JP5273947B2 - 特殊な表面特性を有する沈降シリカ - Google Patents
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Description
シラノール基密度 0.5〜3.5SiOH/nm2
改変型タップ密度 <70g/l
BET表面積 50〜600m2/g
CTAB表面積 50〜350m2/g
DBP(無水) 150〜400g/100g
強熱減量 0.1〜3.0質量%
乾燥減量 0.1〜3.0質量%
pH値 4〜9
容量に対する粒子分布における1μm未満の粒子の割合 5〜100%
容量に対する粒子分布のd90値 0.01〜10μm
の1又はそれより多くを有する沈降シリカ、有利には親水性の沈降シリカを提供する。
・ 本発明によるシリカの混加によるRTV型の1成分系シリコーンゴムコンパウンドの高い貯蔵安定性
・ 良好かつ迅速な分散による、RTV型の1成分系シリコーンゴムコンパウンド中でのシリカの高い増粘作用。
1. 少なくとも1つのケイ酸塩と少なくとも1つの酸性化剤とを反応させる工程
2. 得られたシリカを濾過及び洗浄する工程
3. 得られたシリカもしくは濾過ケークを乾燥させる工程
4. 乾燥されたシリカを熱処理する工程
を含む方法に従って製造することができる。
1a. 水もしくは水と少なくとも1つのケイ酸塩及び/又はケイ酸塩溶液からなる初充填物を製造する工程。その際、こうして得られた初充填物のpH値は、有利にはpH5〜pH10であり、かつ該初充填物の温度は有利には80〜100℃である。
1b. 少なくとも1つのケイ酸塩及び/又はケイ酸塩溶液と少なくとも1つの酸性化剤とを、撹拌下に80〜100℃で前記の部分工程1a)からの初充填物中に、沈降懸濁液の固体含有率が、部分工程1c)で達するべき固体含有率に至る水準にまで達するまで配量する工程。その際、ケイ酸塩及び/又はケイ酸塩溶液及び酸性化剤の添加は、同時に及び/又はpH値が部分工程1b)の期間にわたってpH7〜pH10の値に一定に保たれるように行われる。
1c. 酸性化剤を、80〜100℃の沈降懸濁液の温度で添加して、沈降懸濁液のpH値を、2〜6に下げ、かつこの部分工程の最後に沈降懸濁液の固体含有率を30〜70g/lとする工程
を含む。
水平な多孔板上に堆積された微粒のバラ材に上方からガスを流過させた場合に、規定の流動条件下で、沸騰した液体と似た状態が生ずる;層が気泡を呈し、バラ材の粒子が層内部で絶え間ない流動で上下運動にあり、いわば懸濁状態にある。従って、懸濁層、流動層、流動床並びに流動化とも言われる。それに関係する該流動化物の大きな表面積は、固体の乾燥及び熱処理をも容易にする。
4a. シリカを流動層反応器中に充填する工程
4b. 反応器を300〜800℃に予熱する工程。その際、同時に該反応器に不活性ガス及び/又は窒素/空気混合物を、流動化速度0.02〜0.06m/sが生ずるように流過させる。
4c. スチームと不活性ガス、例えば窒素からなるガス混合物I又はスチームと不活性ガスと空気とからなるガス混合物IIを300〜800℃で0.25〜6時間の期間にわたり供給する工程。その際、該ガス混合物を反応器に流動化速度0.02〜0.06m/sで流過させ、かつガス混合物I及びIIは、スチーム濃度10〜95容量%を有し、ガス混合物IIの場合には、酸素含有率0.01〜21容量%を有する。
4d. スチームの添加を中断し、そしてスチームを不活性ガス、例えば窒素及び/又は不活性ガス/空気混合物によって300〜800℃で追い出す工程。その際、該ガスもしくはガス混合物を反応器に流動化速度0.02〜0.06m/sで流過させ、かつ不活性ガス/空気混合物を使用する場合に該混合物は酸素含有率0.01〜21容量%を有する。
4e. 熱処理されたシリカを乾燥したプロセス雰囲気中で室温に冷却する工程。その際、不活性ガス/空気混合物を使用する場合に、該混合物は0.01〜21容量%の酸素含有率を有する。
に従って行われる。
濾過ケークの固体含有率の測定
この方法に従って、濾過ケークの固体含有率は、105℃で揮発成分を除去することによって測定される。
SC=A/E*100%
[式中、Aは最終重量(g)であり、かつEは初期重量(g)である]に従って測定される。
沈降懸濁液の固体含有率を、試料の濾過後に重量法で測定する。
固体含有率(g/l)=(m試料(g))/(V懸濁液(l))
