JP5293487B2 - コネクタ、半導体モジュール、半導体装置の実装方法及び半導体モジュールの製造方法 - Google Patents

コネクタ、半導体モジュール、半導体装置の実装方法及び半導体モジュールの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、コネクタ、半導体モジュール、半導体装置の実装方法及び半導体モジュールの製造方法に関する。
近年、半導体装置の実装の高密度化に伴い、QFP(Quad Flat Package)型の半導体装置に比べて高密度化を図ることができるLGA(Land Grid Array)型の半導体装置が実用化されている。
LGA型の半導体装置は、半導体素子と半導体素子を搭載するパッケージ基板とを有しており、パッケージ基板は、半導体素子が搭載される面と反対側の面に、規則的に配列された電極パッドを備えている。
LGA型の半導体装置を配線基板に実装する際は、例えばパッケージ基板の上方にヒートシンク、パッケージ基板と配線基板との間にコネクタ、配線基板の下方に補強板をそれぞれ配置し、ヒートシンクと補強板との間を四隅に設けたネジで締結する。これにより、パッケージ基板およびコネクタが機械的に押圧され、半導体装置と配線基板とが電気的に接続される。この接続方法によれば、半導体装置の交換が容易であるため、実装歩留まりの向上を図ることができる。
特許第4036742号公報 特開2003−69187号公報 特開2004−165586号公報 特開2007−165149号公報
しかし、ヒートシンクと補強板との間をネジで締結した場合、ヒートシンクの四隅を起点とした傾きまたは反りにより、パッケージ基板と配線基板との間に介在するコネクタへの押圧が不均一となり、パッケージ基板と配線基板との接続不良(導通不良)の発生を招く恐れがある。また、LGA型の半導体装置を実装する際に、ネジの締結順序により、ネジ毎に荷重分布が異なる恐れがある。このため、コネクタと、パッケージ基板の電極パッドおよび配線基板の電極パッドとの接触圧力が場所により異なることにより、導通不良が発生する恐れがある。
本発明は、配線基板およびパッケージ基板との接続信頼性の向上を図ることができるコネクタ、半導体モジュール、半導体装置の実装方法及び半導体モジュールの製造方法を提供することを目的とする。
発明の一観点によれば、フレ−ムと、前記フレームに備えられた貫通孔と、前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備えた接続端子と、前記中空部内に配置されたカムと前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトとを有するコネクタが提供される。
発明の別の一観点によれば、半導体装置と、コネクタを介して前記半導体装置と電気的に接続された配線基板とを有し、前記コネクタは、フレ−ムと、前記フレームに備えられた貫通孔と、前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備え、前記突出した部位の前記フレーム上面側が前記半導体装置、前記突出した部位の前記フレーム下面側が前記配線基板にそれぞれ接続された接続端子と、前記中空部内に配置されたカムと前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトとを有する半導体モジュールが提供される。
発明の別の一観点によれば、フレ−ムと、前記フレームに備えられた貫通孔と、前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備え、前記突出した部位の前記フレーム上面側が前記半導体装置、前記突出した部位の前記フレーム下面側が前記配線基板にそれぞれ接続された接続端子と、前記中空部内に配置されたカムと、前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトとを有するコネクタを配線基板上に配置する工程と、前記コネクタ上に半導体装置を配置し、前記接続端子を介して前記基板と前記半導体装置とを電気的に接続する工程とを有し、 前記接続する工程は、前記半導体装置を前記配線基板に押圧しながら前記カムを回転させ、前記回転により前記接続端子の高さを変化させる半導体装置の実装方法が提供される。
発明の別の一観点によれば、フレ−ムと、前記フレームに備えられた貫通孔と、前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備え、前記突出した部位の前記フレーム上面側が前記半導体装置、前記突出した部位の前記フレーム下面側が前記配線基板にそれぞれ接続された接続端子と、前記接続端子に備えられた中空部内に配置されたカムと、前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトとを有するコネクタを配線基板上に配置する工程と、前記コネクタ上に半導体装置を配置し、前記接続端子を介して前記基板と前記半導体装置とを電気的に接続する工程とを有し、前記接続する工程は、前記半導体装置を前記配線基板に押圧しながら前記カムを回転させ、前記回転により前記接続端子の高さを変化させる半導体装置モジュールの製造方法が提供される。
上述の観点によれば、コネクタと配線基板、およびパッケージ基板との接続信頼性の向上を図ることができる。
