JP5281250B2 - Inorganic powder for resin composition addition and resin composition - Google Patents

Inorganic powder for resin composition addition and resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP5281250B2
JP5281250B2 JP2007088701A JP2007088701A JP5281250B2 JP 5281250 B2 JP5281250 B2 JP 5281250B2 JP 2007088701 A JP2007088701 A JP 2007088701A JP 2007088701 A JP2007088701 A JP 2007088701A JP 5281250 B2 JP5281250 B2 JP 5281250B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
less
maximum value
resin composition
particle size
inorganic powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007088701A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008248004A (en
Inventor
亘平 鈴木田
武 楊原
賛 安部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Admatechs Co Ltd
Original Assignee
Admatechs Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Admatechs Co Ltd filed Critical Admatechs Co Ltd
Priority to JP2007088701A priority Critical patent/JP5281250B2/en
Publication of JP2008248004A publication Critical patent/JP2008248004A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5281250B2 publication Critical patent/JP5281250B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition having both of fluidity and moldability in high levels. <P>SOLUTION: The resin composition is obtained by dispersing in a resin an inorganic powder having two or more local maximum values in the volume-based size distribution wherein the first local maximum value of one of the local maximum values is &ge;0.1 &mu;m and &le;2 &mu;m, and the second local maximum value of one of the local maximum value except the first maximum value is &ge;20 &mu;m and &le;70 &mu;m, and further having &ge;6 &mu;m and &lt;50 &mu;m of each of the volume average particle diameter and d50, and &ge;0.950 of the average roundness of particles having &ge;15 &mu;m and &le;70 &mu;m particle diameters. Especially, it is preferable that the particles constituting the local maximum value of the size distribution formed in a &ge;0.1 &mu;m and &le;2 &mu;m range occupies 5-15 vol.% of the whole particles, and the particles constituting the local maximum value of the size distribution formed in a &ge;20 &mu;m and &le;70 &mu;m range occupies &ge;50 vol.% of the whole particles. More preferably, the local maximum value is not present in a 2-20 &mu;m range. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、無機粉末を分散し半導体封止材などに用いることが可能な樹脂組成物に用いられる無機粉末として添加するための樹脂組成物添加用無機粉末及びその無機粉末を用いた樹脂組成物に関する。   The present invention relates to an inorganic powder for adding a resin composition to be added to an inorganic powder used in a resin composition in which an inorganic powder is dispersed and used as a semiconductor sealing material, and a resin composition using the inorganic powder. About.

電子機器の高性能化、高機能化、小型軽量化に伴い、搭載される半導体パッケージの形態も、高集積化、小型化、薄型化が進んでいる。このような半導体パッケージの実用化には、ICチップの開発とともに、封止材の開発が必要不可欠となる。現在の封止材としては、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂をマトリックスとし、その中に、無機粉末を配合した樹脂組成物が開発されている。このような封止材には、半導体素子の各種信頼性を確保する目的で高い性能が要求されている。   As electronic devices have higher performance, higher functionality, and smaller and lighter weight, the form of semiconductor packages to be mounted is becoming more highly integrated, smaller, and thinner. For practical use of such a semiconductor package, development of a sealing material is indispensable together with development of an IC chip. As a current sealing material, a resin composition in which a thermosetting resin such as an epoxy resin is used as a matrix and an inorganic powder is blended therein has been developed. Such a sealing material is required to have high performance for the purpose of ensuring various reliability of the semiconductor element.

例えば、高い接着性、耐熱性、耐湿性などが要求される結果、封止材中に大量の無機粉末が充填されることになった。大量の無機粉末が充填されることで、封止材の流動性が低下する問題が生じるので、封止材の流動性の改善が為されているが、単純に流動性を向上するのみではバリが生じるなど成形性に不都合が生じることがあった。   For example, as a result of requiring high adhesiveness, heat resistance, moisture resistance, etc., a large amount of inorganic powder is filled in the sealing material. Filling with a large amount of inorganic powder causes a problem that the fluidity of the sealing material decreases, so the fluidity of the sealing material has been improved. Inconvenience may occur in moldability, such as.

このような不都合を解決する目的で提案させる従来技術としては、頻度粒度分布の尖度が2.9以下、15μm以上30μm未満の領域に極小径を、3μm以上15μm未満および30μm以上70μm未満の領域に極大径を有し、かつ平均粒径が7〜40μmであることを特徴とする無機質粉末がある(特許文献1)。特に、0.2μm以上1.5μm未満の領域に極大径を更に有することが好ましいことが開示されている。   As a conventional technique proposed for the purpose of solving such inconveniences, the kurtosis of the frequency particle size distribution is 2.9 or less, the minimum diameter is 15 μm or more and less than 30 μm, and the minimum diameter is 3 μm or more and less than 15 μm and 30 μm or more and less than 70 μm. There is an inorganic powder characterized by having a maximum diameter and an average particle diameter of 7 to 40 μm (Patent Document 1). In particular, it is disclosed that it is preferable to further have a maximum diameter in a region of 0.2 μm or more and less than 1.5 μm.

そして、頻度粒度分布の歪度が0.6〜1.8、少なくとも3〜10μmの領域および30〜70μmの領域に極大径を有し、かつ最頻径が30〜70μm、中位径が5〜40μmであることを特徴とする球状無機質粉末が開示されている(特許文献2)。特に、0.2〜1.2の領域に極大径を有することが好ましく、BET法により測定した比表面積SBと粒度分布により計算した理論比表面積SCとの比(SB/SC)が2.5以下であることが好ましいことが開示されている。そして、50nm未満の粒子を実質的に含有しないことが好ましく、球状無機質粉末が非晶質シリカであることが好ましいことが述べられている。 The skewness of the frequency particle size distribution is 0.6 to 1.8, at least 3 to 10 [mu] m and 30 to 70 [mu] m, and the mode diameter is 30 to 70 [mu] m and the median diameter is 5 A spherical inorganic powder characterized by a thickness of ˜40 μm is disclosed (Patent Document 2). In particular, it is preferable to have a maximum diameter in the region of 0.2 to 1.2, and the ratio between the specific surface area S B measured by the BET method and the theoretical specific surface area S C calculated by the particle size distribution (S B / S C ). Is preferably 2.5 or less. It is stated that it is preferable not to substantially contain particles of less than 50 nm, and that the spherical inorganic powder is preferably amorphous silica.