に従って測定する。
シリカ供給物を、赤外線乾燥器中で質量が一定になるまで乾燥させる。乾燥減量は、主に水分からなる。
固体含有率(%)=100%−質量低下(%)
に従って得られる。
シリカのpH値の測定は、DIN EN ISO787−9に基づき室温で5%の水性懸濁液として行う。前記の規格の仕様に対して、初期重量を変更した(100mlの脱イオン水に対して5.00gのシリカ)。
シリカの導電性の測定は、DIN EN ISO787−14に基づいて室温で4%の水性懸濁液として実施する。前記の規格の仕様に対して、初期重量を変更した(100mlの脱イオン水に対して4.00gのシリカ)。
シリカの含水率は、ISO787−2に従って、循環空気乾燥キャビネット中で105℃で2時間乾燥させた後に測定する。この乾燥減量は、主に水分からなる。
前記の方法に従って、シリカの質量損失をDIN EN ISO3262−1に基づいて1000℃で測定する。この温度で、物理的及び化学的に結合した水並びに別の揮発性成分を消失させる。調査される試料の含水率(LD)は、前記の方法"含水率もしくは乾燥減量の測定"に従って、DIN EN ISO787−2に基づいて測定する。
LOI=(1−A/F)*100
に従って得られる。
F=E*(1−LD/100)
に従って計算される。
粉末状、球状又は顆粒状のシリカの窒素比表面積(以下にBET表面積と呼称する)は、ISO5794−1/アネックスDに基づき、TRISTAR3000(Micromeritics社)を用いてDIN ISO9277による多点測定に従って測定する。
該方法は、ASTM3765もしくはNFT45−007(5.12.1.3章)による、CTAB(N−ヘキサデシル−N,N,N−トリメチルアンモニウムブロミド)の、シリカの"外"表面への吸着に基づく。
タイトロプロセッサーMETTLER Toledo DL55及びタイトロプロセッサーMETTLER Toledo DL70は、それぞれ以下のものを備えている:
pH電極(製造元Mettler、型DG111)及びホトトロード(製造元Mettler、型DP550)
100mlのポリプロピレン製の滴定ビーカ
150mlの蓋付滴定ガラス容器
100ml容量の圧力濾過装置
硝酸セルロース製の細孔サイズ0.1μmの47mm径のメンブレンフィルタ(例えばWhatman(注文番号7181−004))。
CTABの溶液(CCTAB=脱イオン水中0.015モル/l)及びSDSSの溶液(濃度=脱イオン水中0.00423モル/l)を、使用準備が完了した状態で購入する(Bernd Kraft GmbH社、デュースブルグ47167:注文番号6056.4700;0.015モル/lの濃度のCTAB溶液;注文番号6057.4700;0.00423モル/lのSDSS溶液)、25℃で保管し、1ヶ月以内に消費する。
1. 盲検滴定
5mlのCTAB溶液の滴定のためのSDSS溶液の消費量を、各測定列の前に1日1回試験すべきである。そのために、ホトトロードを滴定開始前に1000±20mVに設定する(100%の透明度に相当する)。
含水率5±2%を有する粉末状、球状又は顆粒状のシリカ10.0g(場合により、含水率は105℃での乾燥キャビネット中での乾燥によって又は同様の増湿によって調節する)を、ミル(Krups社、モデルKM75、商品番号2030−70)を用いて30秒間粉砕する。粉砕された試料の正確な500.0mg(初期重量E)を、マグネティックスターラを有する150mlの滴定容器に移し、そして正確に100.0mlのCTAB溶液(T1)を計量供給する。滴定容器に蓋を閉め、Ultra Turrax T 25撹拌機(撹拌シャフトKV−18G、18mm直径)を用いて18000回転/分で、完全に濡れるまで最長で1分間撹拌する。その滴定容器を、タイトロプロセッサーDL70にねじ留めし、そして懸濁液のpH値をKOH(0.1モル/l)で9±0.05の値にまで調節する。
残りの濾液5.00mlを、100mlの滴定ビーカ中にピペットで入れ、そして脱イオン水で50.00mlにまで充填する。滴定ビーカを、タイトロプロセッサーMDL55にねじ留めし、そして撹拌下に滴定をSDSS溶液を用いて最大の混濁度まで行う。SDSS溶液の消費量VBをmlで測定する。それぞれの滴定は、三重測定として実施する。
