JP5316290B2 - トリクロロシラン製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Description
前記分解炉に、該分解炉の内部を加熱する加熱手段と、前記ポリマーと前記塩化水素とを前記分解炉の上下方向に沿って内底部まで案内し下端開口部から分解炉内に供給する原料供給管と、該原料供給管の外周面と前記分解炉の内周面との間に形成される反応室と、該反応室の上部から反応ガスを導出させるガス導出管とが設けられ、前記原料供給管の外周面又は前記分解炉の内周面の少なくともいずれかに、前記原料供給管の下端開口部から供給される前記ポリマーと前記塩化水素との混合流体を前記反応室内で攪拌しながら上昇させるように案内するフィンが一体に形成されていることを特徴とする。
原料供給管の下端開口部の内面に酸化シリコンが付着したとしても、分解炉の中心軸に沿って設けられているため、内部に棒状のものを挿入するなどにより、酸化シリコンの除去作業を容易にすることができる。
ポリマーと塩化水素とを反応室内に供給する前に、原料供給管内の第2のフィンによって混合することができ、反応室内での反応を効率的に行わせることができる。この場合、攪拌部材を上下移動等できるようにしておけば、原料供給管の下端開口部及び分解炉の内底部に酸化シリコンが付着しても、攪拌部材を上下動させるなどにより、酸化シリコンを崩壊することが可能になり、その取り出しを容易にすることができる。
分解炉から導出される反応後のガスは高温状態となっており、その導出管が原料供給管を囲んでいることにより、原料供給管内を流通するポリマー及び塩化水素との間で熱交換され、これらポリマー等を分解炉に導入する前に予熱することができ、反応効率を高めることができる。
反応により生成される酸化シリコンが分解炉内に付着しても、加圧ガスを連続的もしくは間欠的に注入することにより、付着した酸化シリコンを加圧ガスによって追い出し、内部を清掃することができる。加圧ガスとしては、不活性ガスや窒素等を用いることができる。
酸化シリコンは分解炉の内底部に堆積し易く、外部から棒状のものを挿入するなどにより転動部材を動かしてやれば、酸化シリコンを粉砕することができ、その除去作業を容易にすることができる。
図1〜図3は、第1実施形態のトリクロロシラン製造装置を示している。このトリクロロシラン製造装置1は、上下方向に沿って配置された筒状の分解炉2と、分解炉2の上方から該分解炉2の中心に沿って内底部まで挿入された原料供給管3と、分解炉2の上端部から反応ガスを導出するガス導出管4とが備えられた構成とされている。
分解炉2は、有底筒状に形成され上部フランジ5aを有する炉本体5と、その炉本体5の上部フランジ5aにボルト6により着脱可能に接合された端板7と、炉本体5の周囲から内部を加熱する加熱手段8とから構成されている。なお、炉本体5の内底面5bは球殻状の凹面とされている。
加熱手段8は、炉本体5の外周面を囲む胴部ヒータ8aと、炉本体5の外底面を覆う底部ヒータ8bとによって構成されている。図1及び図2中、符号9は加熱手段8としてのヒータの外側を覆う枠体を示す。
ガス導出管4は、図示例では端板7に2本設けられており、反応室13を上昇しながら反応したガスを分解炉2の外部へ導出するようになっている。
これら加圧ガス注入管23及び炉内流体排出管24は、分解炉2の運転時には各弁25〜28が閉じられており、後述のようにメンテナンス時等に開放して分解炉内の清掃のために用いられる。なお、連通口22を図1に示すガス導出管4とは別個に設けることとしたが、ガス導出管4を連通口22として兼用させてもよい。
図示する製造プロセスには、金属シリコン(Me−Si)と塩化水素(HCl)を反応させて粗TCSを製造する流動塩化炉31、流動塩化炉31で生成した粗TCSを含む生成ガスを蒸留する蒸留塔32、精製された高純度のTCSを後工程から回収したSTC、TCSと共に蒸発させる蒸発器33、この蒸発器33から供給されるガスと水素(H2)とを混合した原料ガスによって多結晶シリコンを製造する反応炉34、反応炉34の排ガスからクロロシラン類を分離する凝縮器35が設けられている。