図1は、実施例1におけるコネクタを用いた半導体装置モジュールを示す模式図である。 図2は、実施例1におけるコネクタの外形を示す平面図である。 図3は、実施例1におけるコネクタの一部を拡大した模式図である。 図4は、実施例1におけるフレームの平面図である。 図5は、実施例1におけるコネクタを用いた半導体装置の実装方法、半導体モジュールの製造方法を示す工程断面図である。 図6は、実施例1における半導体装置を配線基板に実装する前後における、コネクタの状態を説明するための断面図である。 図7は、実施例1における図3(b)に示す一点鎖線C−C’におけるコネクタの断面図である。 図8は、実施例1におけるコネクタを介してパッケージ基板と配線基板とを接続した際に、傾きが発生したコネクタの接続状態を示す断面図である。 図9は、実施例1におけるコネクタの変形例を示す模式図である。 図10は、実施例1におけるフレームの変形例を示す断面図である。 図11は、実施例1におけるフレームの製造方法を示す工程断面図(その1)である。 図12は、実施例1におけるフレームの製造方法を示す工程断面図(その2)である。 図13は、実施例1における、打ち抜き法を用いたカムの製造方法を示す工程断面図である。 図14は、実施例1における、カムにシャフトを接続する工程を示す工程断面図である。 図15は、実施例1におけるコネクタの製造方法を示す工程平面図(その1)およびその断面図である。 図16は、実施例1におけるコネクタの製造方法を示す工程平面図(その2)である。 図17は、実施例1におけるコネクタの変形例の製造方法を示す工程平面図(その1)である。 図18は、実施例1におけるコネクタの変形例の製造方法を示す工程平面図(その2)である。 図19は、実施例2におけるコネクタを示す模式図である。 図20は、実施例2におけるコネクタを介してパッケージ基板と配線基板とを接続した際の、コネクタの接続状態を示す断面図である。 図21は、実施例3におけるコネクタを示す模式図である。 図22は、実施例3におけるコネクタを介してパッケージ基板と配線基板とを接続した際の、コネクタの接続状態を示す断面図である。 図23は、実施例3におけるコネクタの変形例を示す断面図である。 図24は、コネクタの変形例を介してパッケージ基板と配線基板とを接続した際の、コネクタの状態を示す断面図である。 図25は、実施例3におけるコネクタの別の変形例を示す模式図である。 図26は、コネクタの別の変形例を介してパッケージ基板と配線基板とを接続した際の、コネクタの接続状態を示す断面図である。 図27は、実施例4におけるコネクタの外形を示す平面図である。 図28は、実施例4におけるコネクタの変形例の外形を示す平面図である。 図29は、実施例4におけるコネクタの別の変形例の外形を示す平面図(その1)である。 図30は、実施例4におけるコネクタの別の変形例の外形を示す平面図(その2)である。 図31は、実施例5におけるコネクタの外形を示す平面図である。 図32は、実施例5におけるコネクタの変形例の外形を示す平面図である。 図33は、実施例5におけるコネクタの別の変形例の外形を示す平面図(その1)である。 図34は、実施例5におけるコネクタの別の変形例の外形を示す平面図(その2)である。 図35は、実施例5におけるコネクタの別の変形例の外形を示す平面図(その3)である。 図36は、実施例5におけるコネクタの別の変形例の外形を示す平面図(その4)である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して具体的に説明する。
実施例1について、図1乃至図6を参照して説明する。
図1は、実施例1におけるコネクタを用いた半導体モジュールを示す模式図である。図1に示すように、半導体装置10はコネクタ20を介して配線基板30上に実装されている。半導体装置10は、半導体装置10の上面に配置されたヒートシンク40と、配線基板30の下面に設けた補強板50との間のネジ60によって固定されている。
以下、コネクタを用いた半導体モジュールの各部の詳細について説明する。
半導体装置10は、例えば厚さ0.1mm〜0.5mm程度の半導体チップ11と、半導体チップ11がバンプ12を介して搭載された厚さ0.15mm〜2mm程度のパッケージ基板13と、パッケージ基板13の下面に規則的に備えられたランド電極14と、半導体チップ11の上面を覆う厚さ0.8mm〜1mm程度のヒートスプレッダ15とを有している。
パッケージ基板13は、例えばガラスエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン(BT)樹脂、ポリイミド、セラミック等の基板基材の両面に、CuまたはAlを含む配線パターンが形成された基板を用いることができる。
ランド電極14は、例えばパッケージ基板13側から厚さ10μm〜40μm程度のCu、厚さ約3μmのNi、厚さ0.1μm〜0.5μm程度のAuを順次積層した電極を用いることができる。
ヒートスプレッダ15は、半導体チップから発生した熱を広範囲で吸収してヒートシンク40に伝達する機能を有しており、例えば厚さ約1mmのCuを含む材料を用いることができる。
配線基板30は、例えばガラスエポキシ、ビスマレイミドトリアジン(BT)樹脂、ポリイミド等の基板基材の両面に、CuまたはAlを含む配線パターンが形成されている。また、配線パターンの一部として、パッケージ基板13のランド電極14に対応する位置に、電極パッド31が規則的に配置されている。
ヒートシンク40は、放熱する半導体装置10を冷却する機能を有しており、例えば厚さ5mm〜15mm程度のAlを含む材料を用いることができる。ヒートシンク40および補強板50の四隅近傍には、バネ61,62が設けられたネジ60が貫通して設けられている。バネ61,62上に配置したナット63,64を用いてネジ60をそれぞれ締結することにより、半導体装置10と配線基板30との間に介在するコネクタ20が押圧され、半導体装置10がコネクタ20を介して配線基板30に固定されている。
補強板50は、半導体装置10を配線基板30にネジ60で固定する際に、配線基板30を補強する機能を有しており、例えば厚さ2.5mm〜3mm程度のステンレスの板材を用いることができる。
続いて、本発明に係るコネクタ20について、図2を参照して説明する。
図2は、実施例1におけるコネクタ20の外形を示す平面図である。
コネクタ20は、図2に示すように、例えば厚さ1.5mm〜2mm程度のフレーム21と、フレーム21に設けられた貫通孔22内に配置され、フレーム21の両面から突出した上端部および下端部を備えた接続端子23とを有している。
図3は、実施例1におけるコネクタ20の一部を拡大した模式図であり、図3(a)は、図2に示す一点鎖線A−A’におけるコネクタ20の断面図、図3(b)は、図3(a)に示す一点鎖線B−B’におけるコネクタ20の平面図である。