また、少なくとも2〜10μmおよび20〜50μmの粒度域に極大値を示す多峰性の頻度粒度分布を有し、平均粒径5〜35μm、最大粒径60μm以下であり、かつ(d99/最頻径)が2.2以下であることを特徴とする球状無機質粉末が開示されている(特許文献3)。特にBET法比表面積SBと粒度分布により計算した理論比表面積SCとの比(SB/SC)が2.5以下であることが好ましく、50nm未満の粒子を実質的に含有しないことが好ましいことが言及されている。また、d75未満の粒子径を持つ粒子の平均球形度が0.90以上、d75以上の粒子径を持つ粒子の平均球形度が0.85以上であることが好ましいことが開示されている。 Further, it has a multimodal frequency particle size distribution showing a maximum value in a particle size range of at least 2 to 10 μm and 20 to 50 μm, an average particle size of 5 to 35 μm, a maximum particle size of 60 μm or less, and (d99 / mode) A spherical inorganic powder characterized in that the diameter is 2.2 or less is disclosed (Patent Document 3). In particular, the ratio (S B / S C ) between the BET specific surface area S B and the theoretical specific surface area S C calculated from the particle size distribution is preferably 2.5 or less, and substantially contains no particles less than 50 nm. Is preferred. Further, it is disclosed that the average sphericity of particles having a particle diameter of less than d75 is preferably 0.90 or more, and the average sphericity of particles having a particle diameter of d75 or more is preferably 0.85 or more.

そしてまた、0.3μm超0.85μmの領域、3〜10μmの領域および20〜70μmの領域に極大値を示す頻度粒度分布を有し、BET法により測定した比表面積SBと粒度分布により計算した理論比表面積SCとの比(SB/SC)が2.5以下であり、50nm未満の粒子を実質的に含有しないことを特徴とする球状無機質粉末が開示されている(特許文献4)。 And also, 0.3 [mu] m area of the ultra 0.85 .mu.m, has a frequency particle size distribution showing the maximum value in the region of the area and 20~70μm of 3 to 10 [mu] m, calculated by the specific surface area S B and the particle size distribution measured by the BET method A spherical inorganic powder characterized in that the ratio (S B / S C ) to the theoretical specific surface area S C is 2.5 or less and substantially contains no particles less than 50 nm (patent document) 4).

更に、頻度粒度分布において、20〜70μmの領域、3.0〜10μmの領域、0.20〜1.0μmの領域に極大値を有することを特徴とする球状無機質粉末。及びエポキシ樹脂、エポキシ樹脂の硬化剤、及び上記球状無機質粉末を含有してなることを特徴とする半導体封止用樹脂組成物が開示されている(特許文献5)。
特開2004−59343号公報 特開2003−146648号公報 特開2003−110065号公報 特許第3571009号公報 特開2001−158614号公報
Furthermore, in the frequency particle size distribution, a spherical inorganic powder characterized by having a maximum value in a region of 20 to 70 μm, a region of 3.0 to 10 μm, and a region of 0.20 to 1.0 μm. And an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, and a spherical inorganic powder, and a semiconductor sealing resin composition is disclosed (Patent Document 5).
JP 2004-59343 A JP 2003-146648 A JP 2003-110065 A Japanese Patent No. 3557109 JP 2001-158614 A

しかしながら、近年の技術の発達により、従来技術の封止材にて用いられる樹脂組成物よりも更に高い性能をもつ樹脂組成物が求められるようになった。このように流動性及び成形性が高い性能を持つ樹脂組成物は半導体の封止材としての用途以外でも高い性能を発揮できる場合が多い。   However, with the recent development of technology, a resin composition having higher performance than the resin composition used in the sealing material of the prior art has been demanded. As described above, a resin composition having high fluidity and moldability is often capable of exhibiting high performance other than as a semiconductor sealing material.

本発明は、このような実状を鑑みてなされたものであり、流動性と成形性とを高い次元で両立できる樹脂組成物が実現できる樹脂組成物添加用無機粉末並びにその樹脂組成物添加用無機粉末を用いた樹脂組成物を提供することを解決すべき課題とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an inorganic powder for adding a resin composition capable of realizing a resin composition capable of achieving both high fluidity and moldability and an inorganic for adding the resin composition. Providing a resin composition using powder is a problem to be solved.

課題を解決するための手段及び発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

(1)上記課題を解決する目的で本発明者らは鋭意検討を行った結果、樹脂組成物に添加する無機粉末として特定の粒度分布を持つものを採用することで流動性と成形性とが両立できることを発見した。具体的には体積基準の粒度分布において所定範囲内に2つ以上の極大値をもつ無機粉末を採用することで高い性能が両立できることを見出し、以下の発明を完成した。 (1) As a result of intensive investigations for the purpose of solving the above-mentioned problems, the present inventors have obtained fluidity and moldability by adopting an inorganic powder having a specific particle size distribution as an inorganic powder to be added to a resin composition. I found that I can achieve both. Specifically, it has been found that high performance can be achieved by employing an inorganic powder having two or more maximum values within a predetermined range in a volume-based particle size distribution, and the following invention has been completed.

(1−1)すなわち、上記課題を解決する本発明の樹脂組成物添加用無機粉末は、体積基準の粒度分布に2以上の極大値をもち、
該極大値のうちの1つである第1極大値が0.1μm以上2μm以下であり、
該第1極大値以外の1つである第2極大値が20μm以上70μm以下であり、
全体を基準とした体積平均粒径並びにd50が6μm以上50μm未満であり、
15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度が0.950以上であることを特徴とする。
(1-1) That is, the inorganic powder for resin composition addition of the present invention that solves the above-mentioned problems has a maximum value of 2 or more in the volume-based particle size distribution,
A first maximum value that is one of the maximum values is not less than 0.1 μm and not more than 2 μm;
The second maximum value, which is one other than the first maximum value, is 20 μm or more and 70 μm or less,
The volume average particle size and d50 based on the whole are 6 μm or more and less than 50 μm,
The average circularity of particles having a particle size of 15 μm or more and 70 μm or less is 0.950 or more.

特に、0.1μm以上2μm以下に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子が全体の5〜15体積%であり、20μm以上70μm以下に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子が全体の50体積%以上であることが望ましい。   In particular, the particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed at 0.1 μm or more and 2 μm or less are 5 to 15% by volume of the whole, and the particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed at 20 μm or more and 70 μm or less are It is desirable that it is 50 volume% or more of the whole.

ここで、「0.1μm以上2μm以下に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子」に含まれるか否かの判断は以下の通りに行う。まず、基本的には、0.1μm以上2μm以下の範囲に極大値をもつピークに属する粒子が「0.1μm以上2μm以下に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子」に含まれるものとする。   Here, the determination as to whether or not it is included in the “particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed to be 0.1 μm or more and 2 μm or less” is performed as follows. First, basically, particles belonging to a peak having a maximum value in the range of 0.1 μm to 2 μm are included in “particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed to be 0.1 μm to 2 μm”. And

このピークに含まれるか否かは、粒度分布における極大値から、粒径の小さい方向及び大きい方向の双方における極小値に至るまでの粒子がすべてこのピークに含まれるものとする。つまり、極小値が「0.1μm以上2μm以下」の範囲から外れたとしてもその粒径をもつ粒子まで含むようにする。   Whether or not it is included in this peak includes all particles from the maximum value in the particle size distribution to the minimum value in both the small and large particle sizes. That is, even if the minimum value is out of the range of “0.1 μm or more and 2 μm or less”, particles having the particle diameter are included.

