JP5302605B2 - カラーフィルタ現像装置及び現像方法並びにカラーフィルタ製造システム及び製造方法 - Google Patents
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また、現像処理時の基板位置の確認を、接触式サンサで行っていた。
さらに、現像処理における現像液の劣化は製品不良の原因となるが、従来はある一定枚数基板を処理したら、現像液を新液に交換、補充を行っていた。
さらに、現像処理時の基板位置の確認を接触式サンサで行っていたので、基板の破損の懸念があり、位置調整も困難であった。
また、本発明の第二の目的は、経済性のよいカラーフィルタ現像装置および方法を提供することである。
さらに、本発明の第三の目的は、生産性或いは稼働率の高いカラーフィルタ製造システムおよび方法を提供することである。
また、本発明の第二の目的は、経済性のよいカラーフィルタ現像装置および方法を提供することができる。
さらに、本発明の第三の目的は、生産性或いは稼働率の高いカラーフィルタ製造システムおよび方法を提供することができる。
まず、カラーフィルタ製造システムの前の工程から前部受渡搬送ロボット7を介してBM処理工程ライン101に基板が搬入され(ステップ1)、同ラインにてBM処理がされる(ステップ2)。BM処理された基板は、搬送系103によりカラーフィルタ処理ラインへ搬送される(ステップ3)。次に、最初はRの色処理するFR前処理工程ラインでコート前洗浄処理、レジストコート処理、露光処理が行われる(ステップ4)。従来はRの色処理を行なう前処理工程ラインの後、自動的にこのラインに一台だけ連結されているR専門の現像装置で処理されていたが、本発明では、下流にある3つの後処理工程ラインB1、B2、B3のうちどのラインに流すかを判定し、選んだラインへ基板を流す(ステップ5)。
以上説明したように、本実施形態によれば、全体の処理時間を短縮できるのでスループットを向上させることができ、生産性の向上が図れる。
また、本実施形態によれば、例え複数ある現像装置のいずれかに故障が発生しても、他の現像装置で対処することができ装置の稼働率が改善され、強いては生産性の向上を図ることができる。
色センサを現像処理層41に設けたが、色センサ50bおよび50cでレジスト色の検出を兼ねてもよい。
また、前記色センサの結果とCIMからの前工程からの基板情報(レジスト着色等)と照合を行い、現像処理レシピ(現像時間、現像吐出圧、水洗ツール等)を基板毎に変更することができる。
さらに、CIMにより指示と色センサの検出結果が異なった場合には、CIMにその情報をあげることによりシステムとしての信頼性をあげることができる。
このセンサを用いて、レジスト残りを監視することによって現像処理の出来具合を検査する。現像液が劣化すると現像後に現れるパターンがぼろぼろになったり、パターン線幅に広がりが生じ、適切な現像処理ができず、製品として不良となる。この現象を色センサ50dで基板P45の一部を画像として捉え、これを映像処理して前記現象を検出する。即ち、現像によってパターンが適切に形成できたのかをパターンの線幅、パターンの面積等で検出する。パターンが適切に形成できない状態を検出した場合は、現像液を新液交換、補給を行なうことが必要である。そのために、本実施形態では、2つの薬液タンク49を設けて、図5の処理フローに基づき現在使用しているタンクから他方のタンクに切り替え、他方のタンクで現像処理を行っている間に、いままで使用していたタンクの現像液を新液に交換、補充する。
また、未だ使用可能な現像液を不要に廃棄することがなくなるので経済的効果も得ることができる。
上記の色センサとしては、CCDカラーカメラ、カラーラインセンサなどを用いることができる。
また、色センサ以外に画像認識センサを用いて、レジスト色等の基板情報を照合するようにしても良い、この場合には、基板上に表記している基板No.や基板アドレスを直接読み取ることも可能である。
また、現像液の劣化を判定することができるので、カラーセンサを用いて、現像装置自身で実際の液の劣化を判別し、自動的に現像液を吐出する現像タンクを変更することが可能なため製品の信頼性を向上できると共に生産性を向上できる。
3R:露光装置 4 :現像装置
5 :ベーク装置 6 :搬送コンベア
7 :前部受渡搬送ロボット 8 :中間受渡搬送ロボット
9 :受取搬送ロボット 41:受取コンベア部
42、43:現像処理槽 44:水置換槽
45:高圧ジェット槽 46:直水スプレ槽
47:乾燥エアーカーテン槽 48:受渡コンベア部
49:薬液タンク 50:色センサ
60:制御装置
70:処理フローコントローラCIM(Common Information Model)
100:カラーフィルタ製造システム
101:ブラックマトリクス処理工程ライン
102:カラーフィルタ処理ライン 103:搬送系
CV:コンベア P:基板。
Claims (19)
- 基板にコートされたレジストの色を検出する色検出手段と、前記色検出手段で検出された色に基づいて現像処理する現像処理手段を有することを特徴とするカラーフィルタ現像装置。
