JP5288168B2 - 多層プリント配線板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
そのため、デスミア処理をよりよく行うために、特許文献1に開示された技術によれば、デスミア処理後さらにアルカリ溶液中で電解処理を施すことが記載されている。また、デスミア処理をより効果的に行うために、特許文献2に開示された技術によれば、プラズマクリ―ニングによりデスミア処理を行っていた。
本発明は、この銅マット面を底部としたIVH内の底面のレーザー加工残差や汚れを容易に除去し、IVHの底面とそれと接するマット面の間で発生する接続不良を改善したプリント配線板を提供するものである。
また、本発明は、上記において、前記電解銅箔のマット面を内側とした両面銅張積層板の前記電解銅箔をパターニングして内層回路及び前記IVH用の穴が通る非銅箔部分を形成した内層材と、この内層材上に積層されたプリプレグと上層配線用の銅箔と、を有し、前記IVHが、前記上層配線用の銅箔から、前記内層材のIVH用の穴が通る非銅箔部分を介して、前記両面銅張積層板の下側の銅箔のマット面に到るように形成され、前記スルーホールが前記内層回路と導通する多層プリント配線板である。
また、本発明は、上記の多層プリント配線板の製造方法であって、電解銅箔の平均表面粗さが4μm以上のマット面を内側とした両面銅張積層板の前記電解銅箔をパターニングして内層回路及び前記IVH用の穴が通る非銅箔部分を形成した内層材とする工程と、前記内層材上にプリプレグ及び上層配線用の銅箔を重ね積層一体化する工程と、レーザーにより、上層配線用の銅箔側から、前記内層材のIVH用の穴が通る非銅箔部分を介して、前記両面銅張積層板の下側の銅箔のマット面を底部としたIVH用の穴を設ける工程と、ドリルにより、スルーホール用の貫通穴を設ける工程と、エッチング液により、前記IVH用の穴の底部部分の電解銅箔を、1μmから3μmの範囲の表面粗さに減少するようにハーフエッチングする工程と、前記IVH用の穴及びスルーホール用の穴をめっきすることにより、IVH及びスルーホールを形成する工程と、を有する多層プリント配線板の製造方法である。
銅箔の製造条件は、硫酸銅浴の場合、硫酸50〜100g/L、銅30〜100g/L、液温20℃〜80℃、電流密度0.5〜100A/dm2の条件、ピロリン酸銅浴の場合、ピロリン酸カリウム100〜700g/L、銅10〜50g/L、液温30℃〜60℃、pH8〜12、電流密度1〜10A/dm2の条件が一般的によく用いられ、銅の物性や平滑性を考慮して各種添加剤をいれる場合もある。
金属箔の樹脂接着面に行う防錆処理は、ニッケル、錫、亜鉛、クロム、モリブデン、コバルトのいずれか、若しくはそれらの合金を用いて行うことができる。これらはスパッタや電気めっき、無電気めっきにより金属箔上に薄膜形成を行うものであるが、コストの面から電気めっきが好ましい。防錆処理金属の量は、合計で10〜2000μg/dm2が好適である。防錆処理が厚すぎるとエッチング阻害と電気特性の低下を引き起こし、薄すぎると樹脂とのピール強度低下の要因となりうる。
また、IVHには、外層に用いられるブラインドバイアホールと、内層に用いられるベリードバイアホールが含まれる。
化学エッチングしては、塩酸、硫酸などの無機酸、有機酸等の単独または混合したり、無機酸に過酸化水素、トリアゾール、ハロゲン化物、ニカワ等を添加したものが使用できる。
電解エッチングしては、硫酸、塩酸、スルファミン酸などの酸性浴や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ピロリン酸、シアン浴などのアルカリ浴が使用できる。
また、これらの酸またはアルカリ系の溶液に必要により添加剤を加える。添加剤は化学エッチングに使用されているものと同様のもの、または通常光沢めっき液に使用する市販の添加剤等々が使用できる。
図1は、本発明の多層プリント配線板の一部断面図を示している。
電解銅箔のマット面1を内側とした両面銅張積層板の銅箔2をパターニングして、IVH用の穴が通る非銅箔部分3と内層回路を形成した内層材4に、プリプレグ5とその上層に上層配線用の銅箔6とを積層一体化し、その上層配線用の銅箔6のIVH用の穴が通る非銅箔部分の内側を穴形状にパターニングした後、そのパターニングした部分にレーザーにより、両面銅張積層板の下側の銅箔2aのマット面1を底部としたIVH用の穴7を設け、この後デスミア処理を行った後、IVH用の穴7の底部部分8の電解銅箔を平均表面粗さ3μmまたはそれ以下に減少するようにハーフエッチングし、その後、めっきによりIVH9を設けたものを示している。
また、IVH形成に用いることが出来るレーザーとしては、CO2やCO、エキシマ等の気体レーザーやYAG等の固体レーザーがある。CO2レーザーが容易に大出力を得られる事からφ50μm以上のIVHの加工に適している。φ50μm以下の微細なIVHを加工する場合は、より短波長で集光性のよいYAGレーザーが適しているが、両面銅張積層板の下側の銅箔を貫通しないよう注意する必要がある。