極小値が表れない場合には、その極小値が表れない側の粒子はすべてそのピークに含まれるとする(例えば、極大値から粒径が大きくなる(小さくなる)方向において極小値がない場合には極大値以上(以下)の粒径をもつ粒子はすべてそのピークに含むものとする。)。また、「0.1μm以上2μm以下」の範囲に2以上の極大値がある場合にはそれぞれについて上述した手法にて「0.1μm以上2μm以下に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子」に含まれるか否かの判断を行う。   When the minimum value does not appear, all the particles on the side where the minimum value does not appear are included in the peak (for example, when there is no minimum value in the direction in which the particle size increases (decreases) from the maximum value). (All particles with a particle size greater than or equal to the maximum value are included in the peak.) Further, when there are two or more maximum values in the range of “0.1 μm or more and 2 μm or less”, “the particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed to be 0.1 μm or more and 2 μm or less” by the method described above for each. It is judged whether it is included in "."

以上の説明は「20μm以上70μm以下」の範囲、(1−2)にて述べる「15μm以上70μm以下」の範囲についても妥当する。   The above description is valid for the range of “20 μm to 70 μm” and the range of “15 μm to 70 μm” described in (1-2).

更に、2〜20μmの範囲に極大値が存在しないことが望ましい。   Furthermore, it is desirable that there is no maximum value in the range of 2 to 20 μm.

(1−2)また 上記課題を解決する本発明の他の樹脂組成物添加用無機粉末は、体積基準の粒度分布に2以上の極大値をもち、
該極大値のうちの2つである第1極大値及び第2極大値が15μm以上70μm以下であり、
全体を基準とした体積平均粒径並びにd50が6μm以上50μm未満であり、
15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度が0.950以上であることを特徴とする。
(1-2) In addition, the other inorganic powder for resin composition addition of the present invention that solves the above problems has a maximum value of 2 or more in the volume-based particle size distribution,
The first maximum value and the second maximum value which are two of the maximum values are 15 μm or more and 70 μm or less,
The volume average particle size and d50 based on the whole are 6 μm or more and less than 50 μm,
The average circularity of particles having a particle size of 15 μm or more and 70 μm or less is 0.950 or more.

特に、15μm以上70μm以下に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子が全体の体積を基準にして60%以上を占めることが望ましい。   In particular, it is desirable that the particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed to be 15 μm or more and 70 μm or less occupy 60% or more based on the entire volume.

(1−3)上述した(1−1)及び(1−2)にて述べた樹脂組成物添加用無機粉末としては、前記粒度分布がもつ極大値が2つであることが望ましい。 (1-3) As the inorganic powder for resin composition addition described in the above (1-1) and (1-2), it is desirable that the particle size distribution has two maximum values.

更に、BET法により測定した比表面積が1.5〜3.5m2/gであることが望ましい。 Furthermore, the specific surface area measured by the BET method is desirably 1.5 to 3.5 m 2 / g.

そして、結晶化率が2%未満のシリカ粉末であることが望ましい。   And it is desirable that it is a silica powder whose crystallization rate is less than 2%.

(2)上記課題を解決する本発明の樹脂組成物は、(1)にて説明した樹脂組成物添加用無機粉末からなるフィラーと、該フィラーを分散する分散用の樹脂組成物とを有することを特徴とする。上述の粒度分布をもつ無機粉末を採用することで流動性と成形性とが両立できる。 (2) The resin composition of the present invention that solves the above problems has a filler composed of the inorganic powder for resin composition addition described in (1), and a resin composition for dispersion that disperses the filler. It is characterized by. By adopting the inorganic powder having the above particle size distribution, both fluidity and moldability can be achieved.

本発明の樹脂組成物添加用無機粉末は樹脂中に分散・添加することで本発明の樹脂組成物を調製することができる。調製した樹脂組成物は半導体素子の封止に用いることができるほか、基板材料、無機ペースト、接着剤、コーティング剤、精密成形樹脂、プリプレグなどに用いることができる。詳しくは後述する。   The resin composition of the present invention can be prepared by dispersing and adding the resin composition-added inorganic powder of the present invention in a resin. The prepared resin composition can be used for sealing semiconductor elements, and can also be used for substrate materials, inorganic pastes, adhesives, coating agents, precision molding resins, prepregs, and the like. Details will be described later.

〈樹脂組成物添加用無機粉末〉
本発明の樹脂組成物添加用無機粉末について、以下、実施形態に基づき詳細に説明を行う。本実施形態の樹脂組成物添加用無機粉末は粒度分布に特徴を有する。まず、粒度分布に2以上の極大値をもつ。以下に示すような値に2つ以上の極大値をもつことで流動性と成形性とが両立できる。
<Inorganic powder for resin composition addition>
Hereinafter, the inorganic powder for resin composition addition of the present invention will be described in detail based on embodiments. The inorganic powder for adding a resin composition of the present embodiment is characterized by a particle size distribution. First, the particle size distribution has a maximum value of 2 or more. By having two or more local maximum values as shown below, both fluidity and moldability can be achieved.

後述する所定の範囲に2以上の極大値をもつようにする方法としては特に限定しない。例えば、篩い分けにより目的の極大値をもち且つ粒径の範囲が狭い粒子を必要な極大値の数だけ選別した後に混合する方法、粒径の範囲が狭い粒子が得られる粒子製造方法(VMC法など)により所定の極大値をもつ粒子を必要な極大値の数だけ製造した後に混合する方法が挙げられる。   There is no particular limitation on the method of having a maximum value of 2 or more in a predetermined range described later. For example, a method in which particles having a target maximum value and a narrow particle size range are selected by the number of necessary maximum values by sieving and then mixed, a particle manufacturing method (VMC method) in which particles having a narrow particle size range are obtained And the like, and a method of mixing the particles having a predetermined maximum value after producing the required number of maximum values.

極大値の数としては2つ以上であれば幾つでも良いが、2つであることが望ましい。複数の極大値のうちの2つ(第1極大値及び第2極大値)が示す粒径が後述する範囲にあることが要求される。なお、便宜的に第1極大値及び第2極大値と称しているが、第1極大値と第2極大値との間でピークの高さの大小は限定しない。   The number of maximum values may be any number as long as it is two or more, but is preferably two. It is required that the particle size indicated by two of the plurality of maximum values (the first maximum value and the second maximum value) be in a range described later. In addition, although called the 1st maximum value and the 2nd maximum value for convenience, the magnitude of the peak height is not limited between the 1st maximum value and the 2nd maximum value.