コネクタ20はさらに、図3に示すように、接続端子23の、フレーム21が延在する方向に設けられた凹状の中空部24と、中空部24内に配置されたカム25と、カム25に備えられたシャフト26とを有している。
また、図2および図3に示すように、接続端子23に設ける中空部24の位置を適宜選択することができる。例えば、半導体装置10の反り方向の傾向が既知である場合に、半導体装置10と配線基板30との間隙が大きくなる方向の面に中空部24を設けることにより、接続端子23による接触をより確実に行うことができる。ただし、図2に示すように、シャフト26は同一方向に延在するように配置した方が製造上好ましい。
図4は、実施例1におけるフレーム21の平面図である。フレーム21は、コネクタ20の基材として用いられ、接続端子23を配置するための貫通孔22と、シャフト26を導入するための溝部28とを有している。フレーム21の材料としては、例えばポリイミド、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、エポキシ樹脂、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン等の絶縁性の材料を用いることができる。
図3に戻り、接続端子23は、パッケージ基板13のランド電極14と配線基板30の電極パッド31との電気的接続を得るために設けられたものであり、実施例1では、接続端子23は球形状を有している。接続端子23は、フレーム21の、パッケージ基板13のランド電極14に対応する位置に埋め込まれるように配置されており、なお且つ配線基板30の電極パッド31に対応する位置に配置されている。
コネクタ20を介して半導体装置10を配線基板30に実装する際には、接続端子23の上端部をランド電極14、下端部を電極パッド31にそれぞれ接触させる。そのため、隣接する接続端子23同士の間隔(ピッチ)は、半導体装置10のランド電極14のピッチに対応している。ランド電極14のピッチが1.0mm〜1.5mmの範囲である場合、接続端子の直径は、例えば0.7mm〜0.9mmの範囲が好ましい。
接続端子23の材料としては、導電性および弾性を有する樹脂が好ましい。樹脂としては、例えばウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂等の熱可塑性材料や、ウレタンゴム、アクリルゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、イソプロピレンゴム、フッ素ゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム(EPDM)等のゴムを用いることができる。
樹脂中に分散させる導電性フィラーとしては、例えばAu、Ag、Cu、Pt、Pd、Pb、Sn、Fe、Zn、Al、Cr、Ti等の単体金属を用いることができる。また、Fe−Ni合金、ステンレス、はんだ、ベリリウム銅、青銅、リン青銅、黄銅等の合金や、カーボンやセラミックス等の粒子の表面に金属コーティング等の処理を施した導電性粒子を用いることもできる。85℃を超える温度下における耐熱性や、機械的特性、耐久性を鑑みると、接続端子23の材料としてはAg粒子を分散させたシリコーンゴムが好ましい。
中空部24は、カム25を回転させるための空間を担っており、実施例1では凹状に設けられている。このように、中空部24を凹状に設けることにより、カム25の回転に伴う接続端子23の上下方向の変形が容易になるため、接続端子の高さを半導体装置10と配線基板30との間隙の変化に追従させやすくなる。
カム25は、回転軸に垂直な断面の中心と外周との距離が場所により異なった形状を有している。カム25の断面形状としては 、カム25が回転した際に接続端子23を変形させることができる形状、例えば長径が0.6mm〜0.8mm、短径が長径よりも小さく、且つ0.5mm〜0.7mmの範囲の楕円形が好ましい。
カム25の材料としては、熱プレス成形、ブロー成形又は射出成形により容易に加工可能な材料が好ましい。例えばウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂を含む熱可塑性材料や、ウレタンゴム、アクリルゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、イソプロピレンゴム、フッ素ゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム(EPDM)等のゴムを用いることができる。
さらに、カム25の材料として、例えばセラミックスや、ポリイミド、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エポキシ樹脂、アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン(ABS)共重合樹脂、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン等の絶縁性の樹脂材料を用いることもできる。また、上述の樹脂材料にめっき等の表面処理を施したものや、複数の樹脂材料を配合したものを用いることもできる。
さらに、カム25の材料として金属材料を用いることもできる。例えばAu、Ag、Cu、Fe、Al、Ti等の単体金属類や、Fe−Ni合金、ステンレス、はんだ、ベリリウム銅、青銅、リン青銅、黄銅等の合金を用いることができる。
シャフト26はカム25に接続されており、カム25は、中空部24の中でシャフト26を回転軸とした回転動作を行うことができる。シャフト26の寸法としては、例えば直径0.25mm〜0.35mm、長さ約1mmの寸法が好ましい。なお、後述するように、シャフトの断面を蒲鉾状とすると更に好ましい。
