JP5315874B2 - 温度制御装置およびその予熱または予冷方法 - Google Patents

温度制御装置およびその予熱または予冷方法 Download PDF

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本発明は、ペルチェ素子を用いて温度制御対象物を加熱および吸熱する温度制御装置と、その予熱または予冷の方法に関する。特に、温度制御対象物が板状で、加熱と吸熱を高速でくり返す温度制御装置(例えばバイオチップのPCR装置)と、その予熱または予冷の方法に関する。
DNA(デオキシリボ核酸)を増幅させるための技術としてPCR(ポリメラーゼ連鎖反応)法が存在する。このPCR法は、DNAを含む水溶液の温度を周期的に上下させることにより、短時間でDNAを増幅させることができる技術である。そして、このPCR法を用いて、DNAの任意の断片の増幅を行うにあたり、DNAを含む水溶液が格納されたPCR用容器に対して加熱または吸熱を行っている。なお、液冷式ヒートシンクを用いたPCRの制御において、流す液体の温度を制御する装置の技術が特許文献1に開示されている。
しかしながら、上述の特許文献1による技術では、液冷式ヒートシンクに流す液体の温度を変えるための可動機構が必要になるため、加熱・吸熱のサイクルが可動機構の動作に左右され、加熱・吸熱のサイクル速度が遅い。また当該可動機構により構造的に複雑となり、メンテナンスに労力がかかるという問題がある。
そこで特許文献2には、メンテナンス労力を軽減し、PCR制御における加熱・吸熱のサイクル速度を容易に速めることのできる、2組のペルチェ素子と蓄熱手段を用いた温度制御装置および温度制御方法が開示されている。
しかしながら、特許文献2に記載の発明においては、各蓄熱手段をそれぞれの温度に予熱または予冷しておく必要があるが、各蓄熱手段はバイオチップに対して十分に大きな熱容量をもつため、その予熱または予冷の際に、多大なエネルギーが消費されるという問題があった。
特開2007−110943号公報 特願2008−011778号公報
本発明は上記の課題に鑑みなされたもので、PCR制御における加熱・吸熱のサイクル速度が速く、かつ、予熱または予冷の際に消費されるエネルギーを削減可能な温度制御装置およびその予熱または予冷方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明の請求項1においては、平板状の温度制御対象物への加熱または前記温度制御対象物からの吸熱を行う温度制御装置であって、
前記温度制御対象物の一方の面に接する面を備えた第1のペルチェ素子と、
前記温度制御対象物のもう一方の面に接する面を備えた第2のペルチェ素子と、
前記第1のペルチェ素子の前記面とは異なる他の面に接する第1の蓄熱体と、
前記第2のペルチェ素子の前記面とは異なる他の面に接する第2の蓄熱体と、
前記第1のペルチェ素子の温度制御対象物に接する面の側に配置された第1の温度センサと、
前記第1のペルチェ素子と前記第1の蓄熱体の間に配置された第2の温度センサと、
前記第2のペルチェ素子の温度制御対象物に接する面の側に配置された第3の温度センサと、
前記第2のペルチェ素子と前記第2の蓄熱体の間に配置された第4の温度センサと、
前記第1〜第4の温度センサにより測定された温度を基づいて前記第1のペルチェ素子と前記第2のペルチェ素子のそれぞれに所定の電流を流す制御を行う制御手段と、
を備えることを特徴とした温度制御装置としたものである。
また本発明の請求項2においては、請求項1に記載の温度制御装置を予熱または予冷する方法であって、
前記第1のペルチェ素子と前記第2のペルチェ素子を、前記温度制御対象物を介さずに直接接触させ、
前記制御手段が、前記第1のペルチェ素子および前記第2のペルチェ素子に対して、前記第2の蓄熱体から前記第1の蓄熱体へ熱が移動するように電流を流す制御を行う
ことを特徴とする予熱または予冷の方法としたものである。
本発明の温度制御装置は、温度制御対象物および第1および第2の蓄熱体の加熱または冷却は、第1および第2のペルチェ素子によって行なわれ、他の加熱手段や冷却手段を必要としないため、装置構成を簡単なものとすることができる。
また本発明の予熱または予冷の方法によれば、第2の蓄熱体からの吸熱分を、第1の蓄熱体の加熱に再利用することができるため、前記第1の蓄熱体と前記第2の蓄熱体の予熱または予冷のために消費されるエネルギーを削減することができる。
以下、本発明の一実施形態である温度制御装置とその予熱または予冷方法を、図面を参照して説明する。
図1は同実施形態の、予熱または予冷時の温度制御装置の構成を示す図である。