ここで粒度分布は体積基準で測定されるものである。具体的な測定方法としてはレーザー回折光散乱法にて測定したものである。測定機器としてはベックマンコールター社製のレーザー回折散乱粒度分布測定装置(型番:LS 13 320)を用いて測定したものである。測定条件は、溶媒として水を採用し、分散媒屈折率を1.33、サンプル屈折率を1.5(シリカの場合)、PIDS(Polarizatuon Intensity Differential Scattering)濃度を45〜55%、相対濃度を5〜15%とし、前処理として超音波ホモジナイザーで分散させた後に測定した。この測定結果を用いて評価した場合に極大値の有無を判断するものである。   Here, the particle size distribution is measured on a volume basis. As a specific measuring method, it is measured by a laser diffraction light scattering method. The measurement was performed using a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device (model number: LS 13 320) manufactured by Beckman Coulter. The measurement conditions are such that water is used as the solvent, the dispersion medium refractive index is 1.33, the sample refractive index is 1.5 (in the case of silica), the PIDS (Polarizatuon Intensity Differential Scattering) concentration is 45 to 55%, and the relative concentration is It was 5 to 15%, and was measured after dispersing with an ultrasonic homogenizer as a pretreatment. The presence or absence of a maximal value is judged when this measurement result is used for evaluation.

本実施形態の樹脂組成物添加用無機粉末としては2種類ある。   There are two types of inorganic powder for resin composition addition of the present embodiment.

(a)1つ目としては、2つ以上ある極大値のうちの1つである第1極大値が0.1μm以上2μm以下であること、第1極大値以外の1つである第2極大値が20μm以上70μm以下であることが要求される。特に第1極大値としては0.1μm以上1μm以下であることが望ましい。第2極大値としては20μm以上60μm以下であることが望ましい。 (A) First, the first maximum value, which is one of two or more maximum values, is 0.1 μm or more and 2 μm or less, and the second maximum value is one other than the first maximum value. The value is required to be 20 μm or more and 70 μm or less. In particular, the first maximum value is preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less. The second maximum value is desirably 20 μm or more and 60 μm or less.

そして、全体を基準とした体積平均粒径並びにd50(累積体積が50%になる粒径)が6μm以上50μm未満である。そして、15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度が0.950以上である。体積平均粒径並びにd50としては10μm以上40μm以下であることが望ましい。そして、15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度としては0.970以上であることが望ましい。   The volume average particle diameter and d50 (particle diameter at which the cumulative volume becomes 50%) based on the whole are 6 μm or more and less than 50 μm. And the average circularity of the particle | grains with a particle size of 15 micrometers or more and 70 micrometers or less is 0.950 or more. The volume average particle diameter and d50 are preferably 10 μm or more and 40 μm or less. The average circularity of particles having a particle size of 15 μm or more and 70 μm or less is preferably 0.970 or more.

体積平均粒径及びd50は前述した粒度分布の測定と同時に測定した値である。平均円形度は画像解析装置(シスメックス社製:フロー式粒子像解析装置:FPIA3000)を用い溶媒としてシース液(PSE−900A,シスメックス社製)を採用して測定した円形度の値である(以下同じ)。具体的には(円形度)={4π×(面積)÷(周囲長)2}で算出される値として算出する。1に近づくほど真球に近い。100個の粒子について測定した平均値を平均円形度として採用する。 The volume average particle diameter and d50 are values measured simultaneously with the measurement of the particle size distribution described above. The average circularity is a value of circularity measured by using an image analyzer (manufactured by Sysmex Corporation: flow type particle image analyzer: FPIA3000) and using a sheath liquid (PSE-900A, manufactured by Sysmex Corporation) as a solvent (hereinafter referred to as “circular particle image analyzer”). the same). Specifically, it is calculated as a value calculated by (circularity) = {4π × (area) ÷ (peripheral length) 2 }. The closer to 1, the closer to a true sphere. The average value measured for 100 particles is adopted as the average circularity.

特に、0.1μm以上2μm以下の粒径をもつ粒子が全体の体積を基準として5〜15体積%であり、20μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子が全体の体積を基準として50体積%以上であることが望ましい。この粒径及び体積は前述の粒度分布と同時に測定できる値である。   In particular, particles having a particle size of 0.1 μm or more and 2 μm or less are 5 to 15% by volume based on the whole volume, and particles having a particle size of 20 μm or more and 70 μm or less are 50% by volume or more based on the whole volume. It is desirable that The particle size and volume are values that can be measured simultaneously with the particle size distribution described above.

更に、粒度分布が2〜20μmの範囲に極大値を有さないことが望ましい。   Furthermore, it is desirable that the particle size distribution does not have a maximum value in the range of 2 to 20 μm.

(b)2つ目としては、2つ以上ある極大値のうちの1つである第1極大値と第1極大値以外の1つである第2極大値とのそれぞれが15μm以上70μm以下であることが要求される。特に第1極大値としては15μm以上30μm以下であることが望ましい。第2極大値としては30μm以上60μm以下であることが望ましい。 (B) Secondly, each of the first maximum value which is one of two or more maximum values and the second maximum value which is one other than the first maximum value is 15 μm or more and 70 μm or less. It is required to be. In particular, the first maximum value is preferably 15 μm or more and 30 μm or less. The second maximum value is preferably 30 μm or more and 60 μm or less.

そして、全体を基準とした体積平均粒径並びにd50(累積体積が50%になる粒径)が6μm以上50μm未満である。そして、15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度が0.950以上である。体積平均粒径並びにd50としては10μm以上40μm以下であることが望ましい。そして、15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度としては0.970以上であることが望ましい。   The volume average particle diameter and d50 (particle diameter at which the cumulative volume becomes 50%) based on the whole are 6 μm or more and less than 50 μm. And the average circularity of the particle | grains with a particle size of 15 micrometers or more and 70 micrometers or less is 0.950 or more. The volume average particle diameter and d50 are preferably 10 μm or more and 40 μm or less. The average circularity of particles having a particle size of 15 μm or more and 70 μm or less is preferably 0.970 or more.

特に、15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子が全体の体積を基準として60%以上であることが望ましい。この粒径及び体積は前述の粒度分布と同時に測定できる値である。   In particular, it is desirable that particles having a particle diameter of 15 μm or more and 70 μm or less be 60% or more based on the total volume. The particle size and volume are values that can be measured simultaneously with the particle size distribution described above.