また、蒸留系36からのSTCの一部は転換炉38により水素(H2)と反応してTCSに転換され、その反応ガスから水素回収設備39により水素を分離した後、TCS、STCを含む反応ガスが蒸留系36に戻される。
なお、蒸発器33にSTCも添加して、多結晶シリコン製造の原料ガスとすることとしたが、STCを添加しないで原料ガスとする場合もある。
塩化工程後の蒸留塔32または反応工程や転換工程後の蒸留系36で分離されるポリマーには高沸点クロロシラン類が概ね20〜40質量%程度含まれている。具体的には、例えば、上記ポリマーにはTCS:約1〜3質量%、STC:約50〜70質量%、Si2H2Cl4:約12〜20質量%、Si2Cl6:約13〜22質量%、その他の高沸点クロロシラン類:約3〜6質量%が含まれている。
ポリマーは450℃以上の高温下で塩化水素と反応して TCSに転換される。分解炉2内の温度、具体的には反応室13の温度は450℃〜700℃が好ましい。炉内温度が450℃より低いと、ポリマーの分解が十分に進まない。炉内温度が700℃を上回ると、生成したTCSが塩化水素と反応してSTCが生じる反応が進み、TCSの回収効率が低下する傾向があるので好ましくない。
(1)テトラクロロジシラン(Si2H2Cl4)の分解反応
Si2H2Cl4+HCl→SiH2Cl2+SiHCl3
Si2H2Cl4+2HCl→2SiHCl3+H2
(2)六塩化二珪素(Si2Cl6)の分解反応
Si2Cl6+HCl→SiHCl3+SiCl4
なお、この反応時に、塩化水素ガス中の水分が(H2O)TCS、STCと反応すると酸化シリコンが析出される。
SiHCl3+2H2O→SiO2+H2+3HCl
SiCl4+2H2O→SiO2+4HCl
このガス導出管4から導出されるTCSを含む生成ガスは、塩化水素が残っているので、その塩化水素を塩化反応に利用するため、そのまま多結晶シリコン製造工程の流動塩化炉31に導入されるか(図4参照)、又は、凝縮されて、その凝縮液が塩化工程後の蒸留塔32に導入されることにより、多結晶シリコン製造工程で再利用される。
この酸化シリコンの排出方法について図3により説明すると、図3(a)に示すように各弁25〜28の開閉を操作する。まず、弁26,28を開いて、他の弁25,27を閉じることにより、加圧ガス注入管23を原料供給管3の連通口21に連通させた状態とするとともに、反応室13の連通口22に炉内流体排出管24を連通させた状態とする(図中、黒塗りの弁が閉鎖状態、白抜きの弁が開放状態であることを示す)。そして、図3(a)の破線矢印で示すように、加圧ガスを分岐管23bを経由して原料供給管3から分解炉2内に注入し、内底部の酸化シリコンSを崩壊し、粉砕しながら舞い上げ、反応室13から炉内流体排出管24を経由してサイクロン29に排出する。所定時間後、図3(b)に示すように弁25〜28の開閉を切り替えて、図3(a)の場合とは逆に反応室13から圧力ガスを注入して原料供給管3から排出する。これを交互に繰り返すことにより、分解炉2の内部を清掃する。この場合、図3(a)に示す状態と、図3(b)に示す状態とを切り替えずに、そのいずれか一方の状態だけで清掃するようにしてもよい。
排出された酸化シリコンSはサイクロン29によって捕集され、処理系30に送られる。なお、原料供給管3の下端開口部3a内に若干の酸化シリコンSが付着していたとしても、上記の操作により除去することができるが、原料供給管3が直管状であるので、例えば、上方から棒状のものを挿入するなどにより、酸化シリコンSを脱落させることも容易である。
第1実施形態のトリクロロシラン製造装置1は、分解炉2の端板7に2本のガス導出管4が接続されていたが、この第2実施形態のトリクロロシラン製造装置41では、ガス導出管42が原料供給管3よりも大きい筒状に形成され、分解炉2の上方に突出する部分で原料供給管3を囲むように設けられていることにより、これら原料供給管3とガス導出管42とが二重管状に配置されている。そして、その二重管部分が分解炉2の上方に所定長さ延びており、その二重管部分で原料供給管3内を通る原料流体とガス導出管42内を通る反応ガスとの熱交換がされるようになっている。つまり、この二重管部分が原料流体の予熱手段43とされている。その他の構成は第1実施形態のものと同じであり、共通部分に同一符号を付して説明を省略する。
