JP5269316B2 - システムコンポーネントの状態をモニタリングするための処理システム - Google Patents
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Description
2 円筒形マニホールド
10 処理チャンバー
15 天面ヒーター
20 メインヒーター
21 シャフト
22 エレベータ
23 上端部
24 下端部
25 処理チューブ
26 ターンテーブル
27 蓋
28 モーター
30 内面
35 基板ホルダー
40 基板(ウエハ)
45 ガス噴射ライン
65 底部ヒーター
70 排気パイプヒーター
75 センサー
80 排気パイプ
82 自動式圧力コントローラ(APC)
84 トラップ
86 真空ポンプ
88 真空ポンプシステム
90 コントローラ
92 チャンバー保護システム
94 ガス噴射システム
100 バッチ型処理システム
102 処理チャンバー
104 ガス噴射システム
106 真空ポンプシステム
108 チャンバー保護システム
110 基板
112 基板ホルダー
114 外側セクション
116 内側セクション
118,120 空間
122 ヒーター
124 コントローラ
200 システムコンポーネント
205 システムコンポーネント材
210 原料堆積物
300 システムコンポーネント
310 原料堆積物
305 システムコンポーネント材
Claims (2)
- 処理チャンバーと、前記処理チャンバー内のシステムコンポーネントと、
前記システムコンポーネントのクリーニング処理を実施するために前記処理チャンバー内に反応ガスを導入するよう構成されたガス噴射システムと、を具備してなる熱処理システムであって、
前記システムコンポーネントは保護コーティングを有し、前記反応ガスは、前記保護コーティングを侵食でき、さらに、前記クリーニング処理中に保護コーティングからの原料堆積物をエッチングするときにエロージョン生成物を発生させるものであり、
前記システムコンポーネントの状態を判定すると共に前記状態を伝達するために、前記エロージョン生成物の放出に関して前記処理チャンバー内で前記熱処理システムを、光吸収を利用してモニタリングするためのチャンバー保護システムと、
前記チャンバー保護システムから得られる状態を受けると共に前記状態に応じて前記熱処理システムを制御するよう構成されたコントローラと、をさらに具備してなり、
前記チャンバー保護システムは、前記処理チャンバー内で前記エロージョン生成物の光吸収を検出するため光学式モニタリングシステムを具備してなり、
前記光学式モニタリングシステムは、前記処理チャンバーに隣接して配置され、かつ、さらに光吸収の強度レベルが閾値に達したかどうかを判定するよう構成され、
かつ前記コントローラは前記判定に基づいて、処理を継続するか停止するように前記熱処理システムを制御するよう構成されており、
前記システムコンポーネント材と保護コーティングの材質は同一であり、
前記閾値は、前記原料堆積物が除去され、前記保護コーティングの前記エロージョン生成物が検出されて、前記システムコンポーネントが十分に浄化されたかどうかが判定できる値とした、
ことを特徴とする熱処理システム。 - 前記システムコンポーネントが、処理チューブ、シールド、リング、バッフル、壁、保護コーティング、インジェクター、基板ホルダー、ライナー、ペデスタル、キャップカバー、電極、またはヒーターのうちの少なくとも一つからなり、かつ前記システムコンポーネントは、酸化物、窒化物、または炭化物のうちの少なくとも一つからなることを特徴とする請求項1に記載の熱処理システム。
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