上述した(a)及び(b)のいずれであってもBET法により測定した比表面積が1.5〜3.5m2/gであることが望ましい。 In any of (a) and (b) described above, the specific surface area measured by the BET method is preferably 1.5 to 3.5 m 2 / g.

本実施形態の樹脂組成物添加用無機粉末の組成は無機物が主体であること以外は特に限定しない。ここで、「無機物が主体である」とは無機物からなる粒子の表面に有機物からなる被膜が形成されているものを含む趣旨である。例えば、無機物からなる粉末の表面をシランカップリング剤にて処理したものが挙げられる。   The composition of the inorganic powder for adding a resin composition of the present embodiment is not particularly limited except that the inorganic substance is mainly used. Here, “mainly composed of an inorganic substance” is intended to include those in which a film made of an organic substance is formed on the surface of particles made of an inorganic substance. For example, what processed the surface of the powder which consists of inorganic substances with the silane coupling agent is mentioned.

本実施形態の樹脂組成物添加用無機粉末を組成できる無機物としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、また、これらの複合酸化物、窒化アルミニウム、窒化炭素が例示できる。特に結晶化率が2%未満の無機物(特にシリカ)を採用することが望ましい。   Examples of the inorganic material that can be used to form the inorganic powder for adding a resin composition of the present embodiment include silica, alumina, titania, zirconia, and composite oxides thereof, aluminum nitride, and carbon nitride. In particular, it is desirable to employ an inorganic substance (particularly silica) having a crystallization rate of less than 2%.

樹脂組成物添加用無機粉末を得る方法としては特に限定しない。無機物に対応する金属を酸素と反応させて酸化物微粒子とする方法及び対応する無機物を熱により溶融して酸化物微粒子にする方法などのアモルファスシリカ微粒子を製造する方法や、シリカを破砕してシリカ微粒子とする方法が挙げられる。   It does not specifically limit as a method of obtaining the inorganic powder for resin composition addition. A method of producing amorphous silica fine particles, such as a method of reacting a metal corresponding to an inorganic substance with oxygen to form oxide fine particles, a method of melting a corresponding inorganic substance by heat to form oxide fine particles, and a method of producing silica by crushing silica The method of using fine particles is mentioned.

〈樹脂組成物〉
本実施形態の樹脂組成物は前述の本実施形態の樹脂組成物添加用無機粉末とその樹脂組成物添加用無機粉末を分散する分散用樹脂組成物とから構成される。樹脂組成物添加用無機粉末については前述の通りなので記載を省略する。樹脂組成物添加用無機粉末は全体の質量を基準として70質量%以上含有することが望ましい。更に、その他の添加剤として、離型剤(カルナバワックスなど)などを添加することができる。
<Resin composition>
The resin composition of this embodiment is composed of the above-described inorganic powder for adding a resin composition of this embodiment and a dispersing resin composition in which the inorganic powder for adding the resin composition is dispersed. Since the inorganic powder for resin composition addition is as above-mentioned, description is abbreviate | omitted. The inorganic powder for adding a resin composition is desirably contained in an amount of 70% by mass or more based on the total mass. Furthermore, a mold release agent (such as carnauba wax) can be added as another additive.

分散用樹脂組成物は特に限定しないが、熱硬化性樹脂(の前駆体)を採用することが望ましい。例えば、カチオン重合性化合物を採用することができる。カチオン重合性化合物としては、エポキシ樹脂、オキシラン樹脂、オキセタン化合物、環状エーテル化合物、環状ラクトン化合物、チイラン化合物、環状アセタール化合物、環状チオエーテル化合物、スピロオルトエステル化合物、ビニル化合物などが挙げられ、これらの化合物を単独で、又は複数種類混合して用いることができる。   The resin composition for dispersion is not particularly limited, but it is desirable to employ a thermosetting resin (precursor thereof). For example, a cationic polymerizable compound can be employed. Examples of the cationic polymerizable compound include epoxy resins, oxirane resins, oxetane compounds, cyclic ether compounds, cyclic lactone compounds, thiirane compounds, cyclic acetal compounds, cyclic thioether compounds, spiro orthoester compounds, vinyl compounds, and the like. Can be used alone or in combination.

特に、エポキシ樹脂が入手性、取扱性などの観点から好ましい。エポキシ樹脂は特に限定されないが、1分子中に2以上のエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーが挙げられる。例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂が挙げられる。   In particular, an epoxy resin is preferable from the viewpoints of availability, handleability and the like. Although an epoxy resin is not specifically limited, The monomer, oligomer, and polymer which have two or more epoxy groups in 1 molecule are mentioned. For example, biphenyl type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, triphenol methane type epoxy resin, alkyl modified triphenol methane type epoxy resin, dicyclopentadiene modified phenol type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, triazine core containing An epoxy resin is mentioned.

エポキシ樹脂以外の具体例としては、フェニルグリシジルエーテル、エチレンオキシド、エピクロロヒドリンなどのオキシラン化合物;トリメチレンオキサイド、3,3−ジメチルオキセタン、3,3−ジクロロメチルオキセタンなどのオキセタン化合物;テトラヒドロフラン、2,3−ジメチルテトラヒドロフラン、トリオキサン、1,3−ジオキソフラン、1,3,6−トリオキサシクロオクタンなどの環状エーテル化合物;β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトンなどの環状ラクトン化合物;エチレンスルフィド、3,3−ジメチルチイランなどのチイラン化合物;1,3−プロピンスルフィド、3,3−ジメチルチエタンなどのチエタン化合物;テトラヒドロチオフェン誘導体などの環状チオエーテル化合物;エポキシ化合物とラクトンとの反応によって得られるスピロオルトエステル化合物;スピロオルトカルボナート化合物;環状カルボナート化合物;エチレングリコールジビニルエーテル、アルキルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテルなどのビニル化合物;スチレン、ビニルシクロヘキセン、イソブチレン、ポリブタジエンなどのエチレン性不飽和化合物が例示できる。カチオン重合性化合物としては、エポキシ樹脂及びこれらの化合物を単独で、又は複数種類混合して用いることができる。   Specific examples other than the epoxy resin include oxirane compounds such as phenylglycidyl ether, ethylene oxide and epichlorohydrin; oxetane compounds such as trimethylene oxide, 3,3-dimethyloxetane and 3,3-dichloromethyloxetane; tetrahydrofuran, 2 Cyclic ether compounds such as 1,3-dimethyltetrahydrofuran, trioxane, 1,3-dioxofuran, 1,3,6-trioxacyclooctane; cyclic lactone compounds such as β-propiolactone and ε-caprolactone; ethylene sulfide, 3, Thiane compounds such as 3-dimethylthiirane; Thiane compounds such as 1,3-propyne sulfide and 3,3-dimethyl thietane; Cyclic thioether compounds such as tetrahydrothiophene derivatives; Spiro ortho ester compounds obtained by reaction with kuton; spiro ortho carbonate compounds; cyclic carbonate compounds; vinyl compounds such as ethylene glycol divinyl ether, alkyl vinyl ether, triethylene glycol divinyl ether; styrene, vinyl cyclohexene, isobutylene, polybutadiene, etc. An ethylenically unsaturated compound can be illustrated. As a cationically polymerizable compound, an epoxy resin and these compounds can be used alone or in combination.

