JP5335380B2 - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第3の側面は、投影光学系と、基板を保持して移動するステージと、前記投影光学系の光軸の方向に関して前記基板の表面の位置を計測する計測器とを有し、走査方向に沿って前記基板の上に配列された複数のショット領域を前記計測器に対して前記走査方向に連続的に走査して各ショット領域の表面の位置を計測し、その計測結果にしたがって前記ステージを移動させて前記投影光学系を介し各ショット領域を露光する露光装置であって、前記ステージおよび前記計測器を制御する制御部を備え、前記制御部は、前記走査方向に沿うように、ショット領域の中心に配置された計測箇所と該中心に対して対称に所定ピッチで配置された計測箇所とのリストである計測箇所リストを生成し、前記制御部による前記計測器の制御は、前記計測箇所リストに含まれる計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第1の制御と、前記計測箇所リストにおける計測箇所のうちショット領域の中心に関して両側にある計測箇所が前記所定ピッチの半分だけ前記中心に向かう方向に移動してなる計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第2の制御と、を含み、前記制御部は、前記計測箇所リストにおける前記最後の計測箇所と前記最初の計測箇所との間隔が前記所定ピッチより小さくない場合に前記第1の制御を実行し、前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さい場合に前記第2の制御を実行する。
図1は、本発明の好適な実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。光源1は、例えば、エキシマレーザ又はi線ランプである。光源1から射出された光は、光学部材122に入射する。光学部材122は、光の強度を減衰させるために使用される。光学部材122は、例えば、互いに異なる複数の減光率を有する光学素子(例えば、NDフィルタ)を含む。光学部材122を通過した光は、光学ユニット102に入射する。光学ユニット102は、コヒーレントな光の角度を振動させることで、照度むらを低減する。光学ユニット102を通過した光は、ビーム整形光学系103に入射する。ビーム整形光学系103は、光の断面形状を整形するとともに光をインコヒーレント化する。
本発明の第2実施形態は、第2計測箇所リストが第1実施形態と異なるとともに、第3の制御が変更されている。なお、第2実施形態として特に言及しない事項は、第1実施形態に従いうる。
P=Pedge
P=τ0×V
ここで、
Mod(a、b):aをbで除した際の余り
L:各ショット領域の走査方向における長さ
P:走査速度Vにおける計測ピッチ
Pedge:ショット間計測箇所間隔
τ0:計測制御部129における処理時間
V:フォーカス計測時の走査速度
である。この条件において、最大のVを算出することにより、生産性の低下を抑えつつ高い計測精度が得られる走査速度Vを決定することができる。もちろん、このVは離散的に存在することとなるが、精度を重視するのであれば、上記条件を満たす次に速い走査速度を選択することも考えられる。
つぎに、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。
128:ステージ制御部
129:計測制御部
130:主制御部
Claims (9)
- 投影光学系と、基板を保持して移動するステージと、前記投影光学系の光軸の方向に関して前記基板の表面の位置を計測する計測器とを有し、走査方向に沿って前記基板の上に配列された複数のショット領域を前記計測器に対して前記走査方向に連続的に走査して各ショット領域の表面の位置を計測し、その計測結果にしたがって前記ステージを移動させて前記投影光学系を介し各ショット領域を露光する露光装置であって、
前記ステージおよび前記計測器を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記走査方向に沿うようにショット領域の中心に対して対称に所定ピッチで配置された計測箇所のリストである計測箇所リストを生成し、
前記制御部による前記計測器の制御は、
前記計測箇所リストに含まれる計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第1の制御と、
ショット領域において最後に計測される最後の計測箇所及びその次のショット領域において最初に計測される最初の計測箇所の少なくとも一方を前記計測箇所リストから除いた計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第2の制御と、を含み、
前記制御部は、前記計測箇所リストにおける前記最後の計測箇所と前記最初の計測箇所との間隔が前記所定ピッチより小さくない場合に前記第1の制御を実行し、前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さい場合に前記第2の制御を実行する、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部による前記計測器の制御は、
複数回の基板の走査を通して、前記計測箇所リストに含まれる全ての計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第3の制御を含み、
前記制御部は、
前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さく、かつ、計測精度より計測時間を優先させるモードが設定されている場合に、前記第2の制御を実行し、
前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さく、かつ、計測時間より計測精度を優先させるモードが設定されている場合に、前記第3の制御を実行する、
