JP5326515B2 - クロムめっき浴の製造方法、及びめっき皮膜の形成方法 - Google Patents
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Description
(A)クロム酸と有機酸とを、これらを含む水溶液中で混合し、上記有機酸によりクロム酸を還元して、6価のクロムイオンを含まない水溶液を調製する工程、
(B)上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、pH調整剤を添加して、pHを1〜4に調整する工程、
(C)更に、pH調整後の上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、クロム酸を添加して、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有する水溶液を調製する工程
によって、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有するクロムめっき浴を製造することにより、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとの含有量(含有比)を所定の値に容易に、かつ確実に調整して製造することができることを見出した。
請求項1:
3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有するクロムめっき浴の製造方法であって、
(A)クロム酸と有機酸とを、これらを含む水溶液中で混合し、上記有機酸によりクロム酸を還元して、6価のクロムイオンを含まない水溶液を調製する工程、
(B)上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、pH調整剤を添加して、pHを1〜4に調整する工程、
(C)更に、pH調整後の上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、クロム酸を添加して、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有する水溶液を調製する工程
を含むことを特徴とするクロムめっき浴の製造方法。
請求項2:
上記(A)工程の上記混合において、水溶液中、クロム質量基準で60〜140g/Lのクロム酸と、50〜700g/Lの有機酸とを、両者の比を、
(有機酸)/(クロム酸)=1.5〜4.0(モル比)
として混合することを特徴とする請求項1記載のクロムめっき浴の製造方法。
請求項3:
上記(C)工程の上記添加において、水溶液中、クロム質量基準で0.1〜40g/Lのクロム酸を添加することを特徴とする請求項1又は2記載のクロムめっき浴の製造方法。
請求項4:
上記(A)工程と(B)工程との間、上記(B)工程と(C)工程との間、及び上記(C)工程の後から選ばれる1又は2以上において、更に、
(D)上記水溶液に、導電塩、安定剤及びピット防止剤から選ばれる1種又は2種以上を添加する工程
を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のクロムめっき浴の製造方法。
請求項5:
基材上に単層又は2層以上の複数層からなるめっき皮膜を形成する方法であって、該めっき皮膜を構成する単層の全部又は複層の一部若しくは全部として、請求項1乃至4のいずれか1項記載の方法により得られた3価のクロムイオン及び6価のクロムイオンの双方を含有するクロムめっき浴を第1のクロムめっき浴として用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程を含むことを特徴とするめっき皮膜の形成方法。
請求項6:
基材上に単層又は2層以上の複数層からなるめっき皮膜を形成する方法であって、請求項5記載の方法により第1のクロムめっき皮膜を形成することによって3価のクロムイオンが減少した第1のクロムめっき浴に、水酸化クロム又は塩基性炭酸クロムを含むスラリーを添加することにより、3価のクロムイオンを補給すると共にpHの調整をおこない、上記めっき皮膜を構成する単層の全部又は複層の一部若しくは全部として、3価のクロムイオンが補給された第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成することを特徴とするめっき皮膜の形成方法。
請求項7:
上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、ニッケルめっき皮膜を形成する工程と、該ニッケルめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項8:
自動車外装部材又は耐塩害部材の防食めっき皮膜を形成する方法であることを特徴とする請求項7記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項9:
上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第1のクロムめっき皮膜上に、金、白金、銀、ロジウム、及びその合金から選ばれる貴金属めっき皮膜を形成する工程とを含み、ニッケルめっき皮膜を形成する工程を含まないことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項10:
恒常的に人体と接触する部材の防食めっき皮膜を形成する方法であることを特徴とする請求項9記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項11:
上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第1のクロムめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴と異なる第2のクロムめっき浴を用いて第2のクロムめっき皮膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項12:
上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、上記第1のクロムめっき浴と異なる第2のクロムめっき浴を用いて第2のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第2のクロムめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項13:
上記第2のクロムめっき浴が、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含む硬質クロムめっき浴であることを特徴とする請求項11又は12記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項14:
基材上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第1のクロムめっき皮膜上に、ニッケルめっき皮膜を形成する工程と、該ニッケルめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を更に形成する工程を含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
請求項15:
バレルめっきによりクロムめっき皮膜を形成する方法であって、請求項1乃至4のいずれか1項記載の方法により得られた3価のクロムイオン及び6価のクロムイオンの双方を含有するクロムめっき浴を第1のクロムめっき浴として用いた電気めっきによりクロムめっき皮膜を形成することを特徴とするめっき皮膜の形成方法。
本発明においてクロムめっき浴は、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有するものである。
(A)クロム酸と有機酸とを、これらを含む水溶液中で混合し、上記有機酸によりクロム酸を還元して、6価のクロムイオンを含まない水溶液を調製する工程、
(B)上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、pH調整剤を添加して、pHを1〜4に調整する工程、
(C)更に、pH調整後の上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、クロム酸を添加して、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有する水溶液を調製する工程
により製造することができる。
6(COOH)2・2H2O+2CrO3→Cr2(C2O4)3+6CO2+8H2O
となり、この場合の当量は、(シュウ酸)/(クロム酸)=3(モル比)である。
(D)上記水溶液に、導電塩、安定剤及びピット防止剤から選ばれる1種又は2種以上を添加する工程
を実施することができる。
基材上に、上記第1のクロムめっき浴と異なる第2のクロムめっき浴を用いて第2のクロムめっき皮膜を、好ましくは1〜100μmの厚さで形成し、第2のクロムめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を、好ましくは0.3〜5μmの厚さで形成する場合に好適である。
無水クロム酸とシュウ酸とを、無水クロム酸(CrO3)150g/L、シュウ酸・2水和物を567g/Lとなるように水に混合して溶解させ、水溶液5Lを調製した、この時、発熱して85℃まで温度が上昇したが、放冷のみで冷却した。水溶液は、3時間攪拌して、無水クロム酸とシュウ酸との溶解・反応を完結させた。この段階で、水溶液の温度は室温となった。溶解・反応後の水溶液中の6価のクロムイオン(クロム酸)の濃度をヨウ素−でんぷん反応により測定したところ、検出されなかった。一方、反応後の水溶液中の3価のクロムイオン(Cr3+)の濃度を原子吸光光度法により測定したところ、クロム質量基準で78g/Lであり、混合した無水クロム酸中のクロム量に相当する量であった。
無水クロム酸とシュウ酸とを、無水クロム酸(CrO3)170g/L、シュウ酸・2水和物を605g/Lとなるように水に混合して溶解させ、水溶液5Lを調製した、この時、発熱して88℃まで温度が上昇したが、放冷のみで冷却した。水溶液は、3時間攪拌して、無水クロム酸とシュウ酸との溶解・反応を完結させた。この段階で、水溶液の温度は室温となった。溶解・反応後の水溶液中の6価のクロムイオン(クロム酸)の濃度をヨウ素−でんぷん反応により測定したところ、クロム質量基準で5g/Lであった。一方、反応後の水溶液中の3価のクロムイオン(Cr3+)の濃度を原子吸光光度法により測定したところ、クロム質量基準で83.2g/Lであった。