この図は、2つのペルチェ素子と2つの蓄熱体を備えた温度制御装置の断面図を示している。図1に示すように、温度制御装置は第1のモジュール10と第2のモジュール20の2つのモジュールから構成されている。
第1のモジュール10は、第1のペルチェ素子11、第1の蓄熱体15、温度センサ13、14から構成されている。また、第2のモジュール20は、第2のペルチェ素子21、第2の蓄熱体25、温度センサ23、24から構成されている。第1の蓄熱体15、第2の蓄熱体25はそれぞれ十分に大きい熱容量を持ち、温度センサ13,14,23,24及びペルチェ素子11、21には図示せぬ制御回路30が接続されている。
第1のモジュール10においては、第1の蓄熱体15と第1のペルチェ素子11が接する箇所に温度センサ14が設置されており、この温度センサ14は第1の蓄熱体15の温度を計測している。また、第1のペルチェ素子11の蓄熱体15とは反対側の面には、温度センサ13が設置されており、この温度センサ13は第1のペルチェ素子11のこの面に接する物体の温度を計測する。
同様に、第2のモジュール20においては、第2の蓄熱体25と第2のペルチェ素子21が接する箇所に温度センサ24が設置されており、この温度センサ24は第2の蓄熱体25の温度を計測している。また、第2のペルチェ素子21の蓄熱体25とは反対側の面には、温度センサ23が設置されており、この温度センサ23は第2のペルチェ素子21のこの面に接する物体の温度を計測する。
本実施形態の温度制御装置の予熱(または予冷)時は、第1のペルチェ素子11と第2のペルチェ素子21を直接接触させた状態とし、図示せぬ制御回路30により、蓄熱体15を加熱するようにペルチェ素子11に電流を流し、蓄熱体25を吸熱するようにペルチェ素子21に電流を流す。なお、図1は、温度センサ13と温度センサ23が接触するような配置の場合を示したものとなっているが、必ずしも温度センサ13と温度センサ23を接触させる必要はなく、適宜ずらした配置としてもよい。
ペルチェ素子11内部の異金属接合面は、蓄熱体15との接触面と略平行な方向にあり、同様にペルチェ素子21内部の異金属接合面も、蓄熱体25との接触面と略平行な方向にある。ペルチェ素子の発熱または吸熱は異金属接合面で起きるため、異金属接合面が蓄熱体や温度制御対象物(後述)をなるべく広く覆うようにしたほうが、効率よく加熱または冷却することができるからである。
図2は、本実施形態の温度制御対象物A(PCR容器;本実施形態においては化学反応用チップと呼ぶ)である化学反応用チップの構成を示す図である。
図2に示すように、化学反応用チップは、上板部1と下板部2の対応する面が接合して成る構造となっており、上板部1にはDNA水溶液の注入孔3が2つ備えられている。また、下板部2には水溶液が溜まる反応槽の凹部4が設けられている。図2においては簡略化して反応層の凹部4が3つのみ備えられた様子を示しているが、本実施形態においては36個が備えられているものとする。
図3は、本実施形態の温度制御装置にて温度制御対象物Aである化学反応用チップの温度制御を行う時の構成を示す図である。
本実施形態の温度制御装置を予熱(または予冷)が完了した状態とし、温度制御対象物Aの一方の面の側に第1のモジュール10を、もう一方の面の側に第2のモジュール20を接触させて配置する。モジュール10、20とも、それぞれのペルチェ素子11および21が、温度制御対象物Aに接触するように配置される。
本実施形態による温度制御装置は、温度制御対象物Aである化学反応用チップを加熱するときは、主として第1のペルチェ素子11に電流を流して駆動し、また、化学反応用チップから吸熱するときは、主として第2のペルチェ素子21に電流を流して駆動する。
次に、図1を用いて、十分に大きい熱容量をもつ蓄熱体15と、十分に大きい熱容量をもつ蓄熱体25を用いた場合の実施例について説明する。
本実施形態の温度制御装置の予熱(または予冷)時は、第1のペルチェ素子11と第2のペルチェ素子21を直接接触させた状態とする。図示せぬ制御回路30により、蓄熱体15を加熱するようにペルチェ素子11に電流を流し、また、蓄熱体25を吸熱するようにペルチェ素子21に電流を流す。
一般的には、高温物から低温物へは自然に熱が流れ、やがて温度が等しくなるが、低温物から高温物へは自然に熱が流れることはない。しかしペルチェ素子は、電流を利用して強制的に熱を流すことができる素子であり、低温物から高温物に強制的に熱を流すこともできる。