- 前記色検出手段は非接触で色を検出する手段であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ現像装置。
- 前記現像処理手段は異なる複数の色を現像する処理部を有することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ現像装置。
- 前記現像処理手段は、前記色検出手段で検出された色に基づいて前記基板の現像速度を変えることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ現像装置。
- さらに、現像された前記基板を洗浄し、乾燥する手段を有することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ現像装置。
- さらに、上位情報部からの色情報と前記色検出手段で検出された色とを照合し、前記照合結果に基づいて現像情報を前記上位情報部へ伝達する手段を有することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ現像装置。
- 基板にコートされたレジストを現像する現像液を前記基板に供給する供給部を複数有する現像処理部と前記現像液により処理された前記基板を洗浄し、その後乾燥させる現像後処理部とを有する現像装置において、
前記現像後処理部に設けられた現像後に残存するレジストの状態を検出するレジスト状態検出手段と、前記検出手段の結果に基づいて前記複数有する供給部を選択し、
前記レジスト状態検出手段は非接触で色を検出する手段を有することを特徴とするカラーフィルタ現像装置。 - 基板に色レジストをコートし露光処理を色単位に行なう前処理工程ラインと、前記前処
理工程ラインで処理された前記基板を現像し、ベーク処理を行なう複数の後処理工程ライ
ンとを有するカラーフィルタ製造システムにおいて、
前記前処理工程ラインで処理された前記基板を前記複数ある後処理工程ラインの中から
処理を行なう後処理工程ラインを選択する選択手段と、前記選択された後処理工程ライン
に前記基板を搬送する手段とを有することを特徴とするカラーフィルタ製造システム。 - 前記選択手段は、前記複数の後処理工程ラインの処理時間が同一になるように前記後処
理工程ラインを選択することを特徴とする請求項8に記載のカラーフィルタ製造システム。 - 前記選択手段は、前記色単位で行なわれる複数の色を決められた順番に前記複数の後処理工程ラインを選択することを特徴とする請求項8に記載のカラーフィルタ製造システム。
- 前記基板に、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス処理工程ラインを有することを特徴とする請求項8に記載のカラーフィルタ製造システム。
- 基板にコートされたレジストの色を検出する色検出ステップと、前記色検出ステップで検出された色に基づいて現像処理する現像処理ステップとを有することを特徴とするカラーフィルタ現像方法。
- 前記現像処理ステップは、前記色検出ステップで検出された色に基づいて前記基板の現
像速度を変えることを特徴とする請求項12に記載のカラーフィルタ現像方法。 - さらに、現像処理後の基板をベークするベークステップを有することを特徴とする請求
項12に記載のカラーフィルタ現像方法。 - さらに、上位情報部からの色情報と前記色検出ステップで検出された色とを照合し、前
記照合結果に基づいて現像情報を前記上位情報部へ伝達するステップとを有する請求項12に記載のカラーフィルタ現像方法。 - 基板に色レジストをコートし露光処理を色単位に行なう前処理工程ラインと、前記前処
理工程ラインで処理された前記基板を現像し、ベーク処理を行なう複数の後処理工程ライ
ンとを有してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法において、
前記前処理工程ラインで処理された前記基板を前記複数ある後処理工程ラインの中から
処理ラインを選択するステップと、前記選択された後処理工程ラインに前記基板を搬送す
るステップとを有することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 前記選択ステップは、前記複数の後処理工程ラインの処理時間が同一になるように前記
後処理工程ラインを選択することを特徴とする請求項16に記載のカラーフィルタ製造方
法。 - 前記選択ステップ手段は、前記色単位で行なわれる複数の色を決められた順番に前記複
数の後ラインを選択することを特徴とする請求項16に記載のカラーフィルタ製造方法。 - 前記基板に、ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス処理工程ステップを有
することを特徴とする請求項16に記載のカラーフィルタ製造方法。
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