JP3723022B2 - Method for producing amorphous silica fine particles - Google Patents

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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/10Forming beads
    • C03B19/1005Forming solid beads
    • C03B19/102Forming solid beads by blowing a gas onto a stream of molten glass or onto particulate materials, e.g. pulverising
    • C03B19/1025Bead furnaces or burners

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真球度の高い非晶質シリカ微粒子の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、一般的な金属酸化物超微粒子の製造方法として、特公平1−55201号公報に、酸素を含む雰囲気内においてバーナにより化学炎を形成し、この化学炎の中に目的の金属酸化物を構成する金属粉末を粉塵雲を形成しうる量投入して燃焼させて、粒子径が5〜100nm程度である金属酸化物超微粒子を合成する製造方法の開示がある。
【0003】
また、特許第2600181号公報に、金属酸化物を構成する金属粉末と、その金属酸化物粉末とをキャリアガスとともに反応容器内に供給した後に金属粉末を燃焼させて、その原料の金属酸化物粉末を核として金属酸化物粉末を粒成長させて合成する金属酸化物の製造方法が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記特公平1−55201号公報に記載された製造方法では、原料の金属シリコンが高価なので、コスト面で実施が困難であって、製造される非晶質シリカ微粒子の粒子径も広範囲にコントロールできなかった。
【0005】
そして、特許第2600181号公報には、具体的にアルミナ粒子の製造方法が記載されるのみであり、記載された製造方法では、原料のアルミナ粉末より大粒子径のアルミナ粉末を得ることはできるが、原料より粒子径の小さいアルミナ粉末の製造については記載がなかった。そして、製造されたアルミナの真球度については、著しく高いものではなかった。したがって、本公報に記載された製造方法では、性質に特徴を有する非晶質シリカ微粒子が製造できることは明らかではなかった。
【0006】
真球度の高い非晶質シリカ微粒子は、半導体のパッケージを覆う封止剤の充填剤としての用途等のような種々の有用な用途がある。その場合に非晶質シリカ微粒子は、真球度が高いことが好ましい性質である。真球度の高い非晶質シリカ微粒子を容易に製造する方法は従来には存在しなかった。また、非晶質シリカ微粒子は、用途により種々の粒子径のものが要求され、簡便な製造方法で種々の粒子径のものが得られることが望ましい。
【0007】
すなわち、本発明では、製造コストが低く、真球度の高い非晶質シリカ微粒子の製造方法を提供することを解決すべき課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する目的で本発明者らは、鋭意研究を行った結果、以下の非晶質シリカ微粒子の製造方法を発明した。
【0009】
すなわち、本発明の非晶質シリカ微粒子の製造方法は、シリコン粉末とシリカ粉末とをキャリアガスとともに反応室内に供給する原料供給工程と、供給された前記シリコン粉末を前記反応室内で燃焼させて熱を発生して、生成するシリカおよび前記シリカ粉末を加熱して溶解乃至気化させる燃焼加熱工程と、前記溶解乃至気化させたシリカを冷却し非晶質シリカ微粒子を形成する冷却工程とからなり、
前記シリカ粉末は、該シリカ粉末の該シリカ粉末と前記シリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が50重量%以下であって、
該シリカ粉末の該シリカ粉末と該シリコン粉末とを合わせた重量に対する該重量比と、平均体積径とが、前記燃焼加熱工程において、前記生成するシリカおよび該シリカ粉末が溶融乃至気化する値の組み合わせであることを特徴とする。
【0010】
つまり、シリカを加熱溶融させることによってその表面張力により真球となって、そのまま冷却されることによって真球度の高い非晶質シリカ微粒子が形成される。そして、シリカは、一度、気化させることによって、冷却・凝集される際に真球度の高い非晶質シリカ微粒子となる。
【0011】
また、シリカを溶融乃至気化させるために原料の金属シリコンが酸化される際に発生する熱を用いるのでシリカを長時間加熱することができ、製造される非晶質シリカ微粒子の粒子径を大きくすることも可能である。そして、シリコンの量を調整することによって発熱量を増大させてシリカを気化し、微粒子とすることもできる。
【0012】
したがって、最初に投入するシリカの粒子径、シリコンとシリカとの比をコントロールすることによって、最終的に製造される非晶質シリカ微粒子の粒子径を変化させることができる。
【0013】
したがって、本発明の非晶質シリカ微粒子の製造方法によれば、高価なシリコンを不必要に大量使用することなく、必要な粒子径分布を有し真球度の高い非晶質シリカ微粒子を製造することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の非晶質シリカ微粒子の製造方法の実施形態について、詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示される実施形態によって限定されるものではない。
【0015】
本実施形態の非晶質シリカ微粒子の製造方法は、原料供給工程と、燃焼加熱工程と、冷却工程とを有する。
【0016】