第2のペルチェ素子21を用いて蓄熱体25を吸熱すると、反対側の面へ熱が移動するため、ペルチェ素子21の蓄熱体25に接していない側の面は加熱される。この側に何も配置されていない状態であれば、この熱は空気中へ放出されるが、図1のように第1のペルチェ素子11と第2のペルチェ素子21を直接接触させた状態であれば、この熱を蓄熱体15を加熱するために有効利用することができる。
このようにして、蓄熱体15と蓄熱体25の予熱または予冷のために消費されるエネルギーを削減することができる。
図3は同実施形態による化学反応チップを加熱または吸熱するときにおける温度制御装置の構成を示す図である。
温度センサ13は化学反応チップと第1のペルチェ素子11が接する箇所に設置されており、この温度センサ13は化学反応用チップの第1のモジュール10側の面の温度を計測している。また、温度センサ23は化学反応チップと第2のペルチェ素子21が接する箇所に設置されており、この温度センサ23は化学反応用チップの第2のモジュール20側の面の温度を計測している。これらの温度センサ13および23の測定値を基に、制御回路30は、化学反応チップが高温時には95℃、低温時には68℃に、迅速に加熱または吸熱されるようにペルチェ素子11、21に電流を流す。
このとき、温度制御対象物Aである化学反応用チップへの吸加熱量Qchipは、ペルチェ素子への入力電流をIin、ペルチェ素子の温度制御対象物側の温度をTchip、ペルチェ素子のヒートシンク側の温度をTsinkとすると、
chip={α×(Tchip+273)Iin}+{1/2×R×Iin
−{L×(Tchip−Tsink)}
という式(1)で表すことができる。
この式(1)においてαはペルチェ係数、Rは電気抵抗、1/Lが熱抵抗でありペルチェ素子に固有の値である。この式から分かるように、温度制御対象物Aである化学反応用チップへの吸加熱量Qchipは、『α×(Tchip+273)Iin』の第1項と、『1/2×R×Iin 』の第2項と、『−L×(Tchip−Tsink)』の第3項とにより表すことができる。ここで、第1項はペルチェ素子の一方の面から他方の面へ強制的に熱移動を行うペルチェ効果によるものである。また第2項はペルチェ素子に電流を流すことによりペルチェ素子自体が発生させるジュール熱によるものである。また第3項はペルチェ素子の一方の面から他方の面への通常の物体における熱伝導によるものである。そして、これら第1項〜第3項の効果により、温度制御対象物Aである化学反応用チップの温度が昇降する。
そして、蓄熱体15が99℃に保温されている間に、式(1)で算出される吸加熱量Qchipの熱量が温度制御対象物Aである化学反応用チップに与えられ、これにより化学反応用チップの温度が増加する。なお、ペルチェ素子を用いて温度制御対象物である化学反応用チップの温度を制御する従来の技術においては、式(1)における第1項と第2項の効果を用いていたが、本実施形態においては、第1のヒートシンクを用いて式(1)の第3項の効果をもたらすことにより、従来に比べて迅速に化学反応用チップの温度を増加させることができる。
そして、温度センサ13が、温度制御対象物Aである化学反応用チップの第1のモジュール10側の面の温度を計測し、制御回路30が温度センサ13の計測する温度を読み取る。そして制御回路30は、温度センサ13の温度が95℃に達してから15秒経過した後に、第1のペルチェ素子11への電流を停止する。そして、制御回路30は、第2のペルチェ素子21がマイナスの温度を発するように電流を流す。そして、第2のペルチェ素子21は、上記式(1)の算出式による熱量を、温度制御対象物Aである化学反応用チップから温度を吸熱し、その熱を蓄熱体25へ伝える。制御回路30は、温度センサ23の温度が68℃に達して45秒経過したら、ペルチェ素子21への電流を停止し、上記加熱の処理を再度行う。
なお、温度制御対象物Aである化学反応用チップとして、アルミ合金とポリカーボネイト樹脂を積層した厚さ1mmの板を用いる。化学反応用チップは微細加工されていて容量10マイクロリットルの反応槽36個をもち、それぞれの反応槽にPCR反応液が充填されている。そして制御回路30は、上記の加熱と吸熱の処理を繰り返す。ここで反応試薬のPCR工程は2温度設定、例えば(95℃15秒、68℃45秒)×30サイクルであるとする。
なお、上述の構成においては、温度制御対象物Aへの加熱を行う場合には、第1のペルチェ素子11に対して、第2のペルチェ素子21が移動させる熱より大きな熱を第1の蓄熱体15から温度制御対象物Aへ移動させるように電流を流す制御を行い、また、温度制御対象物Aからの吸熱を行う場合には、第2のペルチェ素子21に対して、第1のペルチェ素子11が移動させる熱より大きな熱を温度制御対象物Aから第2の蓄熱体25へ移動させるように電流を流す制御を行っている。