シャフト26の材料としては、熱プレス成形、ブロー成形又は射出成形により容易に加工可能な材料が好ましい。例えばウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂を含む熱可塑性材料や、ウレタンゴム、アクリルゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、イソプロピレンゴム、フッ素ゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム(EPDM)等のゴムを用いることができる。
次に、本発明に係るコネクタ20を用いて半導体装置10を配線基板30に実装する方法、半導体モジュールの製造方法を説明する。
図5は、実施例1におけるコネクタを用いた半導体装置の実装方法、半導体モジュールの製造方法を示す工程断面図である。
まず、図5(a)に示すように、配線基板30上に接続端子23を備えたコネクタ20を配置する。電極パッド31が接続端子23に接するように位置合わせをしながら、コネクタ20を配線基板30上に搭載する。
次に、図5(b)に示すように、コネクタ20上に半導体装置10を配置する。接続端子23がランド電極14に接するように位置合わせをしながら、コネクタ20上に半導体装置10を搭載する。
続いて、図5(c)に示すように、半導体装置10上にヒートシンク40、配線基板30の下面に補強板50を設け、ヒートシンク40および補強板50の四隅近傍にバネ61,62が設けられたネジ60を貫通させて締結する。ネジ60の締結により、パッケージ基板13と配線基板30との間に介在するコネクタ20が押圧され、半導体装置10が配線基板30に固定される。
なお、コネクタ20が押圧される際に、接続端子23の中空部24内に設けられたカム25が、半導体装置10と配線基板30との間隙の大きさに応じて回転する。この回転により接続端子23の高さが変化し、半導体装置10と配線基板30との電気的な接続を行うことができる。この動作については後述する。
以上の方法により、接続端子23を介して半導体装置10と配線基板30とを電気的に接続し、半導体モジュールを製造することができる。
次に、カムの回転動作について、図6乃至図8を参照して説明する。
図6は、半導体装置10を配線基板30に実装する前後における、コネクタ20の状態を説明するための断面図であり、図6(a)は実装前のコネクタ20、図6(b)は実装後の、パッケージ基板13と配線基板30の間のコネクタ20の状態を示している。
半導体装置10を配線基板30に実装する前は、図6(a)に示すように、カム25の長径方向がフレーム21の厚さ方向を向いている。この時、フレーム21に両端が固定されているシャフト26はねじれておらず、接続端子23のフレーム21の厚さ方向の高さは最大となっている。
半導体装置10をコネクタ20の上に設置し、半導体装置10と配線基板30との間をネジ60で締結すると、図6(b)に示すように、コネクタ20の接続端子23は上下からの圧力によって変形し、これに伴い接続端子23内のカム25が回転する。
ここで、カム25が回転してもシャフト26の両端は回転しないため、シャフト26にねじれが生じる。シャフト26がねじれた状態になると、ねじりバネの復元作用によって傾いたカム25に復元力が働くため、復元力により接続端子23がフレーム21の断面方向を向く。これにより、接続端子23による押圧をランド電極13および電極パッド31に印加することができる。上述の構成により、半導体装置10と配線基板30との電気的接続を、はんだ付けをせずに確実に行うことができる。
図7は、図3(b)に示す一点鎖線C−C’におけるコネクタ20の断面図である。
シャフト26をフレーム21に固定する方法としては、例えばシャフト26の表面の一部を面取り加工により平坦部27を形成し、平坦部27の形成によって得られる蒲鉾状の断面形状を有するシャフト26を、フレーム21側に設けた溝28に導入する方法を用いることができる。すなわち、シャフト26に、長さ方向に延在する平坦部27を設けることにより、平坦部27が回り止めとして機能し、シャフト26が回転することなくシャフト26の両端部をフレーム21に固定することができる。
図8は、実施例1におけるコネクタ20を介してパッケージ基板13と配線基板30とを接続した際に、傾きが発生したコネクタ20の接続状態を示す断面図である。
図8に示すように、傾きが発生すると、パッケージ基板13と配線基板30との間隙は不均一となり、接続端子23内のカム25の角度は、間隙の大きさに応じて変化する。カム25は、間隙が小さくなるにつれて接続端子23の中で回転し、カム25の長径方向がフレーム21が延在する方向を向くように変化する。このカム25の回転動作によって、接続端子23の高さを間隙の大きさに応じて変化させることができる。
上述のカム25の回転動作によれば、半導体装置10を実装する際に、コネクタ20への押圧が不均一となった場合や、ネジ60毎に荷重分布が異なった場合でも、接続端子23と、ランド電極13および電極パッド31との電気的な接続を維持することができる。
また、球形状を有する接続端子23を用いると、フレーム21から突出する上端部および下端部は半球状となるため、半導体装置10を配線基板30に実装した際に傾きが発生した場合でも、上述の電気的な接続を確実に行うことができる。
次に、実施例1におけるコネクタの変形例について、図9を参照して説明する。
図9(a)は、実施例1におけるコネクタの変形例20aの平面図であり、図9(b)は一点鎖線D−D’におけるコネクタの変形例20aの断面図である。
図9(a)および図9(b)に示すように、フレーム21aには接続端子23a毎に溝28aが備えられている。溝28aは、フレーム21aの厚さ方向に形成された溝28bと、フレーム21aの長さ方向に形成された溝28cとを含むカギ形状を有している。溝28cの終端には、シャフト26aが収納されている。
このように、シャフト26aを収納するための溝28aをカギ型で構成することにより、収納後にシャフト26aがフレーム21aから脱落するのを防ぐことができる。
図10は、実施例1におけるフレームの変形例20aを示す断面図である。
図10に示すように、図9に示した接続端子23aの形状に対応した凹型形状を、貫通孔22aの内壁に設けることもできる。上述の構成によれば、貫通孔22aの内壁が接続端子23aの脱落止めとして作用するため、貫通孔22a内に設置した接続端子23aがフレーム21aから脱落するのを防止することができる。