たとえば、触媒核の付与には、パラジウムイオン触媒であるアクチベーターネオガント(アトテック・ジャパン株式会社製、商品名)やパラジウムコロイド触媒であるHS201B(日立化成工業株式会社製、商品名)を使用する。本発明における上記パラジウム触媒の銅箔上への吸着量は0.03〜0.6μg/cm2の範囲であり、更に望ましくは0.05〜0.3μg/cm2の範囲である。パラジウム触媒を吸着させる際の処理温度は10〜40℃が好ましい。処理時間をコントロールすることにより、パラジウム触媒の銅箔上への吸着量をコントロールすることができる。
また、無電解めっきには、CUST2000(日立化成工業株式会社製、商品名)やCUST201(日立化成工業株式会社製、商品名)等の市販の無電解銅めっきが使用できる。これらの無電解銅めっきは硫酸銅、ホルマリン、錯化剤、水酸化ナトリウムを主成分とする。めっきの厚さは次の電解めっきが行うことができる厚さであればよく、0.1〜5μmの範囲である。
次に、無電解めっき層の表面に電解めっき層を設ける。例えば、硫酸銅系溶液を用いるのであれば、濃度が銅50〜80g/l、硫酸50〜150g/l、液温40〜50℃、電流密度10〜50A/dm2の条件とする等である。膜厚は、3から100μm程度である。好ましくは5から20μm程度である。
まず、図2(a)には、電解銅箔のマット面1を内側とした両面銅張積層板10とプリプレグ5とその上層に上層配線用の銅箔6とを重ねた状態を示していて、両面銅張積層板10は、その銅箔をパターニングして、IVH用の穴が通る非銅箔部分と内層回路を形成した内層材としてから積層一体化する。
次に、図2(b)には、その上層配線用の銅箔6のIVH用の穴が通る非銅箔部分3の内側を穴形状にパターニングした後、そのパターニングした部分にレーザーにより、両面銅張積層板10の下側の銅箔2aのマット面1を底部としたIVH用の穴7を設けた状態を示している。この後デスミア処理を行う。
次に、図2(c)に示すように、塩化鉄第二鉄水溶液や過硫酸アンモニウム、硫酸−過酸化水素水混合水溶液などのエッチング液により、IVH用の穴7の底部部分8の電解銅箔を1μmから3μmの範囲の表面粗さに減少するようにハーフエッチングし、その後、めっきによりIVH9を設ける。
まず、図3(a)には、電解銅箔のマット面1を内側とした両面銅張積層板10は、その銅箔をパターニングして、IVH用の穴が通る非銅箔部分3と内層回路を形成した内層材としてから、プリプレグ5とその上層に上層配線用の銅箔6とを重ね積層一体化した後、その上層配線用の銅箔6のIVH用の穴が通る非銅箔部分3の内側を穴形状にパターニングした後、そのパターニングした部分にレーザーにより、両面銅張積層板の下側の銅箔2aのマット面1を底部としたIVH用の穴7と、ドリルによるスルーホール用の貫通穴11を設けた状態を示している。この後デスミア処理を行う。
次に、図3(b)には、塩化鉄第二鉄水溶液や過硫酸アンモニウム、硫酸−過酸化水素水混合水溶液などのエッチング液により、IVH用の穴7の底部部分8の電解銅箔の凹凸が無くなるまで深くハーフエッチングした状態を示している。そのため、特にスルーホール用の貫通穴11の内層銅箔の端部12が浸食が大きく、そのため、
図3(c)に示すように、その後、めっきによりIVH9とスルーホールを設けたときに、スルーホールの内層銅箔の端部12とスルーホールめっき13との間で断線してしまった状態(断線部分14)を示している。
まず、厚みさ18μmの電解銅箔の平均表面粗さが5μmのマット面を内側とした両面銅張積層板の銅箔をパターニングして、IVH用の穴が通る非銅箔部分と回路を形成した内層材に、絶縁層の厚みが30μm、上層となる銅箔の厚みが18μmの片面金属箔付樹脂フィルムを120℃、2MPaの条件で真空ラミネートする。次に、この上層の銅箔のIVH用の穴が通る非銅箔部分の内側をビアホール用として直径φ80μmの穴形状にパターニングする。次に、直径φ80μmの穴形状部分にCO2レーザーで内層材の下側の銅箔のマット面を底部としたIVH用の穴加工をする。また、直径φ200μmのスルーホールの貫通穴をドリル加工により設けた。この後デスミア処理を行う。
次に、硫酸−過酸化水素水混合水溶液のエッチング液により、その底部部分の電解銅箔を平均表面粗さが2μmに減少するようハーフエッチングする。
次に、金属箔上、金属箔の欠落部分、スルーホール及びIVH用の穴内部にパラジウムコロイド触媒であるHS201B(日立化成工業株式会社製、商品名)を使用して触媒核を付与後、CUST2000(日立化成工業株式会社製、商品名)を使用して厚さ2μmの下地無電解めっき層を形成する。次に、厚さ20μmの電解めっきにより回路パターンを形成する。