無水クロム酸とシュウ酸とを、無水クロム酸(CrO3)170g/L、シュウ酸・2水和物を529g/Lとなるように水に混合して溶解させ、水溶液5Lを調製した、この時、発熱したが、冷凍機により冷却した結果、温度上昇は35℃までであった。水溶液は、4時間攪拌して、無水クロム酸とシュウ酸との溶解・反応を完結させた。この段階で、水溶液の温度は室温となった。溶解・反応後の水溶液中の6価のクロムイオン(クロム酸)の濃度をヨウ素−でんぷん反応により測定したところ、クロム質量基準で15g/Lであった。一方、反応後の水溶液中の3価のクロムイオン(Cr3+)の濃度を原子吸光光度法により測定したところ、クロム質量基準で72.8g/Lであった。
ポリ塩化ビニルで被覆しためっき槽に、鉛−5%錫陽極を設置し、調製実施例1で製造したクロムめっき浴1,000L中に、400dm2のめっき面積を有する下記めっき品物をめっき浴に入れ、48℃に加温し、陰極電流密度10A/dm2で8.5分間クロムめっきを行い、膜厚0.4μmのクロムめっき皮膜を形成した。
基材としてABS樹脂板を用い、この表面に以下の処理を順に施したもの
・クロム酸エッチング[上村工業株式会社製 ラクシュ CNN]
:65℃、10分間
・無電解ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ NFF]
:40℃、8分間、膜厚200nm
・硫酸銅電気銅めっき[上村工業株式会社製 ラクシュ EAB]
:陰極電流密度3A/dm2、25℃、25分間、膜厚15μm
・半光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ASB]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、20分間、膜厚15μm
・光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ANN]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、13分間、膜厚10μm
・マイクロポーラスニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ AMC]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、3分間、膜厚2μm
めっき物品を、マイクロポーラスニッケルめっきを施さなかったものとした以外は、実施例1と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
クロムめっき浴として、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴を用い、以下の条件で実施した以外は、実施例1と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
・クロムめっき[上村工業株式会社製 アサヒクロムNC]
:陰極電流密度10A/dm2、45℃、8.5分間、膜厚0.4μm
めっき物品を、マイクロポーラスニッケルめっきを施さなかったものとした以外は、比較例1と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
めっき物品を、下記のものに変えた以外は、実施例1と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
〔めっき物品〕
基材として軟鋼板を用い、この表面に以下の処理を順に施したもの
・半光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ASB]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、20分間、膜厚15μm
・光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ANN]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、13分間、膜厚10μm
・マイクロポーラスニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ AMC]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、3分間、膜厚2μm
めっき物品を、マイクロポーラスニッケルめっきを施さなかったものとした以外は、実施例3と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
クロムめっき浴として、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴を用い、以下の条件で実施した以外は、実施例3と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
・クロムめっき[上村工業株式会社製 アサヒクロムNC]
:陰極電流密度10A/dm2、45℃、8.5分間、膜厚0.4μm
めっき物品を、マイクロポーラスニッケルめっきを施さなかったものとした以外は、比較例3と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