本実施形態の非晶質シリカ微粒子の製造方法は、たとえば、原料供給部と反応室と非晶質シリカ微粒子捕集部とを有する製造装置を用いて行われる。原料供給部は原料を貯蔵し、原料を反応室内に供給する手段であり、反応室は内部で原料を燃焼させる手段であって、非晶質シリカ微粒子捕集部は製造した非晶質シリカ微粒子を捕集する手段である。
【0017】
原料供給工程は、シリコン粉末とシリカ粉末とをキャリアガスとともに反応室内に供給する工程である。
【0018】
シリコン粉末とシリカ粉末とはあらかじめ混合しておいて同一の場所に貯蔵しても良いし、別々に貯蔵して反応室に供給される前もしくは供給された後に混合されるものであっても良い。同一の場所に貯蔵する場合は、キャリアガスは一種類でよいが、別々に貯蔵される場合は、2種類のキャリアガスを用いるものであってもよい。
【0019】
シリコン粉末は、製造される非晶質シリカ微粒子に求められる純度に応じた純度のシリコン粉末を用いる。具体的には、非晶質シリカ微粒子に必要な純度に応じて、シリコン元素および酸素元素以外の元素の許容含量が規定される。高純度の非晶質シリカ微粒子を製造する場合には、必要な純度を確保できるようにシリコン粉末の純度を規定する。
【0020】
そして、シリコン粉末の粒子径は、特に限定するものではないがシリカ粒子と混合しやすい程度の粒子径であることが好ましい。また、燃焼しやすくする目的で粒子径はある程度細かい方がよい。ただし、あまりに粒子径を小さくすると流動性が悪くなり、反応室内に供給し難くなるという不都合がある。具体的には、5〜30μm程度であることがより好ましい。シリコン粉末の粒子の形は、特に球状である必要はなく限定するものではない。
【0021】
シリカ粉末は、結晶質、非晶質等の結晶形態は問わない。また、本発明の非晶質シリカ微粒子の製造方法により製造した非晶質シリカ微粒子を再び原料として用いることも可能である。そして、シリカ粉末についても、製造される非晶質シリカ微粒子に求められる純度に応じた純度のシリカ粉末を用いる。具体的には、シリコン粉末と同様に、製造される非晶質シリカ微粒子に求められる純度に応じて、シリカ粉末に含有するシリコン元素および酸素元素以外の元素の許容量を決定する。
【0022】
シリカ粉末の粒子の形は、シリコン粉末と同じく特に球状である必要はなく、限定されるものではない。そして、シリカ粉末の粒子径は、シリカ粉末の粒子径のみで単独に決定されるものではなく、混合されるシリコン粉末とシリカ粉末との混合比にも影響される。
【0023】
すなわち、シリカ粉末の粒子径は、そのシリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比に応じて、後述の燃焼加熱工程でシリカ粉末と生成するシリカとが、溶融乃至気化する粒子径であることが必要である。また逆にシリカ粉末の粒子径が決定されると、そのシリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比は、後述の燃焼加熱工程でシリカ粉末と生成するシリカとが、溶融乃至気化する重量比であることが必要である。シリカが溶融乃至気化しないと最終的に真球度の高い非晶質シリカ微粒子を製造できないからである。
【0024】
そして、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比と、平均体積径との値の組み合わせが、最終的に形成される非晶質シリカ微粒子の平均体積径が20μm以下となるように、値の組み合わせを決定することが好ましい。平均体積径が20μm以下の非晶質シリカ微粒子は、より有用性が高いからである。
【0025】
また、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比と、平均体積径とが、後述の燃焼加熱工程で生成するシリカおよびシリカ粉末が気化する値の組み合わせであることが好ましい。高価なシリコンを大量に使用しなくてもシリカを気化させることによって供給するシリカ粉末と比較して粒子径の小さい非晶質シリカ微粒子を製造できるからである。さらには、同じ理由により、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比と、平均体積径とが、最終的に形成された非晶質シリカ微粒子の平均体積径が2μm以下となる値の組み合わせであることがより好ましい。
【0026】
そして、シリカ粉末の平均体積径は、20μm以下が好ましく、さらには10μm以下であることがより好ましい。この場合に、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比は、50%未満が好ましく、さらには30%未満がより好ましい。
【0027】
そしてさらに好ましいシリカ粉末の粒子径と、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比との組み合わせは、製造する非晶質シリカ微粒子の平均体積径が2μm以下である場合は、シリカ粉末の平均体積径が10μmと、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が30%未満との組み合わせと、シリカ粉末の平均体積径が5μmと、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が50%未満との組み合わせである。このなかでもシリカ粉末の平均体積径が5μmと、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が50%未満との組み合わせがより好ましい。高価なシリコン粉末の使用量がより少ないのでコスト低下を図ることができるからである。
【0028】
そして、製造する非晶質シリカ微粒子の平均体積径が2μm以上である場合は、シリカ粉末の平均体積径が10μmと、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が30%以上70%以下との組み合わせと、シリカ粉末の平均体積径が5μmと、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が50%以上80%以下との組み合わせである。このなかでもシリカ粉末の平均体積径が5μmと、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が50%以上80%以下との組み合わせがより好ましい。先述の理由と同様に、高価なシリコン粉末の使用量がより少ないのでコスト低下を図ることができるからである。