更に上記カチオン重合性化合物を硬化させるために、硬化剤及び硬化触媒を混合させることができる。硬化剤としては1級アミン、2級アミン、フェノール樹脂、酸無水物を用いることができる。硬化触媒としてはリン系イミダゾール化合物、3級アミンなどが用いられ、その他、ルイス酸も3級アミン、オニウム塩などで錯体にして潜在的加熱触媒として使用することができる。具体的には硬化剤として、ジアミノジフェニルメタン、無水ヘキサヒドロフタル酸、フェノール樹脂(ノボラック)が挙げられる。また、硬化触媒として、2−メチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、1,8−ジアザビシクロウンデセンが挙げられる。   Further, a curing agent and a curing catalyst can be mixed in order to cure the cationic polymerizable compound. As the curing agent, primary amine, secondary amine, phenol resin, and acid anhydride can be used. As the curing catalyst, a phosphorus-based imidazole compound, a tertiary amine, or the like is used. In addition, a Lewis acid can be complexed with a tertiary amine, an onium salt, or the like and used as a latent heating catalyst. Specific examples of the curing agent include diaminodiphenylmethane, hexahydrophthalic anhydride, and phenol resin (novolak). Examples of the curing catalyst include 2-methylimidazole, triphenylphosphine, and 1,8-diazabicycloundecene.

〈試験試料の調製〉
天然ケイ石を粉砕した後、高温火炎中に搬送気体と共に投入するいわゆる溶融法にて非晶質シリカ粉末を得た。火炎投入前の粒度分布、火炎条件、分級操作、配合により表1及び2に示す粒度分布になるように調製し各試験例の試験試料(樹脂組成物添加用無機粉末)とした。いずれのシリカ粉末についても結晶化率は1%未満(非晶質率は99%以上)であり、平均円形度は0.9以上であった。
<Preparation of test sample>
After pulverizing natural silica, amorphous silica powder was obtained by a so-called melting method in which it was introduced into a high-temperature flame together with a carrier gas. It prepared so that it might become the particle size distribution shown in Table 1 and 2 by the particle size distribution before flame injection, flame conditions, classification operation, and mixing | blending, and it was set as the test sample (inorganic powder for resin composition addition) of each test example. All the silica powders had a crystallization rate of less than 1% (amorphous rate of 99% or more) and an average circularity of 0.9 or more.

各試験例の試験試料についてそれぞれ試験を行った。各試験例の試験試料のそれぞれ160質量部に対して、軟化点70℃のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂33質量部、軟化点80℃のフェノールノボラック型エポキシ樹脂17質量部、トリフェニルフォスフィン1質量部、親水性シランカップリング剤(KBM−403、信越化学工業社製)を1質量部、成形型からの離型剤として作用させるカルナバワックス1質量部、流動性向上を目的としてシリカ粉末(アドマファインSO−25R,体積平均粒径0.5μm、アドマテックス製)40質量部、シリカ粉末(アドマファインSO−32R,体積平均粒径1.5μm、アドマテックス製)40質量部を混合した後、ヘンシェルミキサーで予備混合した。得られた混合物を二軸式押出混練機で加熱・混練した。(パドル回転数120rpm、吐出量15kg/h、混練機内温度70℃)。得られた混練物を乳鉢を用いて粉砕し各試験例に対応する樹脂組成物を得た。   Each test sample was tested for each test sample. With respect to 160 parts by mass of each test sample of each test example, 33 parts by mass of a cresol novolac type epoxy resin having a softening point of 70 ° C., 17 parts by mass of a phenol novolac type epoxy resin having a softening point of 80 ° C., and 1 part by mass of triphenylphosphine , 1 part by weight of a hydrophilic silane coupling agent (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 1 part by weight of carnauba wax that acts as a release agent from the mold, silica powder (Admafine) After mixing 40 parts by mass of SO-25R, volume average particle size 0.5 μm, manufactured by Admatechs) and 40 parts by mass of silica powder (Admafine SO-32R, volume average particle diameter 1.5 μm, manufactured by Admatex), Henschel Premixed with a mixer. The resulting mixture was heated and kneaded with a twin-screw extrusion kneader. (Paddle rotation speed 120 rpm, discharge rate 15 kg / h, kneader internal temperature 70 ° C.). The obtained kneaded material was pulverized using a mortar to obtain a resin composition corresponding to each test example.

〈試験〉
各試験例の樹脂組成物を用いて流動性試験と成形性試験とを行った。
<test>
A fluidity test and a moldability test were performed using the resin composition of each test example.

流動性試験はEMMI 1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用い、トランスファー成形機によって、温度、圧力を加えスパイラルフロー測定試験を行った。成形条件は温度175℃、圧力1.96MPa(20kgf/cm2)、成形時間180秒とした。 The fluidity test was performed by using a spiral flow measurement mold in accordance with EMMI 1-66 and applying a temperature and pressure with a transfer molding machine to perform a spiral flow measurement test. The molding conditions were a temperature of 175 ° C., a pressure of 1.96 MPa (20 kgf / cm 2 ), and a molding time of 180 seconds.

成形性試験は所定の成形条件において生成するバリの形成の程度を測定することで行った。ベント深さ5μm、10μm、20μm、30μm、50μmのスリットを有する評価用金型を用いて各試験例の樹脂組成物を成形した。成形性にて問題になるバリが形成される長さに関連する値としてベント深さ5μmに流れた樹脂組成物の長さ測定し成形性の指標とした。   The moldability test was performed by measuring the degree of formation of burrs generated under predetermined molding conditions. The resin composition of each test example was molded using an evaluation die having slits with a vent depth of 5 μm, 10 μm, 20 μm, 30 μm, and 50 μm. The length of the resin composition that flowed to a vent depth of 5 μm was measured as a value related to the length at which burrs that cause problems in moldability were formed, and used as an index of moldability.

Figure 0005281250
Figure 0005281250

Figure 0005281250
Figure 0005281250

表より明らかなように、試験例1〜6の樹脂組成物は流動性がいずれも100cmを超えていると共にバリの長さが1.0mm以下と短く、流動性と成形性とが両立していることが明らかになった。   As is clear from the table, the resin compositions of Test Examples 1 to 6 have both fluidity exceeding 100 cm and the burr length is as short as 1.0 mm or less, and both fluidity and moldability are compatible. It became clear that

試験例7及び8では要求される2つの極大値のうちの1つしかないので流動性が低いものと考えられる。特に試験例7では成形性も充分ではなかった。   In Test Examples 7 and 8, since there is only one of the two maximum values required, it is considered that the fluidity is low. In particular, in Test Example 7, the moldability was not sufficient.