実施例1〜4及び比較例1〜4で形成しためっき皮膜について、JIS H 8502に準拠したCASS(キャス)試験を実施した。マイクロポーラスニッケルめっきを施したものに、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴でクロムめっき皮膜を形成した比較例1及び3では、CASS試験6サイクル後に、著しい数のニッケルめっきの腐食がピットとして検出された。また、マイクロポーラスニッケルめっきを施さずに、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴でクロムめっき皮膜を形成した比較例2及び4では、CASS試験6サイクル後に、比較例1及び3に比べて数は少ないが、大きな腐食が検出された。
実施例1〜4及び比較例1〜4で形成しためっき皮膜について、めっき皮膜に塩化カルシウムとカオリンとの混合物(5mlの飽和塩化カルシウム水溶液に3gのカオリンを混合したもの)を塗布し、1週間放置する試験を実施した。クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴でクロムめっき皮膜を形成した比較例1〜4では、マイクロポーラスニッケルめっきの有無にかかわらず、かなり大きな著しい腐食が局所的に認められ、めっき素地の樹脂、鋼板が露出したものもあった。
硫酸アンモニウム80g/Lの代わりに、硫酸ナトリウム150g/Lとほう酸10g/Lを用いた以外は、調製実施例1と同様にしてクロムめっき浴を得た。
ポリ塩化ビニルで被覆しためっき槽に、鉛−5%錫陽極を設置し、調製実施例2で製造したクロムめっき浴1,000L中に、基材として、400dm2のめっき面積を有する装身具用銅金属素材をめっき品物としてめっき浴に入れ、48℃に加温し、陰極電流密度10A/dm2で20分間クロムめっきを行い、膜厚1μmのクロムめっき皮膜を形成した。
・電気Auめっき[上村工業株式会社製 オールナ 535]
:陰極電流密度0.5A/dm2、25℃、5分間、膜厚1μm
クロムめっき浴を、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴を用い、以下の条件で実施した以外は、実施例5と同様の方法で、めっき皮膜を形成した。
・クロムめっき[上村工業株式会社製 アサヒクロムNC]
:陰極電流密度10A/dm2、45℃、8.5分間、膜厚0.4μm
クロムめっき皮膜を形成する前に、以下の処理を施した以外は、実施例5と同様の方法で、めっき皮膜を形成した。
・ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ナイスター 823]
:陰極電流密度4A/dm2、55℃、1.5分間、膜厚1μm
クロムめっき皮膜を形成した後、電気Auめっきの前に、以下の処理を施した以外は、実施例5と同様の方法で、めっき皮膜を形成した。
・ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ナイスター 823]
:陰極電流密度4A/dm2、55℃、1.5分間、膜厚1μm
クロムめっきの代わりに、以下のニッケルめっきを施した以外は、実施例5と同様の方法でめっき皮膜を形成した。
・ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ナイスター 823]
:陰極電流密度4A/dm2、55℃、1.5分間、膜厚1μm
実施例5及び比較例5〜8で形成しためっき皮膜について、JIS H 8502に準拠したCASS(キャス)試験を実施した。クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴でクロムめっき皮膜を形成した比較例5では、CASS試験5サイクル後に、素材の腐食が検出された。また、ニッケルめっき皮膜を形成した比較例6〜8では、CASS試験5サイクル後に、金めっき表面に微量のニッケル化合物が認められた。
ポリ塩化ビニルで被覆しためっき槽に、鉛−5%錫陽極を設置し、調製実施例1で製造したクロムめっき浴1,000L中に、基材として、400dm2のめっき面積を有する鉄鋼板をめっき品物としてめっき浴に入れ、48℃に加温し、陰極電流密度10A/dm2で8.5分間クロムめっきを行い、膜厚0.4μmのクロムめっき皮膜を形成した。
・硬質クロムめっき(クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むめっき浴)[上村工業株式会社製 ユープロクロム CHC]
:陰極電流密度40A/dm2、60℃、120分間、膜厚50μm
調製実施例1で製造したクロムめっき浴を用いたクロムめっきと、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含む硬質クロムめっき浴を用いたクロムめっきの順序を入れ替えた以外は、実施例6と同様の方法で、めっき皮膜を形成した。
めっき物品に調製実施例1で製造したクロムめっき浴を用いたクロムめっきを及び硬質クロムめっきを実施せず、以下の処理を施した以外は、実施例6と同様の方法で、めっき皮膜を形成した。
・硬質クロムめっき(クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むめっき浴)[上村工業株式会社製 ユープロクロム CHC]
:陰極電流密度40A/dm2、60℃、120分間、膜厚50μm
めっき物品に調製実施例1で製造したクロムめっき浴を用いたクロムめっきを実施せず、以下の処理を施した以外は、実施例6と同様の方法で、めっき皮膜を形成した。