【0029】
また、その他に好ましいシリカ粉末の粒子径と、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比との組み合わせは、シリカ粉末の平均体積粒子径が製造する非晶質シリカ微粒子の平均体積径の2分の1であって、シリカ粉末のシリカ粉末とシリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比は、後述の燃焼加熱工程で生成するシリカおよびシリカ粉末が気化しない値である組み合わせである。なお、シリカが気化する場合には、形成される非晶質シリカ微粒子の粒子径は、原料のシリカ粉末の粒子径に関わらず、ほぼ同じような粒子径となる。これにより、製造する非晶質シリカ微粒子の粒子径が制御可能となる。
【0030】
シリコン粉末を酸化させるのに充分な量の酸素を反応室内に供給する必要がある。そうでないと酸化されないシリコンが残留するからである。反応室内に酸素を供給する方法としては、独立して直接反応室内に酸素を供給する方法とキャリアガスに混合させる方法と前記の両方法を併用する方法があるが、キャリアガスに混合させる方法が簡便であり好ましい。
【0031】
キャリアガスは、シリコン粉末およびシリカ粉末を流動化させて反応室内に供給する目的で使用するガスである。前述のように、キャリアガスは、全体として少なくとも原料として供給するシリコン粉末をすべて酸化できる量の酸素が含まれていることが好ましい。
【0032】
そして、キャリアガスには、酸素に加えてシリコン粉末とシリカ粉末とに対する反応性の低い気体であればキャリアガスに混合して用いることもできる。たとえば、キャリアガスに窒素等を混合することが可能である。したがって、キャリアガスは、酸素ガスのみで使用することもでき、また、空気等の安価なガスをそのまま、もしくは、さらに酸素を加えて用いることも可能である。
【0033】
キャリアガス全体の量は、供給されるシリコン粉末、シリカ粉末もしくはシリコン粉末とシリカ粉末との混合物をそれぞれ流動化して反応室内に供給できるだけの量を供給することが最低限必要であるが、あまりにキャリアガスを供給する量が大量であると、シリコン粉末が燃焼して発生する熱が遮断されてシリカ粉末に供給され難くなると同時に、反応室内でシリコン粉末の燃焼が持続できないので適度な量にする必要がある。
【0034】
燃焼加熱工程は、反応室内において、何らかの着火源によってシリコン粉末に着火させて、シリコン粉末を燃焼して、その発生する熱によって、シリコン粉末の燃焼により生成するシリカとシリカ粉末とを加熱して、生成するシリカとシリカ粉末とを溶融乃至気化させる工程である。
【0035】
着火源は、シリコン粉末に着火することができる手段であれば特に限定しないが、着火源として燃焼加熱工程に用いることができるものとしては、たとえば、放電によるもの、反応室内にLPG等を用いた化学炎を形成するもの、プラズマ放電、アークによるもの等が挙げられる。
【0036】
燃焼加熱工程を進行させる反応室内の内壁は、シリカやその他の溶融乃至気化シリカと接触しても形成される非晶質シリカ微粒子に影響のない物質やその他の不活性な物質でコーティング等して製造される非晶質シリカ微粒子に不純物が混入しないようにすることが好ましい。
【0037】
冷却工程は、溶融乃至気化したシリカを冷却して非晶質シリカ微粒子を形成させる工程である。冷却工程も燃焼加熱工程と同じ反応室内で行うことができる。溶融乃至気化したシリカは、シリコンに着火させた場所から離れるにしたがって周囲に熱を放出して冷却され溶融している場合には冷却固化し、気化している場合には冷却するにつれて凝集して固化する。
【0038】
したがって、シリカが溶融している場合には、形成される非晶質シリカ微粒子の粒子径は、原料のシリカ粉末より大きくなることが多い。そして、シリカが気化する場合には、前述のように、一度、シリカが気化しているので形成される非晶質シリカ微粒子の粒子径は原料のシリカ粉末の粒子径に関わらず、ほぼ一定の大きさとなる。
【0039】
このように形成された非晶質シリカ微粒子は、必要に応じて分級器等で分級等を行った後に、捕集器等によって捕集される。
【0040】
【実施例】
〈非晶質シリカ微粒子の製造方法〉
図1に本発明の製造方法に係る製造装置を示す。この製造装置は、内壁を耐熱レンガ10aで囲まれた反応室を、そして、側壁に排出通路11aを有する反応容器10と、反応容器10の上壁には、火炎8を形成するバーナ9とから主として構成されている。
【0041】
バーナ9には、シリコン粉末およびシリカ物粉末とを供給する粉末供給装置1と、酸素供給管40および種火用のLPGを供給するLPG供給管5が配設された導管4が連接している。
【0042】
排出通路11aには、粉末捕集装置11が設けられ、粉末捕集装置11にはブロア12により排気ガスが吸入される。
【0043】
上記のように構成された反応装置により以下のような反応を行ない酸化物を得た。
【0044】
まず酸素供給管40およびLPG供給管5のバルブ50を開き、バーナ9に着火して反応容器10内を充分に乾燥させ、脱酸素を行なった。キャリアガスの流量3/時間、LPG0.4m3/時間の流速で反応室内に供給した。ついで粉末供給装置1よりシリコン粉末とシリカ粉末とを供給して燃焼させた。粉末供給装置1には、以下に示す実施例1及び2のそれぞれの粒子径とそれぞれの結晶性シリカ粉末およびシリコン粉末の混合比とで混合し、その混合物を粉末供給装置に入れた。
【0045】
ブロア12を作動させてシリカ粉末を含む燃焼排ガスを吸引し、捕集装着11によりシリカ粉末を捕集した。
【0046】