沈降シリカの吸収度のための尺度であるDBP吸収(DBP数)を、規格DIN53601に基づき、以下のようにして測定する:
0〜10%の含水率を有する粉末状又は球状のシリカ12.50g(場合により、含水率は乾燥キャビネット中での105℃での乾燥によって調節する)を、ブラベンダー社製の吸収測定器"E"の混練チャンバ(商品番号279061)に入れる(トルクセンサの出力フィルタの減衰なし)。顆粒の場合に、1〜3.15mmの分級物(Retsch社のステンレス鋼篩)を使用する(顆粒を、3.15mmの細孔幅を有する篩を通じてプラスチックへらで適度に加圧することによって)。絶え間なく混合しつつ(混練羽根の回転速度125回転/分)、室温で、Brabender社製のT 90/50 Dosimatによってジブチルフタレートを4ml/分の速度で混合物中に滴加する。DBPの混和は、少ない所要力のみで行われ、デジタル表示器をもって追跡する。測定の終わりに向かって、混合物はペースト状となり、これは所要力の急激な上昇によって表示される。600ディジットの表示(0.6Nmのトルク)の場合に、電気接点によって混練機もDBP配量もスイッチを切る。DBP供給のための同期モータは、デジタル計数器と接続されているので、DBPの消費をmlで読み取ることができる。
IR分光測定によって、様々な種類のSiOH基(孤立型、架橋型、H2O付加型)を確認することができる。様々なシラノール基の強度を測定するために、シリカを、粉末層の形で測定に供する。様々なシラノール基の吸収値を、1870cm-1でのSiO結合振動の吸収値によって除算する(標準化する)。
解像度: 2cm-1
スキャナ速度: 6;10.51Hz
測定範囲: 4500cm-1〜100cm-1
アポダイゼーション関数: 三角関数
スキャン数: 128
を使用して実施する。
まず、2つの基線を設定する。これは、吸光プロットに2つの接線を適用することによって行われる。最初の接線(第一の基線)は、吸光プロットと、まず4000cm-1〜3800cm-1の範囲で接し、第二に3000cm-1〜2100cm-1の範囲で接する。該接線は、吸光プロットと、4000cm-1〜3800cm-1の範囲と、3000cm-1〜2100cm-1の範囲のいずれにおいても交差しない。第二の接線(第二の基線)は、吸光プロットと、まず2200cm-1〜2000cm-1の範囲で接し、第二に1850cm-1〜1650cm-1の範囲で接する。該接線は、吸光プロットと、2200cm-1〜2000cm-1の範囲と、1850cm-1〜1650cm-1の範囲のいずれにおいても交差しない。
接触角は、W.T.Yen、R.S.Chahal、T.Salman著のCan.Met.Quart.,Vol.12,Nr.3,1973に記載されるようにして測定する。
まず、シリカ試料の含水率を、"含水率もしくは乾燥減量の測定"に従って測定する。次いで、2〜4gの試料(1mgまで正確に測定すべき)を、圧力計が接続された圧密なガラス装置(滴下漏斗を有するガラスフラスコ)中に移す。そこで、該試料を、120℃で真空(<1hPa)において1時間乾燥させる。次に室温で、滴下漏斗から、ジグリム中のLiAlH4の約40mlの脱ガスされた2%溶液を滴加する。場合により、更なる圧力上昇が観察されなくなるまで、更なる溶液が滴加される。LiAlH4とシリカのシラノール基との反応に際して生ずる水素による圧力上昇を、圧力計(測定前に行われた装置の較正によって知られた容量で)によって≦1hPaまで正確に測定する。圧力上昇から、一般的な気体方程式によって、シリカのシラノール基濃度に逆算することができ、その際、シリカの含水率を考慮に入れるべきである。溶剤の蒸気圧の影響は、その際に相応して較正すべきである。シラノール基密度は、以下のように計算される:
粒子分布の測定は、レーザ回折の原理に従って、レーザ回折計(Horiba社、LA−920)上で行われる。
DIN EN ISO787−11による"従来の"タップ密度の測定では、測定結果は、シリカが既に、例えば包装時に事前に圧密化を受けていることによって歪曲される。それを排除するために、本発明によるシリカについては"改変型タップ密度"が測定される。
水ガラス:
密度1.348kg/l、27.0質量%のSiO2、8.05質量%のNa2O
硫酸:
密度1.83kg/l、94質量%