・半光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ASB]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、20分間、膜厚15μm
・光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ANN]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、13分間、膜厚10μm
・硬質クロムめっき(クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むめっき浴)[上村工業株式会社製 ユープロクロム CHC]
:陰極電流密度40A/dm2、60℃、120分間、膜厚50μm
実施例6,7及び比較例9,10で形成しためっき皮膜について、JIS H 8502に準拠したCASS(キャス)試験を実施した。クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含む硬質クロムめっき浴でクロムめっき皮膜を形成した比較例9,10では、ニッケルめっき皮膜の有無にかかわらず、CASS試験5サイクル後のレイテリングNo.が9.0以下であった。
ポリ塩化ビニルで被覆しためっき槽に、鉛−5%錫陽極を設置し、調製実施例1で製造したクロムめっき浴1,000L中に、基材として、400dm2のめっき面積を有する鉄鋼板をめっき品物としてめっき浴に入れ、48℃に加温し、陰極電流密度10A/dm2で8.5分間クロムめっきを行い、膜厚0.4μmのクロムめっき皮膜を形成した。
・半光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ASB]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、20分間、膜厚15μm
・光沢ニッケルめっき[上村工業株式会社製 ラクシュ ANN]
:陰極電流密度4A/dm2、53℃、13分間、膜厚10μm
クロムめっき浴として、調整実施例1で製造したクロムめっき浴の代わりに、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴を用い、以下の条件で実施した以外は、実施例8と同様の方法で、めっき皮膜を形成した。
・クロムめっき[上村工業株式会社製 アサヒクロム NC]
:陰極電流密度10A/dm2、45℃、8分間、膜厚0.4μm
実施例8及び比較例11で形成しためっき皮膜について、JIS H 8502に準拠したCASS(キャス)試験を実施した。クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴でクロムめっき皮膜を形成した比較例11では、CASS試験3サイクル後のレイテリングNo.が9.0以下であった。
調製実施例2で製造したクロムめっき浴を用い、バレルめっき装置に金属素材(ニッケルめっきを施したボルト)を入れ、平均電流密度を4A/dm2として、48℃で、60分間、金属素材上にバレルめっきにてクロムめっき皮膜を形成した。
クロムめっき浴として、以下のクロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含むクロムめっき浴を用いた以外は、実施例9と同様の方法で、クロムめっき皮膜を形成した。
・クロムめっき[上村工業株式会社製 アサヒクロム NC]
調製実施例1と同様の方法で調製しためっき液5Lを用い、2dm2の金属板に電流密度10A/dm2で50時間電解した。めっき液pHは水酸化クロムスラリー(10%水酸化クロム含有)を用い、2時間毎にpH2.2に調整した。3価クロムイオン濃度減少に応じて、初期の3価クロムイオン濃度になるように上記水酸化クロムスラリーを補給した。この間にこのスラリーは840gを要した。上記のように補給を行うと、建浴当初の組成には変化が認められなかった。この場合、50時間電解後も建浴当初と同一のめっき概観及びめっき物性が得られた。更に、連続して電解を実施したが、500時間電解後も同様であり、外観、物性は良好であった。
調製実施例1と同様の方法で調製しためっき液5Lを用い、2dm2の金属板に電流密度10A/dm2で50時間電解した。めっき液pHはアンモニア水を用い、3価クロムイオン濃度は硫酸クロムを使用して調整し、2時間毎にpH2.2に調整し、3価クロムイオンを補給した。3価クロムイオン濃度減少に応じて、初期の3価クロムイオン濃度になるように硫酸クロムを補給した。この間にアンモニア水は606g必要であった。また35%硫酸クロム液は453gを要した。このように調製すると、電解50時間で初期の建浴組成濃度の9.5%だけ硫酸アンモニウム濃度が増加していた。この場合、50時間後にめっき外観に白い曇りが局所的に発生した。更に、100時間後には白い曇りと黒い部分が局所的に発生した。
Claims (15)
- 3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有するクロムめっき浴の製造方法であって、
(A)クロム酸と有機酸とを、これらを含む水溶液中で混合し、上記有機酸によりクロム酸を還元して、6価のクロムイオンを含まない水溶液を調製する工程、
(B)上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、pH調整剤を添加して、pHを1〜4に調整する工程、