また上記の製造装置では粒子径分布が広い場合には、図2に示すように2段構造の捕集装置とし、1段目で所望の粒子径以上の酸化物のみを捕集するフィルタを設け通過した小粒子径のものは2段目で捕集し、必要に応じて1段目または2段目で捕集した大粒子径もしくは小粒子径の非晶質シリカ微粒子を別途設けたホッパーにて搬送し反応容器内へ再供給すると粒径の揃った非晶質シリカ微粒子が得られた。
【0047】
したがって工数増加や装置を変更することなく連続して粒子径のそろった非晶質シリカ微粒子を得ることができる。なお、図2に示した製造装置は、小粒子径の非晶質シリカ微粒子を再利用する形態となっているので、大粒子径の非晶質シリカ微粒子を再利用する必要がある場合は、非晶質シリカ微粒子を粉末供給装置に輸送する管を1段目のフィルタの前に設ける必要がある。
【0048】
(シリコン粉末およびシリカ粉末の粒子径と混合比)
(実施例1)
体積平均径20μmのシリコン粉末と体積平均径5μmの結晶性シリカとを結晶性シリカがシリコン粉末と結晶性シリカ粉末とを合わせた全体量に対して5、10、30、40、50重量%となるようにそれぞれ混合した。
【0049】
(実施例2)
体積平均径20μmのシリコンと体積平均径10μmの結晶性シリカとを結晶性シリカがシリコン粉末と結晶性シリカ粉末とを合わせた全体量に対して5、10、30、40重量%となるようにそれぞれ混合した。
【0050】
(結果)
実施例1
結晶性シリカを混合する量が40重量%以下である場合には、生成した非晶質シリカ微粒子の粒子径分布は、0.1〜2μm程度、体積平均径は1μm程度となった。結晶性シリカを混合する量が50重量%である場合には、生成した非晶質シリカ微粒子の体積平均径は、8μm程度であった。そして、生成した非晶質シリカ微粒子は、いずれも真球度(本明細書では、電子顕微鏡による非晶質シリカ微粒子の縦横の比を真球度という。)が0.98〜1.02の値であった。
【0051】
実施例2
結晶性シリカを混合する量が全体の10重量%以下である場合には、生成した非晶質シリカ微粒子の粒子径分布は、0.1〜2μm程度となり、体積平均径は1μm程度となった。結晶性シリカを混合する量が30、40重量%である場合には、生成した非晶質シリカ微粒子の粒子径分布は、10〜20μm程度となり、体積平均径は、12μmであった。そして、生成した非晶質シリカ微粒子は、いずれも真球度が0.98〜1.02の値であった。
【0052】
【発明の効果】
すなわち、本発明は、製造コストが低く、真球度の高い非晶質シリカ微粒子の製造方法を提供できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に係る製造装置の模式断面図である。
【図2】実施例の変形例であり小(大)粒子径の非晶質シリカ微粒子を再利用する製造装置の模式断面図である。
【符号の説明】
1、1’…粉末供給装置 4…導管 5…LPG供給管 40…酸素供給管 8…火炎 9…バーナ 10…反応容器 11、11’…粉末捕集容器 12…ブロア
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing amorphous silica fine particles having a high sphericity.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a general method for producing metal oxide ultrafine particles, JP-B-1-55201 discloses that a chemical flame is formed by a burner in an atmosphere containing oxygen, and the target metal oxide is contained in the chemical flame. There is a disclosure of a production method for synthesizing ultrafine metal oxide particles having a particle diameter of about 5 to 100 nm by introducing a combustible metal powder in an amount capable of forming a dust cloud and burning it.
[0003]
Japanese Patent No. 2600181 discloses that a metal powder constituting a metal oxide and the metal oxide powder are supplied into a reaction vessel together with a carrier gas, and then the metal powder is burned to obtain a metal oxide powder as a raw material. There is disclosed a method for producing a metal oxide in which a metal oxide powder is grown by using a core as a core.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
In the manufacturing method described in the above Japanese Patent Publication No. 1-55201, since the raw material metal silicon is expensive, it is difficult to implement in terms of cost, and the particle diameter of the manufactured amorphous silica fine particles can be controlled in a wide range. There wasn't.