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 投影光学系と、基板を保持して移動するステージと、前記投影光学系の光軸の方向に関して前記基板の表面の位置を計測する計測器とを有し、前記基板の上に配列された複数のショット領域を前記計測器に対して走査して各ショット領域の表面の位置を計測し、その計測結果にしたがって前記ステージを移動させて前記投影光学系を介し各ショット領域を露光する露光装置であって、
前記ステージおよび前記計測器を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記走査の方向に沿うように、ショット領域の中心に配置された計測箇所と該中心に対して対称に所定ピッチで配置された計測箇所とのリストである計測箇所リストを生成し、
前記制御部による前記計測器の制御は、
前記計測箇所リストに含まれる計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第1の制御と、
前記計測箇所リストにおける計測箇所のうちショット領域の中心に関して両側にある計測箇所が前記所定ピッチの半分だけ前記中心に向かう方向に移動してなる計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第2の制御と、を含む、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記計測箇所リストにおいて、ショット領域において最後に計測される計測箇所とその次のショット領域において最初に計測される計測箇所との間隔が前記所定ピッチより小さくない場合に、前記第1の制御を実行する、
ことを特徴とする請求項3に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記計測箇所リストにおいて、前記間隔が前記所定ピッチより小さい場合に、前記第2の制御を実行する、
ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記制御部による前記計測器の制御は、
前記第1の制御における前記走査の速度より低い前記走査の速度で前記計測箇所リストに含まれる全ての計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第3の制御を含み、
前記制御部は、
前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さく、かつ、計測精度より計測時間を優先させるモードが設定されている場合に、前記第2の制御を実行し、
前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さく、かつ、計測時間より計測精度を優先させるモードが設定されている場合に、前記第3の制御を実行する、
ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 投影光学系と、基板を保持して移動するステージと、前記投影光学系の光軸の方向に関して前記基板の表面の位置を計測する計測器とを有し、走査方向に沿って前記基板の上に配列された複数のショット領域を前記計測器に対して前記走査方向に連続的に走査して各ショット領域の表面の位置を計測し、その計測結果にしたがって前記ステージを移動させて前記投影光学系を介し各ショット領域を露光する露光装置であって、
前記ステージおよび前記計測器を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記走査方向に沿うように、ショット領域の中心に配置された計測箇所と該中心に対して対称に所定ピッチで配置された計測箇所とのリストである計測箇所リストを生成し、
前記制御部による前記計測器の制御は、
前記計測箇所リストに含まれる計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第1の制御と、
前記計測箇所リストにおける計測箇所のうちショット領域の中心に関して両側にある計測箇所が前記所定ピッチの半分だけ前記中心に向かう方向に移動してなる計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第2の制御と、を含み、
前記制御部は、前記計測箇所リストにおける前記最後の計測箇所と前記最初の計測箇所との間隔が前記所定ピッチより小さくない場合に前記第1の制御を実行し、前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さい場合に前記第2の制御を実行する、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部による前記計測器の制御は、
前記第1の制御における前記走査の速度より低い前記走査の速度で前記計測箇所リストに含まれる全ての計測箇所に関して前記計測器に前記表面の位置を計測させる第3の制御を含み、
前記制御部は、
前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さく、かつ、計測精度より計測時間を優先させるモードが設定されている場合に、前記第2の制御を実行し、
前記計測箇所リストにおける前記間隔が前記所定ピッチより小さく、かつ、計測時間より計測精度を優先させるモードが設定されている場合に、前記第3の制御を実行する、
ことを特徴とする請求項7に記載の露光装置。 - デバイス製造方法であって、
請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、を含む
ことを特徴とするデバイス製造方法。
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