JP5319706B2 - 照明光学系及び投影露光装置 - Google Patents
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p(h) = [((1/r)h2)/( + SQRT(1 - (1 + K)(1/r)2h2))] + C1 ・ h4 + C2 ・ h6 + ....
1/rは、非球面の頂点における面の曲率である。hは、光学面の回転対称軸、言い換えれば、z方向に延びる光軸からの光学非球面上のある点の距離である。サジタル高さp(h)は、回転対称軸から距離h(h2=x2+y2)の位置にある特定の点を光学非球面の頂点、言い換えれば、光学面上のh=0の点と比較したこれらの点の間のz距離である。係数C3以降は、h8から始まるhを底とする更に別の偶数指数である。
tGes=tx+tpb,x
tpb,x=pbx・NA
ここで、NAは、有効光4の開口数である。
15 コンデンサー群
18 対物光学素子群
FLG4、FLG5 コンデンサー群の構成要素
REMA1、REMA2 対物光学素子群の構成要素
Claims (21)
- マイクロリソグラフィのための投影露光装置(1)の物体視野(14)の照明のための照明光学系(5)であって、
前記照明光学系(5)の瞳平面(9)の下流に配置された、有効光の束(4)を誘導する光学構成要素のコンデンサー群(15)、及び
有効光の経路において前記コンデンサー群(15)の下流に配置された光束誘導構成要素の対物光学素子群(18)、
を含み、
コンデンサー群(15)のうちの少なくとも1つの構成要素(FLG4、FLG5)、及び
対物光学素子群(18)のうちの少なくとも1つの構成要素(REMA1、REMA2)、
が、物体視野(14)の、望ましい照明状態に対する実際の照明状態のずれの補償のために変位可能である、
ことを特徴とする照明光学系。 - 前記変位可能構成要素(FLG4,FLG5,REMA1,REMA2)のうちの少なくとも1つが、制御デバイス(33)と信号接続状態にある変位駆動体(28,34,36,38)に接続されることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記変位可能構成要素(FLG4,FLG5,REMA1,REMA2)は、中心物体視野点(21)の主光線方向(2)に沿って変位可能であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の照明光学系。
- 前記変位駆動体(28,34,36,38)は、前記中心物体視野点(21)の前記主光線方向(2)に沿って1mmの範囲の変位経路を可能にすることを特徴とする請求項3に記載の照明光学系。
- 前記変位駆動体(28,34,36,38)は、50μmよりも良好な位置決め精度を有することを特徴とする請求項4に記載の照明光学系。
- 前記変位可能構成要素(FLG4,FLG5,REMA1,REMA2)のうちの少なくとも1つが、中心物体視野点(21)の主光線方向(2)に対して垂直な少なくとも1つの軸(x,y)に沿って変位可能であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 偏心変位駆動体(28,34,36,38)が、400μmの範囲の偏心変位経路を提供することを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。
- 前記偏心変位駆動体(38,34,36,38)は、少なくとも20μmの位置決め精度を有することを特徴とする請求項7に記載の照明光学系。
- 前記変位可能構成要素(FLG4,FLG5,REMA1,REMA2)のうちの少なくとも1つが、中心物体視野点(21)の主光線方向(2)に対して垂直な少なくとも1つの傾斜軸(x,y)の回りに傾斜可能であることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 傾斜変位駆動体(28,34,36,38)が、角度で10分の範囲の傾斜変位経路を有することを特徴とする請求項9に記載の照明光学系。
- 前記傾斜変位駆動体(28,34,36,38)は、角度で0.5分よりも良好な位置決め精度を有することを特徴とする請求項10に記載の照明光学系。
- 前記コンデンサー群(15)の前記変位可能構成要素(FLG3,FLG4,FLG5)は、第1のもの(40)が中心物体視野点(21)に属し、かつ第2のもの(41)が縁部での物体視野点(22)に属する2つの放射線部分束(40、41)が、該2つの物体視野点を含む子午断面(xy)内で最大で70%だけ重なり合う構成要素であることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記対物光学素子群(18)の前記変位可能構成要素(REMA1,REMA2,REMA3)は、第1のもの(40)が中心視野点(21)に属し、かつ第2のもの(41)が縁部での物体視野点(22)に属する2つの放射線部分束(40、41)が、該2つの物体視野点を含む子午断面(xy)内で最大で30%だけ重なり合う構成要素であることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記コンデンサー群(15)の前記変位可能構成要素(FLG3,FLG4,FLG5)は、450mmよりも短いその焦点距離の絶対値を有することを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記対物光学素子群(18)の前記変位可能構成要素(REMA1,REMA2,REMA3)は、450mmよりも短く、特に、400mmよりも短いその焦点距離の絶対値を有することを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記コンデンサー群(15)は、前記有効光の束(4)を誘導する11個よりも多くない構成要素(FLG1からFLG6)を含み、該構成要素(FLG1からFLG6)のうちの少なくとも1つ(FLG4;FLG5)かつ2つよりも多くないもの(FLG、FLG5)が変位可能であることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記対物光学素子群(18)は、前記有効光の束(4)を誘導する17個よりも多くない構成要素(REMA1からREMA9)を含み、該構成要素(REMA1からREMA9)のうちの少なくとも1つ(REMA1;REMA2)かつ2つよりも多くないもの(REMA1、REMA2)が変位可能であることを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 光源(3)と、
請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の照明光学系(5)と、
を含むことを特徴とする照明系。 - 照明環境を定めるための調節デバイス(8)を含むことを特徴とする請求項18に記載の照明系。
- 請求項18又は請求19に記載の照明系と、
物体視野(14)を像視野(14a)内に結像するための投影対物系(11)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置(1)。 - 構造化構成要素を生成する方法であって、
少なくとも一部に感光材料の層が付加されたウェーハ(13)を準備する段階と、
結像される構造を有するレチクル(7)を準備する段階と、
請求項20に記載の投影露光装置(1)を準備する段階と、
前記投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(7)の少なくとも一部を前記ウェーハ(13)上の前記層の領域に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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