[0005]
Japanese Patent No. 2600181 only specifically describes a method for producing alumina particles, and with the described production method, it is possible to obtain alumina powder having a larger particle diameter than the raw material alumina powder. The manufacture of alumina powder having a particle size smaller than that of the raw material was not described. The sphericity of the produced alumina was not extremely high. Therefore, it was not clear that the production method described in this publication can produce amorphous silica fine particles having characteristics in properties.
[0006]
Amorphous silica fine particles having a high sphericity have various useful uses such as a use as a filler of a sealing agent covering a semiconductor package. In that case, the amorphous silica fine particles preferably have a high sphericity. There has been no method for easily producing amorphous silica fine particles having a high sphericity. Further, the amorphous silica fine particles are required to have various particle sizes depending on applications, and it is desirable that amorphous silica fine particles be obtained with various particle sizes by a simple manufacturing method.
[0007]
That is, in the present invention, it is an object to be solved to provide a method for producing amorphous silica fine particles with low production cost and high sphericity.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied and, as a result, invented the following method for producing amorphous silica fine particles.
[0009]
That is, the method for producing amorphous silica fine particles of the present invention includes a raw material supply step of supplying silicon powder and silica powder together with a carrier gas into a reaction chamber, and heating the supplied silicon powder by burning the supplied silicon powder in the reaction chamber. the generated, the combustion heating step of dissolving or vaporization produced silica and by heating the silica powder, Ri Do and a cooling step of forming the amorphous silica particles cooling the dissolved or vaporized silica,
The silica powder has a weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder of 50% by weight or less,
The weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder, and the average volume diameter are combinations of values at which the generated silica and the silica powder are melted or vaporized in the combustion heating step. and wherein the der Rukoto.
[0010]
That is, when silica is heated and melted, it becomes a true sphere due to its surface tension, and is cooled as it is, thereby forming amorphous silica fine particles having a high sphericity. The silica is vaporized once to become amorphous silica fine particles with high sphericity when cooled and aggregated.
[0011]
In addition, since the heat generated when the metal silicon raw material is oxidized to melt or vaporize the silica, the silica can be heated for a long time, and the particle diameter of the produced amorphous silica fine particles is increased. It is also possible. Then, by adjusting the amount of silicon, the amount of heat generated can be increased to vaporize the silica to form fine particles.
[0012]
Therefore, the particle diameter of the finally produced amorphous silica fine particles can be changed by controlling the particle diameter of the silica initially introduced and the ratio of silicon and silica.
[0013]
Therefore, according to the method for producing amorphous silica fine particles of the present invention, amorphous silica fine particles having a required particle size distribution and high sphericity can be produced without using an unnecessarily large amount of expensive silicon. can do.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the method for producing amorphous silica fine particles of the present invention will be described in detail. In addition, this invention is not limited by embodiment shown below.
[0015]
The method for producing amorphous silica fine particles of the present embodiment includes a raw material supply process, a combustion heating process, and a cooling process.
[0016]
The method for producing amorphous silica fine particles according to this embodiment is performed using, for example, a production apparatus having a raw material supply unit, a reaction chamber, and an amorphous silica fine particle collecting unit. The raw material supply unit is a means for storing the raw material and supplying the raw material into the reaction chamber, the reaction chamber is a means for burning the raw material inside, and the amorphous silica fine particle collection unit is the produced amorphous silica fine particle It is means to collect.
[0017]
The raw material supply step is a step of supplying silicon powder and silica powder together with a carrier gas into the reaction chamber.
[0018]
Silicon powder and silica powder may be mixed in advance and stored in the same place, or may be stored separately and mixed before being supplied to the reaction chamber or after being supplied. . When storing in the same place, one type of carrier gas may be used, but when storing separately, two types of carrier gases may be used.
[0019]
As the silicon powder, silicon powder having a purity corresponding to the purity required for the produced amorphous silica fine particles is used. Specifically, the allowable content of elements other than silicon element and oxygen element is defined according to the purity required for the amorphous silica fine particles. When producing high-purity amorphous silica fine particles, the purity of the silicon powder is specified so that the required purity can be ensured.
[0020]
The particle size of the silicon powder is not particularly limited, but is preferably a particle size that can be easily mixed with silica particles. Further, the particle diameter should be small to some extent for the purpose of facilitating combustion. However, if the particle size is too small, the fluidity is deteriorated and it is difficult to supply the reaction chamber. Specifically, it is more preferably about 5 to 30 μm. The shape of the silicon powder particles is not particularly limited and is not limited.
[0021]
The silica powder may be in any crystalline form such as crystalline or amorphous. Further, the amorphous silica fine particles produced by the method for producing amorphous silica fine particles of the present invention can be used again as a raw material. And also about silica powder, the silica powder of the purity according to the purity calculated | required by the amorphous silica fine particle manufactured is used. Specifically, similarly to the silicon powder, the allowable amount of elements other than the silicon element and the oxygen element contained in the silica powder is determined according to the purity required for the produced amorphous silica fine particles.