次に、コネクタの製造に用いるフレーム、カム、および接続端子の製造方法について、図11乃至図14を参照して説明する。
図11および図12は、実施例1における、射出成形法を用いたフレーム21の製造方法を示す、図4の一点鎖線E−E’における工程断面図である。
まず、図11(a)に示すように、金型として、キャビティ71aを施した上型73及び、キャビティ71bを施した下型74を準備する。
続いて、図11(b)に示すように、上型73および下型74を、例えば170℃〜180℃で加熱した後に張り合わせる。この時、キャビティ71a,71bによって、金型内にフレーム21の形状に相当するキャビティ71が形成される。
続いて、図12(a)に示すように、図示しないゲート孔から樹脂80を金型内に導入する。この時、樹脂80は加熱された金型によって溶融して液状となり、キャビティ71内が樹脂80で充填される。
その後、図12(b)に示すように、上型73および下型74を、例えば水冷または空冷などの方法により冷却し、樹脂80が硬化した後に、張り合わせていた上型73と下型74とを分離すると、樹脂成形されたフレーム21を得ることができる。
接続端子23やカム25も、上述の射出成形法を用いて製造することができる。特に、カム25は、射出成形法を用いることによりカム25とフレーム21とを一体で製造することができる。この方法によれば、カム25とフレーム21とを接続するための追加の工程を必要としないため、コネクタ20の製造効率の改善を図ることができる。
図13は、実施例1における、打ち抜き法を用いたカムの製造方法を示す工程断面図である。カム83の材料として金属材料を用いる場合は、金型を用いた打ち抜き(スタンピング)による方法を用いてカム83を製造することもできる。
まず、図13(a)に示すように、金型として、キャビティ71cを施した上型73a及び、突起部76を施した下型74aを準備し、下型74aの上にカム83の材料として金属材料81を配置する。金属材料81は、製造するカム83の回転軸方向の長さを有する板材が好ましい。
上型73aのキャビティ71c内には、カム83の回転軸の位置に備えられる貫通孔82を形成するための凸部75が備えられている。他方、下型74aの突起部76には、金型を閉じた際に凸部75と嵌合させるための凹部77が、凸部75に対応する位置に備えられている。
続いて、図13(b)に示すように、常温のまま上型73aと下型74aとを張り合わせ、金属材料81の打ち抜きを行う。その後、張り合わせていた上型73aと下型74aとを分離すると、図13(c)に示すように、貫通孔82を有するカム83が突起部76の上方に形成され、打ち抜かれた金属材料81aは下型72d上に落下する。
続いて、カム83に第1のシャフト84および第2のシャフト85を接続する。
図14は、実施例1における、カム83に第1のシャフト84および第2のシャフト85を接続する工程を示す工程断面図である。
まず、図14(a)に示すように、金型として上型73bと下型74bとを準備し、上型72eには第1のシャフト84を配置し、下型74には第2のシャフト85を配置する。また、カム83を、上型73bと下型74bとの間の所定の位置に配置する。
続いて、図14(b)に示すように、上型73bおよび下型74bを張り合わせる。張り合わせた時のクランプ圧により、第1のシャフト84および第2のシャフト85がカム83の貫通孔82にそれぞれ挿入される。
その後、図14(c)に示すように、上型73bおよび下型74bを分離させると、第1のシャフト84および第2のシャフト85がそれぞれ接続されたカム83を得ることができる。
なお、上述の製造方法では2本のシャフト84,85を使用したが、1本のシャフト26のみをカム83の貫通孔82に挿入して製造することもできる。この方法によれば、コネクタ20の材料点数を減らすことができ、製造工程を簡略化できる。また、シャフト26はカム83を貫通しているため、カム83からのシャフト26の脱落を抑制することもできる。
次に、コネクタ20の製造方法について説明する。
図15および図16は、実施例1におけるコネクタ20の製造工程を示す工程図であり、図15(a)は前半工程の平面図、図15(b)は一点鎖線F−F’における断面図、図16は後半工程の平面図である。
まず、前半工程では、図15(a)および図15(b)に示すように、シャフト26を備えたカム25を接続端子23の中空部24で挟持する。ここで、図15(a)では、中空部24と、接続端子23内に収納されるカム25およびシャフト26を点線で示している。
続いて、後半工程では、図16に示すように、シャフト26を溝28内に導入しながら、カム25を挟持した接続端子23を貫通孔22内に設置する。なお、図7に示すように、シャフト26には平坦部27が設けられており、溝28は、シャフト26を所定の方向からしか導入できないような幅を有している。このため、シャフト26を溝28内に導入すると、シャフト26の両端をフレーム21に固定することができ、シャフト26の両端部の回転を抑えることができる。このようにして、カム25を内蔵した接続端子24をフレーム21の所定の位置に配置することができる。
図17および図18は、図9に示すコネクタの変形例20aの製造工程を示す工程平面図である。
まず、図17(a)に示すように、シャフト26aを備えたカム25aをフレーム21aに設置する。溝28aの中にシャフト26aの両端部を導入し、図9(b)に示すように、シャフト26aを溝28cの終端に配置する。このようにシャフト26aを配置すると、図17(b)に示すように、シャフト26aの両端部をフレーム21aの内部に収納した状態で、カム25aを貫通孔22aに配置することができる。このとき、図9(b)に示すように、シャフト26aには平坦部27aが設けられており、溝28a内でシャフト26aの回転を抑えることができる。
