JP3058142B2 - 半導体装置とその製造方法 - Google Patents

半導体装置とその製造方法

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    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置とその
製造方法に係わり、特に、気密性を向上すると共に、半
導体チップの熱をマザーボードに逃がして、放熱効果を
向上させた半導体装置とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】出力電力が高く半導体チップの発熱量が
大きい半導体装置では、例えば、特開昭61−3955
5号公報(図4)に示す様に、放熱板21をモールド樹
脂22内に埋め込み放熱板21を露出する様な半導体装
置が提供されている。図4に示すこのような半導体装置
では、放熱板21と半導体チップ23やリードフレーム
24との間に熱膨張係数の異なる封入樹脂22がある
為、熱応力によってモールド樹脂22にクラックが発生
することがあった。
【0003】また、特開平8−31986号公報(図
5)に示す様な、放熱板を上面に有しリード成形された
表面実装型の半導体装置が知られている。図5に示す上
記公報の半導体装置は、放熱板31に直接半導体チップ
33を搭載する事により前述のクラックの発生を抑える
事が出来る。しかしながら、半導体チップ33とリード
フレーム34との接続がワイヤ35接続である点や、外
部入出力端子として成形されたリードを有する構造であ
る点などが制約となり、半導体装置の大きさや厚さを小
さく薄くすることに限度があった。また、放熱板31が
実装面37と反対側の上面にあることから、半導体装置
の発熱は、放熱板31を通じて上面の空気を媒体として
冷却しなければならない。しかし、この場合、空気は熱
伝達率が低いから、上面の空気を送風・循環しなければ
放熱効率が悪くなるという問題があった。
【0004】以上の様なことから、半導体装置の大きさ
及び厚さを小さくでき、しかも、実装面である下面に放
熱板を有し、実装基板を放熱媒体として、放熱効率の高
い半導体装置が求められていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
した従来技術の欠点を改良し、特に、半導体装置の小型
化を図ると共に、放熱効率を改善し、しかも、耐湿性を
向上した新規な半導体装置とその製造方法を提供するも
のである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、基本的には、以下に記載されたような技
術構成を採用するものである。即ち、本発明に係わる半
導体装置の第1態様は、基板と、この基板に形成した凹
部と、前記凹部内に形成した電極と、前記凹部内に格納
すると共に前記凹部内の電極に接続する為の電極を有す
る半導体チップと、前記半導体チップに密着して前記基
板に組み付けられる放熱板と、前記基板と放熱板との間
の凹部内を充填する充填材と、前記放熱板と凹部との間
に形成された樹脂注入用の開口とで構成し、前記放熱板
の少なくとも一部を前記凹部内に形成してなるものであ
り、又、第2態様は、前記充填材は、樹脂材料であるこ
とを特徴とするものであり、又、第3態様は、前記基板
は、シート材を積層して形成したことを特徴とするもの
であり、又、第4態様は、前記放熱板をマザーボードに
密着させて固定し、前記半導体チップの熱を前記マザー
ボードに逃がすことを特徴とするものである。
【0007】又、本発明に係る半導体装置の製造方法の
第1態様は、基板に設けた凹部内に半導体チップをフリ
ップチップ接続で実装すると共に、前記半導体チップの
熱を前記基板の凹部内に放熱板の一部を組み付けた前記
放熱板を介して放熱する半導体装置の製造方法であっ
て、前記凹部内に前記半導体チップをフリップチップ接
続する工程と、その後、前記基板と放熱板との間の凹部
内を充填材で満たす工程を含むことを特徴とするもので
あり、又、第2態様は、前記充填材は、樹脂材料である
ことを特徴とするものである。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明に係る半導体装置とその製
造方法は、基板と、この基板に形成した凹部と、前記凹
部内に形成した電極と、前記凹部内に格納すると共に前
記凹部内の電極に接続する為の電極を有する半導体チッ
プと、前記半導体チップに密着して前記基板に組み付け
られる放熱板と、前記基板と放熱板との間の凹部内を充
填する充填材とで構成したものであるから、充填材の作
用により、耐湿性が向上する。
【0009】又、半導体チップと放熱板とが直接接触し
ていて、しかも、放熱板を直接マザーボードに接触させ
る構造であるから、前記半導体装置の基板上部近傍の空
間の大きさや空気の動きの度合いに左右されずに、熱は
安定してマザーボードに導かれ、熱抵抗が改善され、確
実に発生する熱を放熱することができる。更に、基板内
に半導体チップを囲う構造であるCIB(Chip−I
n−Board)構造であり、且つ、フリップチップ実
装であり、更に基板内に回路パターンを形成しスルーホ
ール電極を外部出力端子とするリードレス構造である等
の理由によりより小型の半導体装置が得られる。
【0010】
【実施例】以下に、本発明に係わる半導体装置とその製
造方法の具体例を図面を参照しながら詳細に説明する。
図1乃至3は、本発明に係わる半導体装置の具体例の構
造を示す図であって、図には、基板1と、この基板に形
成した凹部2と、前記凹部2内の底部2aに形成した電
極3と、前記凹部2内に格納すると共に前記凹部2内の
電極3に接続する為の電極4を有する半導体チップ5
と、前記半導体チップ5に密着して前記基板1に組み付
けられる放熱板6と、前記基板1と放熱板6との間の凹
部2内を充填する充填材7とで構成した半導体装置8が
示されている。
【0011】そして、前記放熱板6を図示しないマザー
ボードに密着させて固定し、前記半導体チップ5の熱を
放熱板6を介して前記マザーボードに導いて放熱するこ
とを特徴とするものである。なお、凹部2内に形成した
電極3は基板1の外側の側壁に設けた外部電極10に図
示しないパターンを介して接続しているから、前記マザ
ーボードに半導体装置8を組み付け、所定の接続作業を
行えば、半導体チップ5とマザーボードとを容易に電気
的に接続することができる。
【0012】そして、この状態では、放熱板6はマザー
ボードに密着した状態で組み付けられる。次に本発明の
半導体装置の製造手順について説明する。先ず、半導体
チップ5の電極部にバンプ4を形成する。そして、半導
体チップ5のバンプ4を上に向けた状態で、放熱板6に
ダイボンドする。
【0013】基板1は、図3に示したシート状のシート
基板11を分割線11a、11bで夫々切り離し積層さ
せて形成したものであり、シート基板11は、凹部を備
えない基板片12と、凹部2を形成するための孔14を
備えた基板片13とからなり、基板1は、図3(b)に
示すように基板片12、13を積層したものである。な
お、基板片12には、フリップチップ接続するため、バ
ンプ3と外部電極10との間に回路パターンが印刷され
ている。
【0014】次に、基板1の基板片13を下側にして、
また、前記バンプ4付き半導体チップ5がダイボンドさ
れた放熱板6を半導体チップ5を下側にして、基板1と
半導体チップ5とをフリップチップ接続させる。その
後、その放熱板6と基板1との間との隙間即ち、凹部2
内に、液状樹脂7を注入することによって、本発明の半
導体装置8が得られる。
【0015】具体的には、 ・ペレットサイズ :2.0mm×2.0mm×t0.1 5mm ・フリップチップ実装後のバンプ高さ :20μm ・放熱板の厚さ :0.15mm ・基板の厚さ :0.4mm(0.2mm×二層) ・スルーホール電極サイズ :φ0.6mm とすると、上述の具体例では、半導体装置8の大きさ
は、 4mm×2.4mm×t0.4mm(基板厚と同じ)程
度 に薄型に実現できる。
【0016】上記具体例の他、バンプは、Au以外に半
田で形成してもよい。又、Auバンプは、拡散バンプで
形成してもボールバンプ(バンプボンダにて形成)で形
成してもよい。放熱板6と基板1との隙間は、(1)液
状樹脂のみ、(2)アンダーフィルと液状樹脂の二重構
造、(3)トランスファーモールド、の何れでもよい。
【0017】基板は、樹脂で形成してもセラミックで形
成しても構わないし、又、単層でも多層でもよい。又、
放熱板は、コイニングまたはハーフエッチ処理にて、半
導体チップ実装面を薄くしてもよい。
【0018】
【発明の効果】本発明に係る半導体装置とその製造方法
は、上述のように構成したから、充填材の作用により、
耐湿性が向上する。又、半導体チップと放熱板とが直接
接触していて、しかも、放熱板を直接マザーボードに接
触させる構造であるから、前記半導体装置基板上部近傍
の空間の大きさや空気の動きの度合いに左右されずに、
熱は安定してマザーボードに導かれて熱抵抗が改善さ
れ、確実に発生する熱を放熱することができる。
【0019】更に、基板内に半導体チップを囲う構造で
あるCIB(Chip−In−Board)構造であ
り、且つフリップチップ実装であり、更に、基板内に回
路パターンを形成しスルーホール電極を外部出力端子と
するリードレス構造である等の理由からより小型の半導
体装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体装置の斜視図である。
【図2】(a)は、図1の断面図、(b)は、図1を底
面から見た図である。
【図3】(a)は、基板を形成するためのシート基板の
平面図、(b)は、シート基板を積層し、基板を形成し
た状態の側面図である。
【図4】従来技術を示す断面図である。
【図5】従来技術を示す断面図である。
【符号の説明】
1 基板 2 凹部 3、4 電極 5 半導体チップ 6 放熱板 7 充填材 8 半導体装置 10 外部電極 11 シート基板 12、13 基板片 14 孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/12 H01L 21/60 H01L 23/28 H01L 23/29