(C)更に、pH調整後の上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、クロム酸を添加して、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有する水溶液を調製する工程
を含むことを特徴とするクロムめっき浴の製造方法。 - 上記(A)工程の上記混合において、水溶液中、クロム質量基準で60〜140g/Lのクロム酸と、50〜700g/Lの有機酸とを、両者の比を、
(有機酸)/(クロム酸)=1.5〜4.0(モル比)
として混合することを特徴とする請求項1記載のクロムめっき浴の製造方法。 - 上記(C)工程の上記添加において、水溶液中、クロム質量基準で0.1〜40g/Lのクロム酸を添加することを特徴とする請求項1又は2記載のクロムめっき浴の製造方法。
- 上記(A)工程と(B)工程との間、上記(B)工程と(C)工程との間、及び上記(C)工程の後から選ばれる1又は2以上において、更に、
(D)上記水溶液に、導電塩、安定剤及びピット防止剤から選ばれる1種又は2種以上を添加する工程
を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のクロムめっき浴の製造方法。 - 基材上に単層又は2層以上の複数層からなるめっき皮膜を形成する方法であって、該めっき皮膜を構成する単層の全部又は複層の一部若しくは全部として、請求項1乃至4のいずれか1項記載の方法により得られた3価のクロムイオン及び6価のクロムイオンの双方を含有するクロムめっき浴を第1のクロムめっき浴として用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程を含むことを特徴とするめっき皮膜の形成方法。
- 基材上に単層又は2層以上の複数層からなるめっき皮膜を形成する方法であって、請求項5記載の方法により第1のクロムめっき皮膜を形成することによって3価のクロムイオンが減少した第1のクロムめっき浴に、水酸化クロム又は塩基性炭酸クロムを含むスラリーを添加することにより、3価のクロムイオンを補給すると共にpHの調整をおこない、上記めっき皮膜を構成する単層の全部又は複層の一部若しくは全部として、3価のクロムイオンが補給された第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成することを特徴とするめっき皮膜の形成方法。
- 上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、ニッケルめっき皮膜を形成する工程と、該ニッケルめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
- 自動車外装部材又は耐塩害部材の防食めっき皮膜を形成する方法であることを特徴とする請求項7記載のめっき皮膜の形成方法。
- 上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第1のクロムめっき皮膜上に、金、白金、銀、ロジウム、及びその合金から選ばれる貴金属めっき皮膜を形成する工程とを含み、ニッケルめっき皮膜を形成する工程を含まないことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
- 恒常的に人体と接触する部材の防食めっき皮膜を形成する方法であることを特徴とする請求項9記載のめっき皮膜の形成方法。
- 上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第1のクロムめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴と異なる第2のクロムめっき浴を用いて第2のクロムめっき皮膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
- 上記めっき皮膜を2層以上の複数層構成し、基材上に、上記第1のクロムめっき浴と異なる第2のクロムめっき浴を用いて第2のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第2のクロムめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
- 上記第2のクロムめっき浴が、クロムイオンとして、主として6価のクロムイオンを含み、少量の3価のクロムイオンを含む硬質クロムめっき浴であることを特徴とする請求項11又は12記載のめっき皮膜の形成方法。
- 基材上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を形成する工程と、該第1のクロムめっき皮膜上に、ニッケルめっき皮膜を形成する工程と、該ニッケルめっき皮膜上に、上記第1のクロムめっき浴を用いた電気めっきにより第1のクロムめっき皮膜を更に形成する工程を含むことを特徴とする請求項5記載のめっき皮膜の形成方法。
- バレルめっきによりクロムめっき皮膜を形成する方法であって、請求項1乃至4のいずれか1項記載の方法により得られた3価のクロムイオン及び6価のクロムイオンの双方を含有するクロムめっき浴を第1のクロムめっき浴として用いた電気めっきによりクロムめっき皮膜を形成することを特徴とするめっき皮膜の形成方法。
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