続いて、図18(a)に示すように、接続端子23aをフレーム21aの貫通孔22a内に配置する。貫通孔22a内に設置されているカム25aを中空部24aで挟みながら、接続端子23aの本体を貫通孔22aに収納すると、図18(b)に示すように、カム25aを内蔵した接続端子23aをフレーム21aの所定の位置に配置することができる。
実施例2について、図19および図20を参照して説明する。
図19は、実施例2におけるコネクタ20bを示す模式図であり、図19(a)は断面図、図19(b)は一点鎖線G−G’における平面図を示している。
コネクタ20bは、図19(a)に示すように、フレーム21bと、フレーム21bに設けられた貫通孔22b内に配置され、フレーム21bから突出した上端部および下端部を有する接続端子23bと、接続端子23bに設けられた中空部24bと、中空部24b内に配置されたカム25bと、カム25bの回転軸に備えられたシャフト26bを有している。実施例2では、図19(b)に示すように、接続端子23bは、並行する一対の平坦部86,87を備えている。
図20は、実施例2におけるコネクタ20bを介してパッケージ基板13と配線基板30とを接続した際の、コネクタ20bの接続状態を示す断面図である。
図20に示すように、コネクタ20bは、接続端子23bの上端部がランド電極14、接続端子23bの下端部が電極パッド31にそれぞれ接触している。
上述の構成によれば、接続端子23bと、ランド電極14および電極パッド31との接触は、線接触から開始されるため、接触面積の増大を図ることができる。また、接触面積が増大するに伴って接触抵抗が低減するため、半導体装置10と配線基板30との電気特性の向上を図ることができる。
実施例3について、図21乃至図26を参照して説明する。
図21は、実施例3におけるコネクタ20cを示す模式図であり、図21(a)は断面図、図21(b)は一点鎖線H−H’における平面図を示している。
図21(a)および図21(b)に示すように、コネクタ20cは、フレーム21cと、フレーム21cに設けられた貫通孔22c内に配置され、フレーム21cから突出した上端部および下端部を有する接続端子23cと、接続端子23cの、フレーム21cが延在する方向に設けられた中空部24cと、中空部24c内に配置されたカム25cと、カム25cの回転軸に備えられたシャフト26cを有している。
また、フレーム21c内部の接続端子23cは、平面視方向において一定の断面積を有している。このため、フレーム21c内部で接続端子23cの面積が増大せず、コネクタ20cの狭ピッチ化を図ることができる。
さらに、接続端子23cの上端部および下端部は、それぞれの頭頂部に平坦部88,89を有している。平坦部88,89を有する接続端子23cは、例えば射出成形法を用いて形成することができる。
図22は、実施例3におけるコネクタ20cを介してパッケージ基板13と配線基板30とを接続した際の、コネクタ20cの接続状態を示す断面図である。
コネクタ20cは、フレーム21cから突出した上端部がランド電極14、フレーム21cから突出した下端部が電極パッド31にそれぞれ接触している。ランド電極14および電極パッド31との接触は、それぞれ図21(a)に示す平坦部88、89を介して行われている。
このように、平坦部88,89を介してパッケージ基板13および配線基板30と接続することにより、低い押圧で広い接触面積を得ることができる。特に、接続端子20cの材料として、塑性変形が起こりにくい低弾性材料を用いる場合に有効である。
次に、実施例3におけるコネクタの変形例について、図23および図24を参照して説明する。
図23は、実施例3におけるコネクタの変形例20dを示す模式図であり、図23(a)は断面図、図23(b)は一点鎖線I−I’における平面図を示している。図24は、コネクタの変形例20dを介してパッケージ基板13と配線基板30とを接続した際の、コネクタ20dの状態を示す断面図である。
図23(a)および図23(b)に示すように、接続端子23dの上端部および下端部の頭頂部を半球状とすることもできる。また、図24に示すように、半導体装置10を配線基板30に実装する際は、接続端子23dと、ランド電極14および電極パッド31との接続が点接触から開始される。このため、半導体装置10を配線基板30に実装する際に傾きが発生しても、接続端子23dと、ランド電極14および電極パッド31との電気的な接続を確実に行うことができる。
次に、実施例3におけるコネクタの別の変形例について、図25および図26を参照して説明する。
図25は、実施例3におけるコネクタの別の変形例20eを示す模式図であり、図25(a)は断面図、図23(b)は一点鎖線J−J’における平面図を示している。図26は、コネクタの別の変形例20eを介してパッケージ基板13と配線基板30とを接続した際の、コネクタ20eの接続状態を示す断面図である。
図25および図26に示すように、接続端子23eを貫通する孔を中空部24eとし、中空部24eの内部にカム25eが配置されている。このように、中空部24eを貫通孔とすることにより、接続端子23eが過度に変形した際に、カム25eが接続端子23eから脱落するのを防止することができる。
実施例4について、図27乃至図30を参照して説明する。
図27は、実施例4におけるコネクタ20fの外形を示す平面図であり、パッケージ基板の中央部に電極パッドを備えていない領域を有する、所謂パーシャルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20fを示している。図27に示すように、コネクタ20fでは、コネクタ20fの四隅のみにカム25fを有する接続端子23fを配置し、四隅以外の領域には、カム25fを備えていない接続端子29aを配置している。
半導体装置が下に凸の方向に反った場合、コネクタ20fの四隅付近に配置された接続端子23fが最も導通不良を起こしやすくなる。このため、最も導通不良が起きやすい四隅付近にのみ、カム25fを有する接続端子23fを配置している。
図28は、実施例4における変形例であるコネクタ20gの外形を示す平面図であり、電極パッドがマトリックス状に配列された、所謂フルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20gを示している。
