JP5291684B2 - 成形体 - Google Patents
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Description
本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、活性エステル化合物と、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカとを含む。本発明に係る樹脂組成物では、第1のシリカ100重量部に対する第2のシリカの含有量が0.6〜30重量部である。
上記エポキシ樹脂は、少なくとも1つのエポキシ基を有する有機化合物をいう。上記エポキシ樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本発明に係る樹脂組成物は、硬化剤として活性エステル化合物を含む。
樹脂組成物及び成形体を均一に硬化させる観点からは、本発明に係る樹脂組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。該硬化促進剤は特に限定されない。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本発明に係る樹脂組成物は、充填剤として、平均粒子径が0.1μm以上10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上100nm未満の第2のシリカとを含む。
耐衝撃性、耐熱性、樹脂の相溶性及び作業性等の改善を目的として、樹脂組成物には、着色剤、酸化防止剤、紫外線劣化防止剤、消泡剤、増粘剤、揺変性付与剤及び上記エポキシ樹脂以外の他の樹脂等を添加してもよい。
本発明に係る樹脂組成物をシート状に成形することにより、成形体を得ることができる。
金属層が形成される硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、上記樹脂組成物又は上記成形体を予備硬化させ、半硬化した硬化物を得てもよい。適度に予備硬化させるためには、上記樹脂組成物又は上記成形体を130〜190℃で30分以上加熱し、硬化させることが好ましい。
本発明に係る樹脂組成物及び成形体の用途は、特に限定されない。上記樹脂組成物は、例えば、多層基板のコア層又はビルドアップ層等を形成する基板用材料、接着シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ又はワニス等に好適に用いられる。
エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン社製「エピコート154」)
エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日本化薬社製「RE−410S」)
活性エステル化合物溶液(DIC社製「EXB−9460S−65T」、活性エステル化合物(固形分)65重量%、トルエン35重量%)
イミダゾール化合物(2−フェニル−4−メチルイミダゾール、四国化成社製「2P4MZ」)
イミダゾール化合物(2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、四国化成社製「2P4MHZ−PW」)
DMAP(N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、和光純薬社製)
第1のシリカ含有スラリーA:
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SC2050−MTF」、平均粒子径0.5μm)が、エポキシシラン(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−403」)により、シリカ100重量%に対してエポキシシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第1のシリカ含有スラリー
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SC2050−MTF」、平均粒子径0.5μm))を含む第1のシリカ含有スラリー
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SC2050−MTF」、平均粒子径0.5μm)が、ビニルシラン(ビニルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−1003」)により、シリカ100重量%に対してビニルシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第1のシリカ含有スラリー
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SC2050−MTF」、平均粒子径0.5μm)が、フェニルアミノシラン(N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−573」)により、シリカ100重量%に対してエポキシシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第1のシリカ含有スラリー
第1のシリカ(シリカ(アドマテックス社製「SC2050−MTF」、平均粒子径0.5μm)が、アミノシラン(3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−903」)により、シリカ100重量%に対してエポキシシラン1.5重量部で表面処理されたもの)を含む第1のシリカ含有スラリー
メチルエチルケトン(三協化学社製)
メチルエチルケトン50重量部に、エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン社製「エピコート154」)15.00重量部と、第1のシリカ含有スラリーを固形分で47.50重量部と、第2のシリカ含有スラリーを固形分で2.50重量部とを加え、撹拌機を用いて1200rpmで1時間撹拌した。
使用した材料の種類及び配合量を下記の表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、樹脂組成物及び成形体を得た。
(1)埋め込み性1
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ25μmの銅箔との積層体)に、直径150μm及び深さ50μmの25個の穴を、直線上にかつ隣接する穴の中心の間隔が500μmになるように開けて、穴開き基板を得た。
A:合計数T1が25
B:合計数T1が23〜24
C:合計数T1が20〜22
D:合計数T1が0〜19
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ25μmの銅箔との積層体)を用意した。銅箔をエッチング処理し、L/Sが50μm/50μm及び長さが1cmである銅パターンを26本作製し、凹凸基板を得た。
A:合計数T2が25
B:合計数T2が23〜24
C:合計数T2が20〜22
D:合計数T2が0〜19
