンプを充填して半導体チップ同士を接続した場合と比較して、下段側の第一の半導体チップ12の外側で上段側の第二の半導体チップ13を略柱状の突起電極17で基板11に接続したから、半導体チップに貫通孔を形成し導電性バンプを充填したりすることもなく、フリップチップ実装した後で背面を研磨する工程などが必要なく、構成が簡単で製造が容易であり製造コストを低廉にできる。
図5(a)において、プリント基板である基板11に銅からなる電極パッド11aが形成された状態が示されている。次に、同図(b)において、突起電極14を電解めっきで形成するための給電層24を無電解めっきによって基板11の表面に析出させて形成した。給電層24は無電解銅めっきによって銅の薄層として形成する。
同図(c)において、第一の半導体チップ12に電気的に接続するための突起電極14を形成するためにレジスト25を形成し、突起電極14を析出するためのパターンを形成する。レジスト25は感光性レジストを使用し、所望の開口25aのパターンが描画されたマスクを用いて露光・現像によりパターニングを行う。
そして、同図(f)に示すように、第二の半導体チップ13を電気的に接続するための突起電極17を析出させるためのレジスト26を形成してパターニングする。レジスト26は感光性レジストを使用する。所望のパターンとして突起電極17を形成するための突起電極14の領域にのみ形成する開口26aのパターンが描画されたマスクを用いて露光・現像によりパターニングを行う。
この例ではレジスト26の開口26aは1段目のめっき析出用の開口25aより小さく形成されているが,同一寸法でもよいし、より大きく形成されていてもかまわない。
また、同図(j)において、プリント基板11の突起電極14,17とは反対側の面にはんだバンプ18を形成する。はんだバンプ18は例えばはんだボールを搭載しリフローすることで形成する。同図(k)において、第一及び第二の半導体チップ12,13に設けた電極パッド28、29に予備はんだ30、30を形成したものを準備し、各突起電極14,17と位置合わせする。そして、同図(l)に示すように、第一及び第二の半導体チップ12,13の電極パッド28,29と突起電極14、17をリフローにより接合する。更に、これら基板11上で突起電極14,17を介して電気的に接続された第一、第二の半導体チップ12,13を封止樹脂20によって封止する。
このようにして半導体装置10を製造できる。
また,基板11の給電層24の上に第一、第二のレジスト25,26によって高さの異なる突起電極14、17を形成して、積層された第一、第二の半導体チップ12,13と高さに応じてそれぞれ接合させることで、積層された半導体チップ12,13に対する突起電極14,17の配線距離が短縮されてインダクタンスの増加がなく信号伝送の高速化に対応でき,しかも構成が簡単で製造が容易であり、半導体装置10を薄型化できる。
また、図1に示す半導体装置10では、第一及び第二の半導体チップ12,13は互いに離間した状態で積層されているが、接着剤等の絶縁材を介して互いに接着させて構成してもよい。
また、上述の実施形態では積層した複数の半導体チップ12,13の突起電極14,17はプリント基板等の基板11にフリップチップ接合するように構成したが、基板11に代えて上述した特許文献1に記載のように、他の半導体チップの電極に突起電極14,17をフリップチップ接合等により電気的に接続してもよい。
11 基板
12 第一の半導体チップ
13 第二の半導体チップ
14、17 突起電極
18 はんだバンプ
20 封止樹脂
24 給電層
25,26 レジスト
28,29 電極パッド
30 予備はんだ
Claims (1)
- 複数の半導体チップを積層して一体化してなる半導体装置の製造方法において、
基板に無電解めっきによって給電層を形成する工程と、
前記給電層に第一のレジストを形成してパターニングする工程と、
前記第一のレジストのパターンに電解めっきで第一の導電性バンプを成長させる工程と、
前記第二のレジストを形成してパターニングする工程と、
少なくとも一部の前記第一の導電性バンプに前記第二のレジストのパターンによって電解めっきで第二の導電性バンプを成長させる工程と、
前記第一の導電性バンプに第一の半導体チップを接合すると共に前記第二の導電性バンプに第二の半導体チップを接合する工程とを備えることで、
前記第一の半導体チップと第二の半導体チップを積層させてなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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