半導体装置が下に凸の方向に反った場合に、最も導通不良が起きやすいコネクタ20gの四隅のみにカム25gを有する接続端子23gを配置し、四隅以外の領域には、カム25gを備えていない接続端子29bを配置している。
図29は、実施例4における別の変形例であるコネクタ20hの外形を示す平面図であり、フルグリッド型の半導体装置用のコネクタ20hを示している。図29に示すように、コネクタ20hの中央部のみにカム25hを有する接続端子23hを配置し、中央部以外の領域には、カム25hを備えていない接続端子29cを配置している。
半導体装置が上に凸の方向に反った場合、コネクタ20hの中央部に配置された接続端子23hが最も導通不良を起こしやすくなる。このため、最も導通不良が起きやすい中央部にのみ、カム25hを有する接続端子23hを配置している。
図30は、実施例4におけるコネクタの別の変形例の外形を示す平面図であり、フルグリッド型の半導体装置用のコネクタ20iを示している。図30に示すように、コネクタ20iの四隅のうち、対角の二隅の一方にのみにカム25iを有する接続端子23iを配置し、対角の二隅の一方以外の領域には、カム25iを備えていない接続端子29dを配置している。
半導体装置が、対角の二隅の他方を結ぶ線が底になるように下に凸の方向に反った場合、コネクタ20iの対角の二隅の一方に配置された接続端子23iが最も導通不良を起こしやすくなる。このため、最も導通不良が起きやすい対角の二隅の一方にのみ、カム25iを有する接続端子23iを配置している。
図27乃至図30に示したように、コネクタ20f〜20iの一部の接続端子のみにカム25f〜20iをそれぞれ配置することにより、全ての接続端子にカム25f〜20iをそれぞれ配置する場合に比べて生産効率を向上させることができる。また、材料点数の減少により、コネクタの製造コストの低減化を図ることもできる。
実施例5について、図31乃至図34を参照して説明する。
図31は、実施例5におけるコネクタ20jの外形を示す平面図であり、パーシャルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20jを示している。
図31に示すように、コネクタ20jでは、コネクタ20jの最外周のみにカム25jを有する接続端子23jを配置し、最外周以外の領域には、カム25jを備えていない接続端子29eを配置している。さらに、接続端子23jに備えられている中空部24jは、すべてコネクタ20jの中心から背向する位置に設けられている。
図32は、実施例5における変形例であるコネクタ20kの外形を示す平面図であり、フルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20kを示している。
図32に示すように、コネクタ20kでは、コネクタ20kの最外周のみにカム25kを有する接続端子23kを配置し、最外周以外の領域には、カム25kを備えていない接続端子29fを配置している。さらに、接続端子23fに備えられている中空部24kは、すべてコネクタ20kの中心から背向する位置に設けられている。
このようにして接続端子29eまたは接続端子29fを設けることにより、半導体装置が下に凸の方向に反った場合にカム25kの回転動作が容易となるため、接続端子23jまたは接続端子23kの高さを変化させて、半導体装置の実装を確実に行うことができる。
図33は、実施例5における別の変形例であるコネクタ20lの外形を示す平面図であり、パーシャルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20lを示している。
図33に示すように、コネクタ20lでは、コネクタ20lの最内周のみにカム25lを有する接続端子23lを配置し、最外周以外の領域には、カム25lを備えていない接続端子29gを配置している。さらに、接続端子23gに備えられている中空部24lは、すべてコネクタ20lの中心を指向する位置に設けられている。
このようにして接続端子23gを設けることにより、半導体装置が上に凸の方向に反った場合にカム25lの回転動作が容易となるため、接続端子23gの高さを変化させて、半導体装置の実装を確実に行うことができる。
図34は、実施例5における別の変形例であるコネクタ20mの外形を示す平面図であり、パーシャルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20mを示している。
図34に示すように、コネクタ20mでは、すべての接続端子23mがカム25mを有しているものの、接続端子23mに設けられる中空部24mの位置が、最内周の接続端子23mと最内周の接続端子23mとで異なっている。すなわち、最外周の接続端子23mに備えられている中空部24mは、すべてコネクタ20mの中心から背向する位置に設けられている。他方、最内周の接続端子23mに備えられている中空部24mは、すべてコネクタ20mの中心を指向する位置に設けられている。
このように、最内周の接続端子23mと最内周の接続端子23mとで、中空部24mを配置する位置を異ならせることにより、半導体装置の反りがより大きい場合においても、接続端子23mの高さを変化させて、半導体装置の実装を確実に行うことができる。
図35は、実施例5における別の変形例であるコネクタ20nの外形を示す平面図であり、パーシャルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20nを示している。
図35に示すように、コネクタ20nでは、コネクタ20nの四隅のみにカム25nを有する接続端子23nを配置し、四隅以外の領域には、カム25nを備えていない接続端子29hを配置している。さらに、接続端子23nに備えられている中空部24nは、すべてコネクタ20nの中心から背向する位置に設けられている。
図36は、実施例5における別の変形例であるコネクタ20oの外形を示す平面図であり、フルグリッド型の半導体装置(図示しない)用のコネクタ20oを示している。
