JP5335755B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
この構成により、1つの基板ステージに載置された基板に対して、回路パターンを基板に露光するとともに電子的に作成された情報データを露光することができる。
第3の観点の露光装置において、情報データは、文字情報、図形情報、又はテストクーポン情報の少なくとも一つを含む。
第4の観点の露光装置において、空間光変調ユニットが情報データを露光する領域は、投影露光ユニットが回路パターンを露光する領域に隣接する。
この構成により、投影露光ユニットが回路パターンを露光している最中に装置の振動が減少するとともに、空間光変調ユニットが情報データを露光している最中に装置の振動が減少する。
第7の観点の露光装置において、投影露光ユニットは回路パターンの倍率を変える変倍手段を備え、空間光変調ユニットは情報データを変倍手段に合わせて電子的に補正する。
この構成により、回路パターンの倍率が変えられた際には、情報データも同じ倍率に変えられて露光される。
以下、露光装置100の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、露光装置100の全形の斜視図である。図1では、筐体11の長軸方向がX軸方向で、短軸方向がY軸方向で描かれている。また、投影露光ユニット70の配置をわかりやすくするために、投影露光ユニット70を支える支柱類が図示されていない。
図3は空間光変調ユニット40、光源20及び投影光学ユニット70の構成を示した概念図である。
図3に示されるように、投影光学ユニット70の上方(+Z軸側)にはマスクステージMKSに載置されたフォトマスクMKが配置されている。そのフォトマスクMKの上方に光源20が配置されている。
投影光学ユニット70に使われる水銀ランプ21はフォトマスクMKの全面を照射するため照射光量が大きい。一方、空間光変調ユニット40に使われる水銀ランプ41は情報データの領域が小さいため照射光量が小さい。水銀ランプ41自体を小型化できると空間光変調ユニット40が走査する際の運動性が向上する。そこで、水銀ランプ41自体はなるべく小型化し、その一方でフォトレジストFRに対する感光性を低下させないようにすることが好ましい。
図5は、露光装置100の制御部90の構成を示したブロック図である。露光装置100は制御部90で制御される。制御部90は、情報データの露光を制御する情報データ露光制御部91、回路パターンの露光を制御する回路パターン露光制御部92及びアライメント制御部98を有している。情報データ露光制御部91、回路パターン露光制御部92及びアライメント制御部98は記憶装置MMに接続されている。
露光装置100の動作について説明する。図6は露光装置100の露光フローチャートである。図7に示されたプリント配線基板PWAの平面図、図8に示された情報データM1を参照しながら説明する。なお、図7に示されたプリント配線基板PWAは回路パターンPA又は情報データ(M1,M2)が露光されているが、露光前のプリント配線基板PWAにはアライメントマークAM(AM1,AM3,AM10,AM12)が形成されているだけである。またプリント配線基板PWAの表面には感光性物質であるフォトレジストFRが形成されている。
そしてステップS101において、アライメント制御部98は基板ステージ60をX軸方向及びY軸方向に移動させ、アライメントカメラ80の下方に図7に示されたプリント配線基板PWAのアライメントマークAMが存在するようにする。アライメントカメラ80はプリント配線基板PWAの複数のアライメントマークAMを撮像する。アライメントマークAM(AM1,AM3,AM10,AM12)は、プリント配線基板PWAの四隅に形成されており、例えばプリント配線基板PWAを貫通する貫通孔も含まれる。
25 … シャッタ部(25a … シャッタ羽根,25b … シャッタ駆動部)
28 … 第2レンズ、29 … カバー
32 … 排気口
40 … 空間光変調ユニット、41 … 水銀ランプ
42 … カバー(42a … 係合部)
43 … 第1光学系、44 … コールドミラー
46 … ミラーブロック、48 … 第2光学系
47 … DMD(ディジタルマイクロミラーデバイス)
49 … ファン
50 … 空間光変調ユニット駆動部
51 … X軸駆動装置、53 … Y軸駆動装置
55 … 門形フレーム(55a … 梁,55b … 支柱)
60 … 基板ステージ、65 … ステージ駆動部
70 … 投影露光ユニット
71 … 入射側凸レンズ、72 … 出射側凸レンズ
73 … 反射ミラー(73a … 第1反射面,73b … 第2反射面)
75 … 補正レンズ、77 … 凹面反射ミラー
78 … 鏡筒、79 … 倍率調整部
80 … アライメントカメラ
90 … 制御部
91 … 情報データ露光制御部、92 … 回路パターン露光制御部
93 … DMD駆動回路、94 … 駆動部制御回路
95 … 倍率制御回路、96 … ステージ制御回路
97 … シャッタ制御回路、98 … アライメント制御部
99 … 外部入力部
100 … 露光装置
AM … アライメントマーク
FR … フォトレジスト
LX1 … 長さ
LX3 … 距離
LX2 … 移動範囲
M1,M2 … 情報データ
MKS … マスクステージ
MK … フォトマスク
MM … 記憶装置
PA … 回路パターン
PWA … プリント配線基板
Claims (8)
- 紫外線を含む光を使ってフォトマスクに描かれた所定の回路パターンを感光性物質が塗布された矩形形状の基板に露光する露光装置において、
前記紫外線を含む光で前記フォトマスクの前記回路パターンを前記基板に露光する投影露光ユニットと、
前記基板を載置し前記投影露光ユニットに対して移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージを移動させるステージ駆動部と、
電子的に作成された情報データを前記紫外線を含む光で前記基板に露光する空間光変調ユニットと、
前記空間光変調ユニットを前記基板の辺に略平行な方向に移動させる空間光変調ユニット駆動部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記回路パターンが前記基板に露光する毎に、前記空間光変調ユニットは前記情報データを書き換えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記情報データは、文字情報、図形情報、又はテストクーポン情報の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置。
- 前記空間光変調ユニットが前記情報データを露光する領域は、前記投影露光ユニットが回路パターンを露光する領域に隣接することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記投影露光ユニットが前記回路パターンを露光する際には、前記空間光変調ユニット駆動部は前記空間光変調ユニットを停止させ、
前記空間光変調ユニットが前記情報データを露光する際には、前記空間光変調ユニット駆動部は前記空間光変調ユニットを移動させ、且つ前記ステージ駆動部は前記基板ステージを停止させることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記空間光変調ユニットが前記情報データを露光する際に使用される前記紫外線を含む光の光源は、前記投影露光ユニットが前記回路パターンを露光する際に使用される前記紫外線を含む光の光源とは別であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記投影露光ユニットの光源および前記空間光変調ユニットの光源は、水銀を封入した水銀放電ランプであり、各々の放電容器の体積当たりの水銀封入量が前記投影露光ユニットユニットの水銀放電ランプよりも前記空間光変調ユニットの水銀放電ランプの方が多いことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記投影露光ユニットは前記回路パターンの倍率を変える変倍手段を備え、
前記空間光変調ユニットは前記情報データを前記変倍手段に合わせて電子的に補正することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の露光装置。
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