傾斜板、MIG−傾斜羽根型撹拌システム及びEkato社製の液体剪断タービンを備えた2m3の沈降槽(直径160cm)中に、1679lの脱イオン水を装入し、そして92℃に加熱する。温度到達後に、100分間にわたり水ガラスを3.93kg/分の配量速度で、かつ硫酸を0.526kg/分の配量速度で撹拌しながら計量供給する。硫酸の配量速度は、場合により、全沈降時間の間に8.5のpH値が保持されるように較正すべきである。次いで、水ガラスの配量を、温度を保持して遮断し、そして硫酸の同じ配量速度で、沈降懸濁液をpH3に酸性化させる。沈降懸濁液は、54g/lの固体含有率を有する。
まず、30kgの噴霧乾燥された粉末を、流動化床を有する流動層反応器中に充填する。流動化床に、乾燥窒素と乾燥空気からなるガス混合物を流過させる。前記の両者のガスを、反応器への入口前で、得られた酸素含有率6容量%を超過せず、反応器中での流動化速度0.05m/sが生ずるように配量する。反応器は、ここで室温から450℃に加熱される。流動化ガスのガス流は、加熱段階において、反応器中での流動化速度0.05m/sが一定に保たれるように調節するべきである。
傾斜板、MIG−傾斜羽根型撹拌システム及びEkato社製の液体剪断タービンを備えた2m3の沈降槽(直径160cm)中に、1680lの脱イオン水を装入し、そして92℃に加熱する。温度到達後に、100分間にわたり水ガラスを3.93kg/分の配量速度で、かつ硫酸を0.526kg/分の配量速度で撹拌しながら計量供給する。硫酸の配量速度は、場合により、全沈降時間の間に8.5のpH値が保持されるように較正すべきである。次いで、水ガラスの供給を止め、そして同じ速度の硫酸配量で、依然として92℃で、沈降懸濁液をpH3に酸性化させる。沈降懸濁液は、この時点で54g/lの固体含有率を有する。
まず、5kgの粉末を、流動化床を有する流動層反応器中に充填する。流動化床に、乾燥窒素と乾燥空気からなるガス混合物を流過させる。前記の両者のガスを、反応器への入口前で、得られた酸素含有率6容量%を超過せず、反応器中での流動化速度0.05m/sが生ずるように配量する。反応器は、ここで室温から600℃に加熱される。流動化ガス流は、加熱段階において、反応器中での流動化速度0.05m/sが一定に保たれるように調節するべきである。
以下の商業的に得られるシリカを分析調査し(第1表を参照)、そして実施例4において混加してシーラントとした:
比較例1: Siloa(商標)72X(Rhodia AG社)
比較例2: Ultrasil(登録商標)VN3(Degussa AG社)
3.1 沈降シリカを有するアセテート架橋性のRTV型の1成分系シリコーン系シーラントの製造
以下に配合物の製造のために必要な量を、第2表に示す。その製造の間に、水道水を用いて、該配合物が実質的に室温より高く加温されないように冷却すべきである。その製造は、室温でかつ相対空気含水率40〜60%で行われる。
本発明によるシリカが使用されるRTV型の1成分系シリコーン系シーラントの性能特性を調査するために、事前に製造されたシーラントから加硫物を作製せねばならない。これらの加硫物を、試験体に加工する。このために、まずシリコーン系シーラントを十分な量で平坦な支持板上に塗布し、コーティングバー(スロット高さ:2mm)を用いて平らに塗被して、2mm高さ、約80mm幅及び約300mmの長さの条片とする。その際、気泡が形成しないことを考慮に入れるべきである。前記のシリコーン条片から、次いでそれぞれの試験に必要な形状を打ち出す。支持板は、加硫化されたシーラントを容易に剥がすことができるポリプロピレン、ポリエチレン、テフロン又は別のプラスチックからなることが望ましい。
実施例3.1の"沈降シリカを有するアセテート架橋性のRTV型の1成分系シリコーン系シーラントの製造"により製造されたシーラントを、試験前に少なくとも24時間にわたり、気候調節室(controlled−climate chamber)中で23℃/50%の相対湿度で貯蔵する。
ダイと測定プレートアタッチメントとの間のスロット間隔: 0.5mm
測定温度: 23℃
測定範囲(剪断速度): 0〜10 1/s
測定点の数: 400
測定点は、x軸に剪断速度γを、そしてy軸に剪断応力τを示して図示される。剪断速度が10 1/sの場合に、剪断応力を読取り、そこから10 1/sでの粘度ηを、η=τ/γに従って計算する。2つのチューブを測定する場合に、各チューブの測定は少なくとも3回実施する。6つの個別の結果から、最高値と最低値を破棄する。残りの4つの結果から、平均値を計算する。