そして、この構成によれば、加熱時において第1のペルチェ素子11の両面の温度差Tchip−Tsinkを第1の蓄熱体15を備えることにより強制的に負の値にすることができるため、第1のペルチェ素子11に対して、従来と同じ電流値Iinを流したとしても、従来の1組のペルチェ素子11と空冷式ヒートシンクで加熱も吸熱も行う場合に比べて、加熱量Qchipが増加する。すなわち、温度制御対象物Aである化学反応用チップの加熱を高速化することができる。また空冷式ヒートシンクに比べて第1の蓄熱体15の温度を安定させることが出来るので、安定した加熱の制御を行うことができる。
また、この構成によれば、空冷式ヒートシンクに比べて第2の蓄熱体25の温度を安定させることが出来るので、安定した吸熱の制御を行うことができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本温度制御装置によれば、温度制御対象物である化学反応用チップを加熱または吸熱するための機構に機械的構造を不要としたため、故障がなく、管理者のメンテナンス労力を軽減することができる。また、第1及び第2のヒートシンクを用い、ペルチェ素子の一方の面から他方の面への熱移動の効果を利用することで、従来に比べて安定して迅速に温度制御対象物である化学反応用チップを加熱または吸熱することができる。
上述の温度制御装置における制御回路は内部に、コンピュータシステムを有している。そして、上述した処理の過程は、プログラムの形式でコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶されており、このプログラムをコンピュータが読み出して実行することによって、上記処理が行われる。ここでコンピュータ読み取り可能な記録媒体とは、磁気ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、DVD−ROM、半導体メモリ等をいう。また、このコンピュータプログラムを通信回線によってコンピュータに配信し、この配信を受けたコンピュータが当該プログラムを実行するようにしても良い。
また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良い。さらに、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル(差分プログラム)であっても良い。
予熱または予冷時における温度制御装置の構成を示す図である。 化学反応用チップの構成を示す図である。 化学反応用チップの加熱または吸熱時における温度制御装置の構成を示す図である。
符号の説明
10・・・第1のモジュール
20・・・第2のモジュール
11・・・第1のペルチェ素子
13,14,23,24・・・温度センサ
15・・・蓄熱体
21・・・第2のペルチェ素子
25・・・蓄熱体
A・・・温度制御対象物

Claims (2)

  1. 平板状の温度制御対象物への加熱または前記温度制御対象物からの吸熱を行う温度制御装置であって、
    前記温度制御対象物の一方の面に接する面を備えた第1のペルチェ素子と、
    前記温度制御対象物のもう一方の面に接する面を備えた第2のペルチェ素子と、
    前記第1のペルチェ素子の前記面とは異なる他の面に接する第1の蓄熱体と、
    前記第2のペルチェ素子の前記面とは異なる他の面に接する第2の蓄熱体と、
    前記第1のペルチェ素子の温度制御対象物に接する面の側に配置された第1の温度センサと、
    前記第1のペルチェ素子と前記第1の蓄熱体の間に配置された第2の温度センサと、
    前記第2のペルチェ素子の温度制御対象物に接する面の側に配置された第3の温度センサと、
    前記第2のペルチェ素子と前記第2の蓄熱体の間に配置された第4の温度センサと、
    前記第1〜第4の温度センサにより測定された温度を基づいて前記第1のペルチェ素子と前記第2のペルチェ素子のそれぞれに所定の電流を流す制御を行う制御手段と、
    を備えることを特徴とした温度制御装置。
  2. 請求項1に記載の温度制御装置を予熱または予冷する方法であって、
    前記第1のペルチェ素子と前記第2のペルチェ素子を、前記温度制御対象物を介さずに直接接触させ、
    前記制御手段が、前記第1のペルチェ素子および前記第2のペルチェ素子に対して、前記第2の蓄熱体から前記第1の蓄熱体へ熱が移動するように電流を流す制御を行う
    ことを特徴とする予熱または予冷の方法。
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