このように構成したトリクロロシラン製造装置41においては、原料供給管3内に導入されたポリマー及び塩化水素が予熱手段43の部分で分解炉2内から導出される反応ガスの熱により加熱され、これらが蒸発してガス化し、そのガス状の混合流体が原料供給管3の下端開口部3aから反応室13内に導入されるので、反応室13での反応を効率的に行わせることができる。
このトリクロロシラン製造装置51は、原料供給管3の内部に、芯棒52の回りに第2のフィン53を固定してなる攪拌部材54が設けられた構成とされている。この場合、原料供給管3には、第2実施形態と同様の予熱手段43が形成されており、攪拌部材54は、この予熱手段43の部分から炉本体5の内底面5b付近にまで達する長さに形成されており、先端部が原料供給管3の下端開口部3aから突出した状態とされている。
この場合、攪拌部材54は、上端が原料供給管3の壁に支持されており、この上端の支持を解除することにより、上下動あるいは回転させることが可能となっている。その他の構成は第1実施形態のものと同じであり、共通部分に同一符号を付して説明を省略する。
また、攪拌部材54は上下動あるいは回転させることができるので、メンテナンス時に、攪拌部材54を上下動あるいは回転させることにより、原料供給管3の下端開口部3a付近に酸化シリコンが付着している場合にはこれを強制的に取り除くことができるとともに、炉本体5の内底部に堆積した酸化シリコンを崩壊させることができる。したがって、第1実施形態のトリクロロシラン製造装置において説明した加圧ガス注入管23から加圧ガスの注入による酸化シリコンの外部への排出を効率的に行うことができる。
なお、攪拌部材54は、予熱手段43の部分だけに設けるようにしてもよい。
このフィン61は、いわゆるスタティックミキサの構造をなしている。すなわち、このフィン61は、方形の板部材を180°ずつ逆方向に捻ってなる複数のエレメント62が90°ずつ位相をずらした状態で長手方向に交互に設けられた構成とされている。そして、このスタティックミキサ構造のフィン61は、流体が一つのエレメント62を通過するごとに二つに分割される分割作用と、エレメント62の捻れ面に沿って中央部から外側へ、あるいは外側から中央部へと流体が移動させられる混合(又は転換)作用と、一つのエレメント62ごとに回転方向が反転して攪拌される反転作用との複合作用によって流体が攪拌混合されるものである。
このスタティックミキサ構造のフィン61を原料供給管3の外周面に設けることにより、反応室13内での攪拌混合を効果的に行うことができ、反応効率をより高めることができる。
なお、このスタティックミキサ構造のフィン61の場合、エレメント62が90°ずらした位置に配置されるので、最低2枚のエレメントが必要であるが、分解炉の容量に応じて5〜20枚のエレメントを設けるとよい。
例えば、上記実施形態ではフィンを原料供給管の外周面に固定状態に設けたが、原料供給管との間には隙間をあけ、炉本体の内周面に固定してもよい。
また、加圧ガス注入管23からの注入ガスが炉本体5の内底面5bまで達し易くするために、その注入方向に存在するフィン14に注入方向に沿って孔を設けるようにしてもよい。
また、図5及び図6の第2、第3実施形態において、予熱手段43の部分の原料供給管3の外側に伝熱用のフィンを設けてもよい。
また、上記実施形態では原料供給管内でポリマーと塩化水素とが混合されるようにしたが、原料供給管を二重構造の内側管と外側管とによって構成し、その内側管内に塩化水素を導入し、内側管と外側管との間にポリマーを導入する構成としてもよく、原料供給管内では、ポリマーと塩化水素とが区画されて導入されることにより、これらの反応は反応室に導入された後に生じることになり、原料供給管内が酸化シリコンで閉塞されることをより有効に防止することができる。この場合に、反応室に接する外側管内をポリマーが流通するようにすれば、この原料供給管内を流通する間にポリマーが加熱されてガス化され、反応室内での反応を有効に行わせることができる。