[0022]
The shape of the silica powder particles is not particularly limited, as is the case with the silicon powder, and is not limited. The particle size of the silica powder is not determined solely by the particle size of the silica powder, but is also influenced by the mixing ratio of the silicon powder and the silica powder to be mixed.
[0023]
That is, the particle diameter of the silica powder is such that the silica powder and the silica produced in the combustion heating process described later melt or vaporize according to the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder. It must be a diameter. Conversely, when the particle size of the silica powder is determined, the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is such that the silica powder and the silica produced in the combustion heating process described later are melted or melted. It is necessary for the weight ratio to evaporate. This is because, unless silica is melted or vaporized, amorphous silica fine particles having a high sphericity cannot be produced.
[0024]
The combination of the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder and the average volume diameter results in an average volume diameter of the amorphous silica fine particles finally formed of 20 μm or less. Thus, it is preferable to determine a combination of values. This is because amorphous silica fine particles having an average volume diameter of 20 μm or less are more useful.
[0025]
Further, it is preferable that the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder and the average volume diameter are a combination of values generated by vaporization of silica and silica powder generated in the combustion heating process described later. This is because it is possible to produce amorphous silica fine particles having a small particle diameter as compared with silica powder supplied by vaporizing silica without using a large amount of expensive silicon. Further, for the same reason, the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder and the average volume diameter are such that the average volume diameter of the finally formed amorphous silica fine particles is 2 μm or less. It is more preferable that the value is a combination.
[0026]
And the average volume diameter of a silica powder has preferable 20 micrometers or less, and it is more preferable that it is 10 micrometers or less. In this case, the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is preferably less than 50%, and more preferably less than 30%.
[0027]
And the combination of the particle diameter of the more preferable silica powder and the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is, when the average volume diameter of the amorphous silica fine particles to be produced is 2 μm or less, A combination of an average volume diameter of silica powder of 10 μm, a weight ratio of silica powder to the combined weight of silica powder and silicon powder of less than 30%, an average volume diameter of silica powder of 5 μm, silica powder of silica powder And a weight ratio with respect to the total weight of the silicon powder is a combination of less than 50%. Among these, a combination of the silica powder having an average volume diameter of 5 μm and a weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder of less than 50% is more preferable. This is because the amount of expensive silicon powder used is smaller, so that the cost can be reduced.
[0028]
When the average volume diameter of the amorphous silica fine particles to be produced is 2 μm or more, the average volume diameter of the silica powder is 10 μm, and the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is 30%. The combination of 70% or less and the average volume diameter of the silica powder is 5 μm, and the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is 50% or more and 80% or less. Among these, a combination of an average volume diameter of the silica powder of 5 μm and a weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder of 50% to 80% is more preferable. This is because, for the same reason as described above, since the amount of expensive silicon powder used is smaller, the cost can be reduced.
[0029]
In addition, the combination of the particle diameter of the other preferable silica powder and the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is an average of the amorphous silica fine particles produced by the average volume particle diameter of the silica powder. The weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is a value that is a value that does not vaporize the silica and silica powder produced in the combustion heating process described later. . When silica is vaporized, the amorphous silica fine particles to be formed have substantially the same particle size regardless of the particle size of the raw silica powder. Thereby, the particle diameter of the amorphous silica fine particles to be produced can be controlled.
[0030]
It is necessary to supply a sufficient amount of oxygen into the reaction chamber to oxidize the silicon powder. Otherwise, unoxidized silicon remains. As a method of supplying oxygen into the reaction chamber, there are a method of independently supplying oxygen directly into the reaction chamber, a method of mixing with the carrier gas, and a method of using both of the above methods together. Simple and preferable.
[0031]
The carrier gas is a gas used for the purpose of fluidizing and supplying silicon powder and silica powder into the reaction chamber. As described above, it is preferable that the carrier gas contains oxygen in an amount sufficient to oxidize all silicon powder supplied as a raw material as a whole.
[0032]
As the carrier gas, any gas having low reactivity with respect to silicon powder and silica powder in addition to oxygen can be mixed with the carrier gas. For example, it is possible to mix nitrogen etc. with carrier gas. Therefore, the carrier gas can be used only with oxygen gas, or an inexpensive gas such as air can be used as it is or with further oxygen added.
[0033]
The total amount of the carrier gas is at least necessary to fluidize the supplied silicon powder, silica powder, or a mixture of silicon powder and silica powder and supply it into the reaction chamber, but it is too If the amount of gas supplied is large, the heat generated by the combustion of the silicon powder is cut off, making it difficult to supply it to the silica powder. At the same time, the combustion of the silicon powder cannot be sustained in the reaction chamber, so an appropriate amount is necessary. There is.
[0034]
In the combustion heating process, silicon powder is ignited by an ignition source in the reaction chamber, the silicon powder is combusted, and the generated heat heats silica and silica powder generated by the combustion of the silicon powder. This is a step of melting or vaporizing generated silica and silica powder.