試験例9ではバリ長さが3.5mmで比較的長いバリが生成した。これは比表面積が0.9m2/gであって、他の試験例の試験試料よりも小さいことから、相対的に微細な粉末の含有量が少なくなったことに起因するものと推測できる。すなわち、バリ生成の原因は隙間内での流動性の高さにあるが、微細な粉末の存在は隙間における流動性を抑制する効果があることが分かった。 In Test Example 9, the burr length was 3.5 mm and a relatively long burr was generated. This is because the specific surface area is 0.9 m 2 / g, which is smaller than the test samples of other test examples, and it can be assumed that the content of the relatively fine powder is reduced. That is, it was found that the cause of burr formation is the high fluidity in the gap, but the presence of fine powder has the effect of suppressing the fluidity in the gap.

試験例10〜12では要求される極大値を2つとも有しているものの、平均円形度が0.950未満であることから流動性が100cm未満で充分ではなかった。   Although Test Examples 10 to 12 had both of the required maximum values, since the average circularity was less than 0.950, the fluidity of less than 100 cm was not sufficient.

Claims (8)

体積基準の粒度分布に2以上の極大値をもち、
該極大値のうちの1つである第1極大値が0.1μm以上2μm未満であり、
該第1極大値以外の1つである第2極大値が50.2μm以上70μm以下であり、
全体を基準とした体積平均粒径並びにd50が6μm以上50μm未満であり、
15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度が0.950以上であり、
2〜20μmの範囲に極大値が存在しないことを特徴とする結晶化率が1%未満の非晶質シリカ粉末である樹脂組成物添加用無機粉末。
Has a maximum value of 2 or more in the volume-based particle size distribution,
A first maximum value that is one of the maximum values is 0.1 μm or more and less than 2 μm;
The second maximum value, which is one other than the first maximum value, is 50.2 μm or more and 70 μm or less,
The volume average particle size and d50 based on the whole are 6 μm or more and less than 50 μm,
Ri Der average circularity of 0.950 or more particles having 70μm or less particle size than 15 [mu] m,
An inorganic powder for adding a resin composition, which is an amorphous silica powder having a crystallization rate of less than 1% , wherein no maximum value exists in the range of 2 to 20 μm .
0.1μm以上2μm未満に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子が全体の5〜15体積%であり、
20μm以上70μm以下に形成される粒度分布の極大値を構成する粒子が全体の50体積%以上である請求項1に記載の樹脂組成物添加用無機粉末。
The particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed to be 0.1 μm or more and less than 2 μm are 5 to 15% by volume of the whole,
2. The inorganic powder for resin composition addition according to claim 1, wherein particles constituting the maximum value of the particle size distribution formed to be 20 μm or more and 70 μm or less are 50% by volume or more of the whole.
体積基準の粒度分布に2以上の極大値をもち、
該極大値のうちの2つである第1極大値及び第2極大値が15μm以上70μm以下であり、
全体を基準とした体積平均粒径並びにd50が6μm以上50μm未満であり、
15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度が0.950以上であり、
15μm以上70μm以下に存在する2つの極大値を構成する粒子が全体の体積を基準にして60%以上を占めることを特徴とする結晶化率が1%未満の非晶質シリカ粉末である樹脂組成物添加用無機粉末。
Has a maximum value of 2 or more in the volume-based particle size distribution,
The first maximum value and the second maximum value which are two of the maximum values are 15 μm or more and 70 μm or less,
The volume average particle size and d50 based on the whole are 6 μm or more and less than 50 μm,
Ri Der average circularity of 0.950 or more particles having 70μm or less particle size than 15 [mu] m,
Resin composition which is an amorphous silica powder having a crystallization rate of less than 1%, wherein particles constituting two maximum values existing in 15 μm or more and 70 μm or less occupy 60% or more based on the total volume Inorganic powder for product addition.
体積基準の粒度分布に2つの極大値をもち、
該極大値のうちの2つである第1極大値及び第2極大値が15μm以上70μm以下であり、
全体を基準とした体積平均粒径並びにd50が6μm以上50μm未満であり、
15μm以上70μm以下の粒径をもつ粒子の平均円形度が0.950以上であることを特徴とする結晶化率が1%未満の非晶質シリカ粉末である樹脂組成物添加用無機粉末。
Has two local maxima in the volume-based particle size distribution,
The first maximum value and the second maximum value which are two of the maximum values are 15 μm or more and 70 μm or less,
The volume average particle size and d50 based on the whole are 6 μm or more and less than 50 μm,
An inorganic powder for resin composition addition, which is an amorphous silica powder having a crystallization rate of less than 1%, wherein the average circularity of particles having a particle size of 15 μm or more and 70 μm or less is 0.950 or more.
15μm以上70μm以下に存在する2つの極大値を構成する粒子が全体の体積を基準にして60%以上を占める請求項4に記載の樹脂組成物添加用無機粉末。   The inorganic powder for resin composition addition according to claim 4, wherein particles constituting two maximum values existing in 15 µm or more and 70 µm or less occupy 60% or more based on the total volume. 前記粒度分布がもつ極大値は2つである請求項1〜のいずれかに記載の樹脂組成物添加用無機粉末。 The inorganic powder for resin composition addition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the particle size distribution has two maximum values. BET法により測定した比表面積が1.5〜3.5m2/gである請求項1〜6のいずれかに記載の樹脂組成物添加用無機粉末。 The inorganic powder for adding a resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the specific surface area measured by the BET method is 1.5 to 3.5 m 2 / g. 請求項1〜のいずれかに記載の樹脂組成物添加用無機粉末からなるフィラーと、該フィラーを分散する分散用樹脂組成物とを有することを特徴とする樹脂組成物。 A filler made of claims 1-7 added inorganic powder resin composition according to any one of the resin composition; and a dispersion resin composition for dispersing the fillers.
JP2007088701A 2007-03-29 2007-03-29 Inorganic powder for resin composition addition and resin composition Active JP5281250B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007088701A JP5281250B2 (en) 2007-03-29 2007-03-29 Inorganic powder for resin composition addition and resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007088701A JP5281250B2 (en) 2007-03-29 2007-03-29 Inorganic powder for resin composition addition and resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008248004A JP2008248004A (en) 2008-10-16
JP5281250B2 true JP5281250B2 (en) 2013-09-04