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、この基板に形成した凹部と、前
    記凹部内に形成した電極と、前記凹部内に格納すると共
    に前記凹部内の電極に接続する為の電極を有する半導体
    チップと、前記半導体チップに密着して前記基板に組み
    付けられる放熱板と、前記基板と放熱板との間の凹部内
    を充填する充填材と、前記放熱板と凹部との間に形成さ
    れた樹脂注入用の開口とで構成し、前記放熱板の少なく
    とも一部を前記凹部内に形成してなることを特徴とする
    半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記充填材は、樹脂材料であることを特
    徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記基板は、シート材を積層して形成し
    たことを特徴とする請求項1又は2のいづれかに記載の
    半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記放熱板をマザーボードに密着させて
    固定し、前記半導体チップの熱を前記マザーボードに逃
    がすことを特徴とする請求項1乃至3のいづれかに記載
    の半導体装置。
  5. 【請求項5】 基板に設けた凹部内に半導体チップをフ
    リップチップ接続で実装すると共に、前記半導体チップ
    の熱を前記基板の凹部内に放熱板の一部を組み付けた
    放熱板を介して放熱する半導体装置の製造方法であっ
    て、 前記凹部内に前記半導体チップをフリップチップ接続す
    る工程と、 その後、前記基板と放熱板との間の凹部内を充填材で満
    たす工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 前記充填材は、樹脂材料であることを特
    徴とする請求項5記載の半導体装置の製造方法。
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