[0035]
The ignition source is not particularly limited as long as it is a means capable of igniting silicon powder. Examples of the ignition source that can be used in the combustion heating process include those caused by discharge, LPG in the reaction chamber, and the like. Examples include those that form the chemical flame used, plasma discharges, and arcs.
[0036]
The inner wall of the reaction chamber in which the combustion heating process proceeds is coated with a substance that does not affect the amorphous silica fine particles formed even when it comes into contact with silica or other fused or vaporized silica, or other inert substances. It is preferable to prevent impurities from being mixed into the produced amorphous silica fine particles.
[0037]
The cooling step is a step of cooling the fused or vaporized silica to form amorphous silica fine particles. The cooling step can also be performed in the same reaction chamber as the combustion heating step. The fused or vaporized silica is cooled and solidified when it is cooled and melted as it moves away from the place where the silicon was ignited, and when it is vaporized, it agglomerates as it cools. Solidify.
[0038]
Therefore, when the silica is melted, the particle diameter of the formed amorphous silica fine particles is often larger than the raw silica powder. When silica is vaporized, as described above, since silica is once vaporized, the particle diameter of the amorphous silica fine particles formed is almost constant regardless of the particle diameter of the raw silica powder. It becomes size.
[0039]
The amorphous silica fine particles thus formed are collected by a collector or the like after being classified by a classifier or the like as necessary.
[0040]
【Example】
<Method for producing amorphous silica fine particles>
FIG. 1 shows a manufacturing apparatus according to the manufacturing method of the present invention. This manufacturing apparatus includes a reaction chamber having an inner wall surrounded by a heat-resistant brick 10a, a reaction vessel 10 having a discharge passage 11a on the side wall, and a burner 9 forming a flame 8 on the upper wall of the reaction vessel 10. It is mainly composed.
[0041]
The burner 9 is connected to a powder supply device 1 for supplying silicon powder and silica powder, and a conduit 4 in which an oxygen supply pipe 40 and an LPG supply pipe 5 for supplying LPG for seed fire are arranged. .
[0042]
A powder collecting device 11 is provided in the discharge passage 11 a, and exhaust gas is sucked into the powder collecting device 11 by a blower 12.
[0043]
The following reaction was performed with the reactor configured as described above to obtain an oxide.
[0044]
First, the valves 50 of the oxygen supply pipe 40 and the LPG supply pipe 5 were opened, the burner 9 was ignited, the inside of the reaction vessel 10 was sufficiently dried, and deoxygenation was performed. Flow rate 8 m 3 / time of the carrier gas, was fed to the reaction chamber at a flow rate of LPG0.4m 3 / time. Next, silicon powder and silica powder were supplied from the powder supply device 1 and burned. The powder supply apparatus 1 was mixed with the particle diameters of Examples 1 and 2 shown below and the mixing ratio of the respective crystalline silica powder and silicon powder, and the mixture was put into the powder supply apparatus.
[0045]
The blower 12 was operated to suck the combustion exhaust gas containing silica powder, and the silica powder was collected by the collection attachment 11.
[0046]
When the particle size distribution is wide in the above manufacturing apparatus, a two-stage collection device as shown in FIG. 2 is provided and a filter for collecting only oxides having a desired particle size or more is provided in the first stage. Small particles that have passed through are collected in the second stage, and if necessary, a hopper provided separately with large or small amorphous silica particles collected in the first or second stage. When transported and re-supplied into the reaction vessel, amorphous silica fine particles having a uniform particle size were obtained.
[0047]
Therefore, it is possible to obtain amorphous silica fine particles having a uniform particle diameter without increasing the number of steps and changing the apparatus. In addition, since the manufacturing apparatus shown in FIG. 2 is configured to reuse the amorphous silica fine particles having a small particle diameter, when it is necessary to reuse the amorphous silica fine particles having a large particle diameter, It is necessary to provide a tube for transporting the amorphous silica fine particles to the powder supply device before the first-stage filter.
[0048]
(Particle size and mixing ratio of silicon powder and silica powder)
(Example 1)
The silicon powder having a volume average diameter of 20 μm and the crystalline silica having a volume average diameter of 5 μm are 5, 10, 30, 40, and 50% by weight based on the total amount of the crystalline silica combined with the silicon powder and the crystalline silica powder. Each was mixed.
[0049]
(Example 2)
Silicon having a volume average diameter of 20 μm and crystalline silica having a volume average diameter of 10 μm are set to 5, 10, 30, 40 wt% with respect to the total amount of the crystalline silica combined with the silicon powder and the crystalline silica powder. Each was mixed.
[0050]
(result)
Example 1
When the amount of crystalline silica mixed was 40% by weight or less, the particle size distribution of the produced amorphous silica fine particles was about 0.1 to 2 μm, and the volume average diameter was about 1 μm. When the amount of crystalline silica mixed was 50% by weight, the volume average diameter of the produced amorphous silica fine particles was about 8 μm. The produced amorphous silica fine particles all have a sphericity (in this specification, the aspect ratio of the amorphous silica fine particles by an electron microscope is referred to as sphericity) of 0.98 to 1.02. Value.