さらに、上記実施形態では、酸化シリコン排出のための炉内流体排出管を端板に設けたが、炉本体の底部に設けてもよい。
また、上記実施形態では、フィンを構成する複数のエレメントを連続的に配置したが、断続的に配置したものでもよく、また、直線状、管状のものも含む。例えば、フラットな板状のものを分解炉の長さ方向に間隔を開けて複数配置してもよく、その場合、一部が上下に重なるようにして所定角度ずつずらして配置するとよい。
2 分解炉
3 原料供給管
4 ガス導出管
5 炉本体
7 端板
8 加熱手段
11 ポリマー供給系
12 塩化水素供給系
13 反応室
14 フィン
23 加圧ガス注入管
24 炉内流体排出管
41 トリクロロシラン製造装置
42 ガス導出管
43 予熱手段
51 トリクロロシラン製造装置
52 芯棒
53 第2のフィン
54 攪拌部材
61 フィン
65 転動部材
Claims (7)
- 多結晶シリコン製造プロセス、トリクロロシラン製造プロセス又は転換プロセスにおいて発生する高沸点クロロシラン類を含有するポリマーと塩化水素とを分解炉内に導入し、高温下で反応させることにより前記ポリマーを分解してトリクロロシランを製造するトリクロロシラン製造装置において、
前記分解炉に、該分解炉の内部を加熱する加熱手段と、前記ポリマーと前記塩化水素とを前記分解炉の上下方向に沿って内底部まで案内し下端開口部から分解炉内に供給する原料供給管と、該原料供給管の外周面と前記分解炉の内周面との間に形成される反応室と、該反応室の上部から反応ガスを導出させるガス導出管とが設けられ、前記原料供給管の外周面又は前記分解炉の内周面の少なくともいずれかに、前記原料供給管の下端開口部から供給される前記ポリマーと前記塩化水素との混合流体を前記反応室内で攪拌しながら上昇させるように案内するフィンが一体に形成されていることを特徴とするトリクロロシラン製造装置。 - 前記原料供給管は前記分解炉の中心軸に沿って設けられていることを特徴とする請求項1記載のトリクロロシラン製造装置。
- 前記分解炉の外側に突出している前記原料供給管の上部に、ポリマー供給系及び塩化水素供給系がそれぞれ接続され、原料供給管の内部に、第2のフィンを有する攪拌部材が挿入状態に設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載のトリクロロシラン製造装置。
- 前記ガス導出管は、前記分解炉の外側で前記原料供給管の周囲を囲む二重管状に設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のトリクロロシラン製造装置。
- 前記分解炉に、該分解炉内に加圧ガスを注入する加圧ガス注入管と、該加圧ガスによって追い出される炉内流体を排出する炉内流体排出管とが設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のトリクロロシラン製造装置。
- 前記分解炉の内底部に多数の球状の転動部材が設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のトリクロロシラン製造装置。
- 多結晶シリコン製造プロセス、トリクロロシラン製造プロセス又は転換プロセスにおいて発生する高沸点クロロシラン類を含有するポリマーと塩化水素とを分解炉内に導入し、高温下で反応させることにより前記ポリマーを分解してトリクロロシランを製造するトリクロロシラン製造方法において、
前記分解炉を加熱しておき、該分解炉の上部から前記ポリマーと前記塩化水素とを供給して、これらを予熱することによりガス化しながら前記分解炉の内底部まで案内し、この内底部から前記ポリマーと前記塩化水素との混合流体を攪拌しながら前記分解炉内を上昇させて反応させることを特徴とするトリクロロシラン製造方法。
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