図36に示すように、コネクタ20oでは、コネクタ20oの四隅の領域にカム25oを有する接続端子23oを配置し、四隅以外の領域には、カム25oを備えていない接続端子29iを配置している。さらに、接続端子23oに備えられている中空部24oは、すべてコネクタ20oの中心から背向する位置に設けられている。
このようにして接続端子23nまたは接続端子23oを設けることにより、半導体装置が下に凸の方向に反った場合にカム25nまたはカム25oの回転動作が容易となるため、接続端子23nまたは接続端子23oの高さを変化させて、半導体装置の実装を確実に行うことができる。
以上、本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は特定の実施例に限定されるものではなく、種々の変形や変更が可能である。例えば、実施例3の図25に示した構成は、実施例1または実施例2における電子装置にも適用することができる。また、実施例4の図30に示した、カムを有する接続端子23iの配置形態は、パーシャルグリッド型の半導体装置にも適用することができる。
さらに、実施例4の図36では、四隅の領域にカム25oを有する接続端子23oを各4個配置しているが、配置する個数は各4個に留まらず、例えば各3個あるいは各9個とした変形も可能である。
10 半導体装置
11 半導体チップ
12 バンプ
13 パッケージ基板
14 ランド電極
15 ヒートスプレッダ
20,20a〜20o コネクタ
21,21a〜21o フレーム
22,22a〜22o 貫通孔
23,23a〜23o 接続端子
24,24a〜24o 中空部
25,25a〜25o カム
26,26a〜26o シャフト
27 平坦部
28,28a〜28c 溝
29,29a〜29i 接続端子
30 配線基板
31 電極パッド
40 ヒートシンク
50 補強板
60 ネジ
61,62 バネ
63,64 ナット
70 金型
71,71a〜71d キャビティ
72 金型
73 上型
74 下型
75 凸部
76 突起部
77 凹部
80 樹脂
81,81a 金属材料
82 貫通孔
83 カム
84 第1のシャフト
85 第2のシャフト
86,87 平坦部
88,89 平坦部

Claims (8)

  1. フレ−ムと、
    前記フレームに備えられた貫通孔と、
    前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備えた接続端子と、
    前記中空部内に配置されたカムと、
    前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトと
    を有することを特徴とするコネクタ。
  2. 前記シャフトの端部が前記フレームに固定されていることを特徴とする請求項1記載のコネクタ。
  3. 前記シャフトが、長さ方向に延在する平坦面を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のコネクタ。
  4. 前記貫通孔の内壁が凹型形状を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のコネクタ。
  5. 前記中空部が貫通孔であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のコネクタ。
  6. 半導体装置と、
    コネクタを介して前記半導体装置と電気的に接続された配線基板と
    を有し、
    前記コネクタは、
    フレ−ムと、
    前記フレームに備えられた貫通孔と、
    前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備え、前記突出した部位の前記フレーム上面側が前記半導体装置、前記突出した部位の前記フレーム下面側が前記配線基板にそれぞれ接続された接続端子と、
    前記中空部内に配置されたカムと
    前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトと
    を有することを特徴とする半導体モジュール。
  7. フレ−ムと、
    前記フレームに備えられた貫通孔と、
    前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備え、前記突出した部位の前記フレーム上面側が前記半導体装置、前記突出した部位の前記フレーム下面側が前記配線基板にそれぞれ接続された接続端子と、
    前記中空部内に配置されたカムと、前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトとを有するコネクタを配線基板上に配置する工程と、
    前記コネクタ上に半導体装置を配置し、前記接続端子を介して前記基板と前記半導体装置とを電気的に接続する工程とを有し、
    前記接続する工程は、前記半導体装置を前記配線基板に押圧しながら前記カムを回転させ、前記回転により前記接続端子の高さを変化させることを特徴とする半導体装置の実装方法。
  8. フレ−ムと、
    前記フレームに備えられた貫通孔と、
    前記貫通孔内に配置され、前記フレームから突出した部位と中空部とを備え、前記突出した部位の前記フレーム上面側が前記半導体装置、前記突出した部位の前記フレーム下面側が前記配線基板にそれぞれ接続された接続端子と、
    前記接続端子に備えられた中空部内に配置されたカムと、前記カムに接続され、長さ方向が前記カムの回転軸方向に延在するように配置されたシャフトとを有するコネクタを配線基板上に配置する工程と、
    前記コネクタ上に半導体装置を配置し、前記接続端子を介して前記基板と前記半導体装置とを電気的に接続する工程とを有し、
    前記接続する工程は、前記半導体装置を前記配線基板に押圧しながら前記カムを回転させ、前記回転により前記接続端子の高さを変化させることを特徴とする半導体装置モジュールの製造方法。

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