[0051]
Example 2
When the amount of the crystalline silica mixed is 10% by weight or less, the particle size distribution of the produced amorphous silica fine particles was about 0.1 to 2 μm, and the volume average diameter was about 1 μm. . When the amount of the crystalline silica mixed was 30, 40% by weight, the particle size distribution of the produced amorphous silica fine particles was about 10 to 20 μm, and the volume average diameter was 12 μm. The produced amorphous silica fine particles all had a sphericity of 0.98 to 1.02.
[0052]
【The invention's effect】
That is, the present invention has an effect of providing a method for producing amorphous silica fine particles with low production cost and high sphericity.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a manufacturing apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a production apparatus which is a modification of the embodiment and reuses amorphous silica fine particles having a small (large) particle size.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 '... Powder supply apparatus 4 ... Conduit 5 ... LPG supply pipe 40 ... Oxygen supply pipe 8 ... Flame 9 ... Burner 10 ... Reaction container 11, 11' ... Powder collection container 12 ... Blower

Claims (7)

シリコン粉末とシリカ粉末とをキャリアガスとともに反応室内に供給する原料供給工程と、
供給された前記シリコン粉末を前記反応室内で燃焼させて熱を発生して、生成するシリカおよび前記シリカ粉末を加熱して溶解乃至気化させる燃焼加熱工程と、
前記溶解乃至気化させたシリカを冷却し非晶質シリカ微粒子を形成する冷却工程とからなり、
前記シリカ粉末は、該シリカ粉末の該シリカ粉末と前記シリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が50重量%以下であって、
該シリカ粉末の該シリカ粉末と該シリコン粉末とを合わせた重量に対する該重量比と、平均体積径とが、前記燃焼加熱工程において、前記生成するシリカおよび該シリカ粉末が溶融乃至気化する値の組み合わせであることを特徴とする非晶質シリカ微粒子の製造方法。
A raw material supply step of supplying silicon powder and silica powder together with a carrier gas into the reaction chamber;
A combustion heating step of burning the supplied silicon powder in the reaction chamber to generate heat, heating the generated silica and the silica powder to dissolve or vaporize, and
Ri Do and a cooling step of forming the amorphous silica particles cooling the dissolved or vaporized silica,
The silica powder has a weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder of 50% by weight or less,
The weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder, and the average volume diameter are combinations of values at which the generated silica and the silica powder are melted or vaporized in the combustion heating step. method for producing amorphous silica particles, characterized in der Rukoto.
前記シリカ粉末は、該シリカ粉末の該シリカ粉末と前記シリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比と、平均体積径とが、形成された前記非晶質シリカ微粒子の平均体積径が20μm以下となる値の組み合わせである請求項1に記載の非晶質シリカ微粒子の製造方法。  In the silica powder, the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder and the average volume diameter are such that the average volume diameter of the formed amorphous silica fine particles is 20 μm or less. The method for producing amorphous silica fine particles according to claim 1, which is a combination of values. 前記シリカ粉末は、該シリカ粉末の該シリカ粉末と前記シリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比と、平均体積径が、形成された前記非晶質シリカ微粒子の平均体積径が2μm以下となる値の組み合わせである請求項1又は2に記載の非晶質シリカ微粒子の製造方法。The silica powder is a weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder, and an average volume diameter is a value at which the average volume diameter of the formed amorphous silica fine particles is 2 μm or less. the method for producing an amorphous silica particle according to claim 1 or 2 which is a combination of. 前記シリカ粉末の平均体積径は、10μm以下であって、かつ該シリカ粉末は、該シリカ粉末と前記シリコン粉末とを合わせた重量に対して50重量%未満である請求項に記載のシリカ微粒子の製造方法。4. The silica fine particles according to claim 3 , wherein the silica powder has an average volume diameter of 10 μm or less, and the silica powder is less than 50% by weight based on a total weight of the silica powder and the silicon powder. Manufacturing method. 前記シリカ粉末は、平均体積径が製造する非晶質シリカ微粒子の平均体積径の2分の1であって、かつ該シリカ粉末の該シリカ粉末と前記シリコン粉末とを合わせた重量に対する重量比が、前記燃焼加熱工程において、前記生成するシリカおよび該シリカ粉末が気化しない値である請求項2に記載のシリカ微粒子製造方法。  The silica powder has an average volume diameter that is half the average volume diameter of the amorphous silica fine particles to be produced, and the weight ratio of the silica powder to the combined weight of the silica powder and the silicon powder is The method for producing silica fine particles according to claim 2, wherein in the combustion heating step, the generated silica and the silica powder have a value that does not vaporize. 前記キャリアガスは空気より酸素濃度が高い請求項1〜5のいずれかに記載のシリカ微粒子製造方法。The method for producing silica fine particles according to claim 1, wherein the carrier gas has a higher oxygen concentration than air. 前記キャリアガスは酸素である請求項1〜6のいずれかに記載のシリカ微粒子製造方法。The method for producing silica fine particles according to claim 1, wherein the carrier gas is oxygen.
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