Claims (3)
- 片面が平滑なシャイニー面であり、他の片面が平均表面粗さ4μm以上で粗面化したマット面である電解銅箔と、この電解銅箔の前記マット面を底部としたIVHと、前記電解銅箔の端部とめっきにより導通するスルーホールと、を有する多層プリント配線板において、前記マット面を底部としたIVHは、その底部の電解銅箔部分で、平均表面粗さが1μmから3μmに減少するようにハーフエッチングされている多層プリント配線板。
- 請求項1において、前記電解銅箔のマット面を内側とした両面銅張積層板の前記電解銅箔をパターニングして内層回路及び前記IVH用の穴が通る非銅箔部分を形成した内層材と、この内層材上に積層されたプリプレグ及び上層配線用の銅箔と、を有し、前記IVHが、前記上層配線用の銅箔側から、前記内層材のIVH用の穴が通る非銅箔部分を介して、前記両面銅張積層板の下側の銅箔のマット面に到るように形成され、前記スルーホールが前記内層回路の端部とめっきにより導通する多層プリント配線板。
- 請求項1又は2の多層プリント配線板の製造方法であって、
電解銅箔の平均表面粗さが4μm以上のマット面を内側とした両面銅張積層板の前記電解銅箔をパターニングして内層回路及び前記IVH用の穴が通る非銅箔部分を形成した内層材とする工程と、
前記内層材上にプリプレグ及び上層配線用の銅箔を重ね積層一体化する工程と、
レーザーにより、上層配線用の銅箔側から、前記内層材のIVH用の穴が通る非銅箔部分を介して、前記両面銅張積層板の下側の銅箔のマット面を底部としたIVH用の穴を設ける工程と、
ドリルにより、スルーホール用の貫通穴を設ける工程と、
エッチング液により、前記IVH用の穴の底部部分の電解銅箔を、1μmから3μmの範囲の表面粗さに減少するようにハーフエッチングする工程と、
前記IVH用の穴及びスルーホール用の穴をめっきすることにより、IVH及びスルーホールを形成する工程と、
を有する多層プリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008247895A JP5288168B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008247895A JP5288168B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010080702A JP2010080702A (ja) | 2010-04-08 |
JP5288168B2 true JP5288168B2 (ja) | 2013-09-11 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008247895A Expired - Fee Related JP5288168B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5288168B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101494090B1 (ko) * | 2013-07-16 | 2015-02-16 | 삼성전기주식회사 | 동박적층판, 인쇄회로기판 및 그 제조 방법 |
JP6623941B2 (ja) | 2016-06-09 | 2019-12-25 | 株式会社デンソー | 多層基板の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3716613B2 (ja) * | 1998-03-30 | 2005-11-16 | イビデン株式会社 | プリント配線板及びその製造方法 |
JP2004288748A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-10-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 配線板の製造方法 |
JP2007146258A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Furukawa Circuit Foil Kk | 電解銅箔、プリント配線板および多層プリント配線板 |
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2008
- 2008-09-26 JP JP2008247895A patent/JP5288168B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010080702A (ja) | 2010-04-08 |
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