JP5276758B2 - 液晶表示装置の作製方法 - Google Patents
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Description
最初に、フォトリソグラフィ工程に於ける、パターン面積に依存したテーパー角の変動を伴ったレジストパターン変形を解決する為の手段について示す。
逆スタガ型TFTを有する半導体装置の作製方法に於いては、工程短縮の為、パターン形成工程の削減が検討されており、当社では3枚のフォトマスクを使用した当該半導体装置の作製方法が開発されている。当該半導体装置の作製方法に於いて、フォトリソグラフィ工程が抱える問題点であるフォトレジストパターン側壁テーパー角の面積依存性の解決手段を以下に記載する。
102 :ゲート配線(ゲート電極)
103 :容量配線(容量電極)
104 :端子
105a:ゲート絶縁膜
105b:ゲート絶縁膜
106 :第1の非晶質半導体膜
107 :第2の非晶質半導体膜
108 :第2の導電膜
109 :フォトレジストマスク
110 :第1の非晶質半導体膜(チャネル領域形成用)
111 :第2の非晶質半導体膜(ソース・ドレイン領域形成用)
112 :配線(ソース・ドレイン電極形成用)
113 :第3の導電膜
114a〜114c:フォトレジストマスク
115 :第1の非晶質半導体膜(チャネル領域形成用)
116 :ソース領域
117 :ドレイン領域
118 :ソース電極(ソース配線)
119 :ドレイン電極
120 :画素電極
121 :第3の導電膜
Claims (1)
- 第1の導電膜を形成し、
前記第1の導電膜上に第1のフォトレジストパターンを形成し、
前記第1のフォトレジストパターンを用いて前記第1の導電膜をエッチング処理して第1の導電層及び第2の導電層を形成し、
前記第1のフォトレジストパターンを除去し、
前記第1の導電層及び前記第2の導電層上に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上に第1の半導体膜を形成し、
前記第1の半導体膜上に、一導電型の不純物を含む第2の半導体膜を形成し、
前記第2の半導体膜上に第2の導電膜を形成し、
前記第2の導電膜上に第2のフォトレジストパターンを形成し、
前記第2のフォトレジストパターンを用いて、前記第2の導電膜と、前記第2の半導体膜と、前記第1の半導体膜と、をエッチング処理することによって、
前記第1の導電層と重なる領域に、前記第1の半導体膜から形成された第1の半導体層と、前記第2の半導体膜から形成された第2の半導体層と、前記第2の導電膜から形成された第3の導電層と、の積層を形成し、
且つ、前記第2の導電層と重なる領域において、前記第1の半導体膜と、前記第2の半導体膜と、前記第2の導電膜と、を除去し、
前記第2のフォトレジストパターンを除去し、
前記第3の導電層と接し、且つ前記第2の導電層上において前記絶縁膜と接する透明導電膜を形成し、
前記透明導電膜上に第3のフォトレジストパターンを形成し、
前記第3のフォトレジストパターンを用いて、前記透明導電膜と、前記第3の導電層と、前記第2の半導体層と、をエッチング処理することによって、
前記第2の半導体層から形成されたソース領域及びドレイン領域と、
前記第3の導電層から形成され、前記ソース領域または前記ドレイン領域の一方と接する第4の導電層と、前記ソース領域または前記ドレイン領域の他方と接する第5の導電層と、
前記透明導電膜から形成され、前記第4の導電層と接する第1の透明導電層と、前記第5の導電層と接し且つ前記絶縁膜を介して前記第2の導電層と重なる第2の透明導電層と、を形成し、
前記第3のフォトレジストパターンを除去する液晶表示装置の作製方法であって、
前記第1の透明導電層は、前記第4の導電層の上面を覆うように形成され、
前記第4の導電層の側面は、前記第1の透明導電層と接する領域を有し、
前記ソース領域または前記ドレイン領域の一方の側面は、前記第1の透明導電層と接する領域を有し、
前記第1の半導体層の側面は、前記第1の透明導電層と接する領域を有し、
前記第2の透明導電層は、前記第5の導電層の上面を覆うように形成され、
前記第5の導電層の側面は、前記第2の透明導電層と接する領域を有し、
前記ソース領域または前記ドレイン領域の他方の側面は、前記第2の透明導電層と接する領域を有し、
前記第1の半導体層の側面は、前記第2の透明導電層と接する領域を有し、
前記ソース領域と前記ドレイン領域の間の領域と重なる領域において、前記第1の透明導電層と前記第2の透明導電層とは設けられておらず、
前記第1の透明導電層と前記第2の透明導電層とは、前記第1の半導体層の周辺において、前記絶縁膜の上面と接する領域を有し、
前記第1の導電層は、第1の方向に延びて設けられ、
前記第2の導電層は、前記第1の方向に延びて設けられ、
前記第4の導電層は、前記第1の方向と交差する第2の方向に延びて設けられ、
前記第1の透明導電層は、前記第2の方向に延びて設けられ、
前記第1の透明導電層の前記第1の方向の幅は、前記第4の導電層の前記第1の方向の幅よりも広いことを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
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