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ35μmの銅箔との積層体)を用意した。銅箔をエッチング処理し、L/Sが50μm/50μm及び長さが1cmである銅パターンを26本作製し、凹凸基板を得た。
A:合計数T3が25
B:合計数T3が23〜24
C:合計数T3が20〜22
D:合計数T3が0〜19
粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製「AR2000ex」)を用いて、得られた直後の成形体の80℃における粘度η*を測定した。
A:得られた直後の成形体の粘度η*に対して、放置後の成形体の粘度η*の変化が5%以下
B:得られた直後の成形体の粘度η*に対して、放置後の成形体の粘度η*の変化が5%を超える
実施例13,14では、硬化促進剤として、イミダゾール化合物にかえて、DMAP(N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、和光純薬社製)を用いた。
使用した材料の種類及び配合量を下記の表3に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、樹脂組成物及び成形体を得た。
実施例13〜18で得られた成形体を用いて、上記(1)埋め込み性1、上記(2)埋め込み性2、上記埋め込み性3及び上記(4)保存安定性の評価項目について評価を実施した。さらに、実施例13〜18及び実施例6,7,比較例3,4で得られた成形体について、下記の(5)の算術平均粗さRaについても評価を実施した。さらに、実施例1、実施例15〜18で得られた成形体について、下記の(6)破断強度についても評価を実施した。
〔樹脂シートの未硬化物の作製〕
離型処理された透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名「PET5011 550」、厚み50μm、リンテック社製)を用意した。このPETフィルム上にアプリケーターを用いて、乾燥後の厚みが50μmとなるように、得られた実施例及び比較例の樹脂組成物を塗工した。次に、100℃のギアオーブン内で12分間乾燥して、200mm×200mmの面積を有する厚み50μmの樹脂シートの未硬化物を作製した。作製した樹脂シートの未硬化物を用いて、以下の半硬化体A1を有する積層体A及び半硬化体A2を作製した。
ガラスエポキシ基板上に、銅厚みが25μm、パターン長が3cm、かつL/S=75μm/75μmのパターンが10本形成された回路基板を用意した。この回路基板上に、得られた樹脂シートの未硬化物を、真空ラミネートした。真空ラミネートに際し、真空ラミネータ(名機製作所社製、MVLP−500)を用いて、90℃、0.6MPa、真空40秒及び加圧40秒のラミネート条件によりラミネートした。なお、後述の真空ラミネートの際にも、同様の条件によりラミネートした。その後、樹脂シートの未硬化物を150℃で1時間予備硬化させ、樹脂シートの未硬化物が半硬化した半硬化体A1と回路基板とからなる積層体Aを得た。
得られた積層体Aを80℃の膨潤液(スウェリングディップセキュリガントP、アトテックジャパン社製)に入れて、10分間揺動した。その後、純水で洗浄した。
膨潤処理された積層体Aを80℃の過マンガン酸カリウム(コンセントレートコンパクトCP、アトテックジャパン社製)粗化水溶液に入れて、10分間揺動した。その後、25℃の洗浄液(リダクションセキュリガントP、アトテックジャパン社製)により2分間洗浄し、純水でさらに洗浄した。表面が粗化処理された半硬化体A2を得た。
非接触式の表面粗さ計(商品名「WYKO」、ビーコ社製)を用いて、表面が粗化処理されていない上記半硬化体A1と表面が粗化処理された上記半硬化体A2についてそれぞれの表面の算術平均粗さRaを測定した。算術平均粗さRaはJIS B 0601−1994に従った。
PETフィルム上の厚さ50μmのシート状の成形体を180℃のギアオーブン内で3時間硬化させた後、PETフィルムを剥離して、厚さ50μmの硬化体を得た。この硬化体を長さ100mm、幅10mmに切断し、短冊状の試験片に加工した。
Claims (9)
- 多層基板のビルドアップ層を形成する基板用材料として用いられる成形体であって、
樹脂組成物がシート状に成形された成形体であり、
前記樹脂組成物が、エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂の硬化剤である活性エステル化合物と、平均粒子径が0.1μm以上、10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上、100nm未満の第2のシリカとを含み、
前記エポキシ樹脂の硬化剤である活性エステル化合物が、分子内に2個以上のエステル結合を有するカルボン酸と、芳香族ヒドロキシ化合物との反応物であり、
前記樹脂組成物において、前記第1のシリカ100重量部に対する前記第2のシリカの含有量が0.6〜30重量部であり、
前記樹脂組成物において、前記樹脂組成物100重量%(前記樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、前記第1,第2のシリカの合計の含有量が25〜80重量%であり、
前記樹脂組成物において、前記樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が0.45〜24.5重量部である、成形体。 - 前記樹脂組成物において、前記樹脂組成物100重量%(前記樹脂組成物が溶剤を含む場合には溶剤を除く)中、前記第1,第2のシリカの合計の含有量が45〜75重量%である、請求項1に記載の成形体。
- 前記樹脂組成物において、前記樹脂組成物に含まれている樹脂成分の合計100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が4〜18重量部である、請求項1又は2に記載の成形体。
- 前記樹脂組成物において、前記第1のシリカ100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が0.8〜30重量部である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の成形体。
- 前記樹脂組成物において、前記第1のシリカ100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が2〜15重量部である、請求項4に記載の成形体。
- 前記樹脂組成物において、前記第1のシリカ100重量部に対して、前記第2のシリカの含有量が3〜15重量部である、請求項4に記載の成形体。
- 前記第1,第2のシリカが、シランカップリング剤により処理されている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の成形体。
- 前記第1,第2のシリカの内の少なくとも一方が、エポキシシランカップリング剤により処理されている、請求項7に記載の成形体。
- 厚さが5〜100μmである、請求項8に記載の成形体。
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