Family

ID=39973344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007088701A Active JP5281250B2 (en) 2007-03-29 2007-03-29 Inorganic powder for resin composition addition and resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5281250B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5544205B2 (en) * 2010-03-30 2014-07-09 株式会社アドマテックス Method for producing spherical silica particles
JP5719824B2 (en) * 2012-11-19 2015-05-20 株式会社アドマテックス Method for producing metal oxide particles and method for producing resin composition for electronic device
JP6772697B2 (en) * 2016-09-14 2020-10-21 富士ゼロックス株式会社 Silica particles and method for producing silica particles

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02261856A (en) * 1989-03-31 1990-10-24 Toshiba Corp Epoxy resin composition for semiconductor sealing and semiconductor device sealed therewith
JPH0366151A (en) * 1989-08-04 1991-03-20 Nitto Denko Corp Semiconductor device
JPH0532867A (en) * 1991-07-30 1993-02-09 Matsushita Electric Works Ltd Epoxy resin composition
JP2874089B2 (en) * 1994-04-13 1999-03-24 信越化学工業株式会社 Resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JP3413962B2 (en) * 1994-06-17 2003-06-09 住友化学工業株式会社 Epoxy resin composition for molding
JP2601255B2 (en) * 1995-12-04 1997-04-16 電気化学工業株式会社 Filler for semiconductor resin sealing
DE19740440A1 (en) * 1997-09-15 1999-03-18 Degussa Easily dispersible precipitated silica
JP3792870B2 (en) * 1997-12-02 2006-07-05 日東電工株式会社 Resin composition for semiconductor encapsulation
JP2001064522A (en) * 1999-08-27 2001-03-13 Toray Ind Inc Semiconductor sealing resin composition
JP3723022B2 (en) * 1999-10-07 2005-12-07 トヨタ自動車株式会社 Method for producing amorphous silica fine particles
JP2001200139A (en) * 1999-11-11 2001-07-24 Shin Etsu Chem Co Ltd Liquid epoxy resin composition for semiconductor sealing
JP3483817B2 (en) * 1999-12-01 2004-01-06 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and its use
JP4155719B2 (en) * 2001-02-27 2008-09-24 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and its use
JP4773626B2 (en) * 2001-03-28 2011-09-14 株式会社トクヤマ Spherical inorganic oxide particles
JP2003003074A (en) * 2001-06-20 2003-01-08 Mitsui Chemicals Inc Silica-containing resin composition and its precision molding
JP3571009B2 (en) * 2001-07-05 2004-09-29 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and resin composition filled with the same
JP5067994B2 (en) * 2001-09-19 2012-11-07 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition and semiconductor device
JP4155729B2 (en) * 2001-10-01 2008-09-24 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and use thereof
JP3868272B2 (en) * 2001-11-15 2007-01-17 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and resin composition filled therewith
JP2003192907A (en) * 2001-12-27 2003-07-09 Nitto Denko Corp Resin composition for sealing semiconductor, semiconductor apparatus using the same, and manufacturing method therefor
JP2003268202A (en) * 2002-03-18 2003-09-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin-molding material for sealing of semiconductor and semiconductor apparatus
JP2003268207A (en) * 2002-03-19 2003-09-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin molding material for sealing of semiconductor and semiconductor device
JP2003292734A (en) * 2002-04-03 2003-10-15 Mitsui Chemicals Inc Epoxy resin composition and optical part produced by using the same
JP2003306594A (en) * 2002-04-17 2003-10-31 Hitachi Ltd Epoxy resin composition and rotating machine using the same
JP3868347B2 (en) * 2002-07-25 2007-01-17 電気化学工業株式会社 Inorganic powder and resin composition filled therewith
JP4112396B2 (en) * 2003-02-13 2008-07-02 電気化学工業株式会社 Resin fillers and applications
JP2005200533A (en) * 2004-01-15 2005-07-28 Kyocera Chemical Corp Epoxy resin composition for sealing semiconductor and resin-sealed semiconductor device
JP4496786B2 (en) * 2004-01-23 2010-07-07 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition and semiconductor device
JP5153050B2 (en) * 2004-02-12 2013-02-27 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2005239892A (en) * 2004-02-26 2005-09-08 Nitto Denko Corp Resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
JP4525139B2 (en) * 2004-03-31 2010-08-18 住友ベークライト株式会社 The manufacturing method of the epoxy resin composition for semiconductor sealing.
JP2005306923A (en) * 2004-04-19 2005-11-04 Denki Kagaku Kogyo Kk Inorganic powder and composition containing the same
JP2006100258A (en) * 2004-09-03 2006-04-13 Tosoh Corp Dielectric resin composition and molding
JP2007039304A (en) * 2005-07-08 2007-02-15 Kao Corp Filler
JP4927363B2 (en) * 2005-08-16 2012-05-09 株式会社アドマテックス Composition containing fine particles

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008248004A (en) 2008-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100497456B1 (en) Epoxy Resin Composition
KR100251853B1 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device encapsulated therewith
WO2016145651A1 (en) Epoxy molding compound, preparation and use thereof
JP5281250B2 (en) Inorganic powder for resin composition addition and resin composition
JP5112157B2 (en) Silica fine particles and silica fine particle-containing resin composition
US9670377B2 (en) Underfill composition for encapsulating a bond line
JP5236198B2 (en) Inorganic powder for resin composition addition and resin composition
JP2003110065A (en) Spherical inorganic powder and use thereof
JP2005239892A (en) Resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
KR20110038624A (en) Amorphous siliceous powder, process for production thereof, resin composition, and semiconductor encapsulation material
JP2010275334A (en) Process for producing surface treated silica particle, surface treated silica particle, epoxy resin composition and semiconductor device
JP2023067951A (en) Sealing composition and semiconductor device
JP2006176678A (en) Epoxy resin composition and electronic part
JP5335184B2 (en) Active silica fine particles, method for producing the same, and resin composition
TWI782155B (en) Epoxy resin composition for encapsulation of semiconductor device and semiconductor device encapsulated using the same
JP2021174939A (en) Resin composition for underfill and production method thereof, method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor device
JP4866056B2 (en) Epoxy resin composition
JP6249332B2 (en) Semiconductor sealing resin composition and semiconductor device
JP2014031460A (en) Epoxy resin composition for encapsulation and semiconductor device using the same
JP2009227504A (en) Spherical low-melting point glass composition powder, manufacturing method, and low-melting point glass composition
JP7255497B2 (en) Encapsulating composition and semiconductor device
TWI835960B (en) Sealing composition and semiconductor device
JP2022037873A (en) Amorphous silica powder and resin composition
JP2003268202A (en) Epoxy resin-molding material for sealing of semiconductor and semiconductor apparatus
JP2008007561A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100108

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121213

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130212

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130521

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130524

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5281250

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250