これらの測定は、DIN53504に基づいて行われ、一定の速度で引きちぎれるまで試験体を引っ張った場合のエラストマーからなる所定の形状の試験体の引張強さと破断点伸びの測定に寄与する。その際、引張強さと破断点伸びは、以下のように定義されている:
・ 引張強さδmaxは、測定された最大応力Fmaxと試験体の初期断面積A0とからの商である。
この測定は、ASTM D 624Bに基づいて行われる。エラストマーの引裂試験は、切れ目の入った試料が引裂に対抗する抵抗の測定に寄与する。
本発明によるシリカが混加されたシリコーンゴム配合物の粘稠性の評価のために、ケイソンによる降伏点についての測定結果と1/10の剪断速度での粘度についての測定結果とが用いられる(第3表)。
Claims (25)
- 沈降シリカであって、SiOH孤立吸光度比が1以上であり、シラノール基密度が0.5〜3.5SiOH/nm 2 であり、かつ改変型タップ密度が30g/l以下であることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1記載の沈降シリカであって、以下の特性:
BET表面積 50〜600m2/g
CTAB表面積 50〜350m2/g
DBP(水不含) 150〜400g/100g
を有することを特徴とする沈降シリカ。 - 請求項1または2記載の沈降シリカであって、容量に対する粒子分布曲線の粒子の5〜100%が<1μmであることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から3までのいずれか1項記載の沈降シリカであって、d90値が0.001〜10μm以下であることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から4までのいずれか1項記載の沈降シリカであって、粒子分布曲線が二峰性であることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から5までのいずれか1項記載の沈降シリカであって、強熱減量が0.1〜3.0質量%であることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から6までのいずれか1項記載の沈降シリカであって、乾燥減量が0.1〜3.0質量%であることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から7までのいずれか1項記載の沈降シリカであって、pH値が4〜8であることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から8までのいずれか1項記載の沈降シリカであって、それが親水性の沈降シリカであることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から9までのいずれか1項記載の沈降シリカの製造方法において、以下の工程:
1. 少なくとも1つのケイ酸塩と少なくとも1つの酸性化剤とを反応させる工程
2. 得られたシリカを濾過及び洗浄する工程
3. 得られたシリカもしくは濾過ケークを乾燥させる工程
4. 乾燥されたシリカを熱処理する工程
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項10記載の方法において、工程1が以下の部分工程:
1a. 水もしくは水と少なくとも1つのケイ酸塩及び/又はケイ酸塩溶液の初充填物を製造する工程。その際、こうして得られた初充填物のpH値は、有利にはpH5〜pH10であり、かつ該初充填物の温度は有利には80〜100℃である。
1b. 少なくとも1つのケイ酸塩及び/又はケイ酸塩溶液と少なくとも1つの酸性化剤とを、撹拌下に80〜100℃で前記の部分工程1a)からの初充填物中に、沈降懸濁液の固体含有率が、部分工程1c)で至るべき固体含有率に導く水準にまで達するまで配量する工程。
1c. 酸性化剤を、80〜100℃の沈降懸濁液の温度で添加して、沈降懸濁液のpH値を、2〜6に下げ、かつこの部分工程の最後に沈降懸濁液の固体含有率を30〜70g/lとする工程
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項11記載の方法において、pH値を部分工程1b)の期間にわたり、pH7〜pH10の間の値に一定に保つことを特徴とする方法。
- 請求項10から12までのいずれか1項記載の方法において、シリカを工程3aにおいて、すなわち工程3と4の間に、又は工程5において、すなわち工程4の後で、又は工程3a、すなわち工程3と4の間と、工程5、すなわち工程4の後に粉砕することを特徴とする方法。
- 請求項13記載の方法において、粉砕パラメータを、粉砕された生成物が、容量に対する粒子分布の1μm未満の範囲で、5〜100%の割合の微細粒子を有すること、及び/又は容量に対する粒子分布曲線のd90値0.001〜10μmを有するように選択することを特徴とする方法。
- 請求項13又は14記載の方法において、粉砕を、ジェットミル、有利には流動床型の対向ジェットミルを使用して実施することを特徴とする方法。
- 請求項15記載の方法において、流動床型の対向ジェットミルが、作業媒体としてスチームを用いて作業されることを特徴とする方法。
- 請求項13から16までのいずれか1項記載の方法において、粉砕を、粉砕システム(粉砕装置)、有利にはジェットミルを有する粉砕システムを用いることによって実施することと、粉砕段階において、該ミルが、気体及び/又は蒸気、有利にはスチーム及び/又はスチームを含む気体からなる群から選択される作業媒体で作業されることと、加熱段階において、すなわち作業媒体での実際の作業前に、粉砕室を、粉砕室中及び/又はミル出口での温度が蒸気及び/又は作業媒体の露点より高くなるように加熱することを特徴とする方法。
- 請求項10から17までのいずれか1項記載の方法において、シリカの工程4における熱処理を、流動層−、流動床−又は回転管反応器中で実施することを特徴とする方法。
- 請求項18記載の方法において、流動層反応器を使用し、かつ以下の部分工程:
4a. シリカを流動層反応器中に導入する工程
4b. 反応器を300〜800℃に予熱する工程。その際、同時に該反応器に不活性ガス及び/又は窒素/空気混合物を、流動化速度0.02〜0.06m/sが生ずるように流過させる。
4c. スチームと不活性ガスを含むガス混合物I又はスチームと不活性ガスと空気とを含むガス混合物IIを300〜800℃で0.25〜6時間の期間にわたり供給する工程。その際、該ガス混合物を反応器に流動化速度0.02〜0.06m/sで流過させ、かつガス混合物I及びIIは、スチーム濃度10〜95容量%を有し、ガス混合物IIの場合には、酸素含有率0.01〜21容量%を有する。
4d. スチームの添加を中断し、そしてスチームを不活性ガス、例えば窒素及び/又は不活性ガス/空気混合物によって300〜800℃で追い出す工程。その際、該ガスもしくはガス混合物を反応器に流動化速度0.02〜0.06m/sで流過させ、かつ不活性ガス/空気混合物を使用する場合には、該混合物は酸素含有率0.01〜21容量%を有する。
4e. 熱処理されたシリカを乾燥したプロセス雰囲気中で室温に冷却する工程。その際、不活性ガス/空気混合物を使用する場合に、該混合物は0.01〜21容量%の酸素含有率を有する。
を実施することを特徴とする方法。 - 請求項10から19までのいずれか1項記載の方法により得られることを特徴とする沈降シリカ。
- 請求項1から9まで又は20記載の沈降シリカをシーラントの製造のために用いる使用。
- 請求項21記載の使用であって、シーラントが、RTV型の1成分系シリコーンゴムもしくは種々の架橋系(アセトキシ架橋性、アルコキシ架橋性及び/又はオキシム架橋性)のシリコーン系シーラントであることを特徴とする使用。
- 請求項1から9まで又は20記載の沈降シリカ少なくとも1つを含有するシーラント。
- 請求項23記載のシーラントであって、該シーラントが、RTV型の1成分系シリコーンゴムもしくは種々の架橋系(アセトキシ架橋性、アルコキシ架橋性及び/又はオキシム架橋性)のシリコーン系シーラントであることを特徴とするシーラント。
- 請求項23又は24記載のシーラントを、建築産業において継ぎ目シーラントとして、自動車産業において接着剤及びシーラントとして、及び/又はテキスタイル織物用の被覆材料として用いる使用。
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