JP5267202B2 - X線管装置 - Google Patents
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すなわち、請求項1に記載の発明は、電子ビームを発生させる陰極と、その陰極からの電子ビームを偏向させる偏向手段と、その偏向手段によって偏向した電子ビームの衝突によりX線を発生させ、かつ外周部が傾斜部からなり、内周部がフラット部からなり、回転可能に構成された陽極とを備えた回転陽極型のX線管装置であって、前記電子ビームが前記陽極に衝突する位置を前記偏向手段による偏向方向に移動させるように前記偏向手段を制御する偏向制御手段を備え、
軟X線を遮断するあるいは軟X線を発生させない構造で前記陽極の前記内周部を構成し、X線発生のために負荷を前記X線管装置に加えた場合には、前記偏向制御手段は前記陽極の前記外周部に電子ビームを衝突させるように前記偏向手段を制御するとともに、前記負荷終了後に、前記偏向制御手段は前記陽極の前記内周部に電子ビームを衝突させるように前記偏向手段を制御することを特徴とするものである。
図1は、実施例1に係るX線管装置の概略断面図であり、図2は、図1との比較のための従来のX線管装置の概略断面図であり、図3は、管電圧波形の概略図である。
図4は、実施例2に係るX線管装置の概略断面図である。上述した実施例1と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略する。また、図4では、コントローラの図示を省略する。
図5は、実施例3に係るX線管装置の概略断面図である。上述した実施例1,2と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略する。また、図5では、図4と同様にコントローラの図示を省略する。
4 … 陰極
5 … 偏向コイル
6 … 陽極
6a … 段差
11 … コントローラ
Claims (6)
- 電子ビームを発生させる陰極と、その陰極からの電子ビームを偏向させる偏向手段と、その偏向手段によって偏向した電子ビームの衝突によりX線を発生させ、かつ外周部が傾斜部からなり、内周部がフラット部からなり、回転可能に構成された陽極とを備えた回転陽極型のX線管装置であって、前記電子ビームが前記陽極に衝突する位置を前記偏向手段による偏向方向に移動させるように前記偏向手段を制御する偏向制御手段を備え、
軟X線を遮断するあるいは軟X線を発生させない構造で前記陽極の前記内周部を構成し、X線発生のために負荷を前記X線管装置に加えた場合には、前記偏向制御手段は前記陽極の前記外周部に電子ビームを衝突させるように前記偏向手段を制御するとともに、前記負荷終了後に、前記偏向制御手段は前記陽極の前記内周部に電子ビームを衝突させるように前記偏向手段を制御することを特徴とするX線管装置。 - 請求項1に記載のX線管装置において、前記陽極の前記内周部が前記外周部に隣接する部分に前記内周部を構成する前記フラット部から一部が突出する段差を設けることで、その段差によって前記軟X線を遮断する構造で陽極の内周部を構成することを特徴とするX線管装置。
- 請求項1に記載のX線管装置において、前記外周部と比較して前記陽極の前記内周部を前記軟X線が発生し難い物質で形成することで、その物質によって軟X線を発生させない構造で陽極の前記内周部を構成することを特徴とするX線管装置。
- 請求項3に記載のX線管装置において、前記陽極の前記内周部の表面のみを前記軟X線が発生し難い物質で形成するとともに、前記内周部の表面を除く陽極全体を前記内周部の表面と比較して軟X線が発生し易い物質で形成することで、前記外周部と比較して前記陽極の前記内周部を前記軟X線が発生し難い物質で形成することを特徴とするX線管装置。
- 請求項3に記載のX線管装置において、前記陽極の前記外周部の表面を除く陽極全体を前記軟X線が発生し難い物質で形成するとともに、前記陽極の前記外周部の表面のみを前記陽極全体と比較して軟X線が発生し易い物質で形成することで、前記外周部と比較して前記陽極の前記内周部を前記軟X線が発生し難い物質で形成することを特徴とするX線管装置。
- 請求項1から請求項5のいずれかに記載のX線管装置において、前記負荷はパルス負荷であって、パルス負荷を繰り返すごとに、パルス負荷を前記X線管装置に加えた場合には、前記偏向制御手段は前記陽極の前記外周部に前記電子ビームを衝突させるように前記偏向手段を制御するとともに、パルス負荷終了後に、前記偏向制御手段は前記陽極の前記内周部に前記電子ビームを衝突させるように前記偏向手段を制御することを特徴とするX線管装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009039586A JP5267202B2 (ja) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | X線管装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009039586A JP5267202B2 (ja) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | X線管装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010198778A JP2010198778A (ja) | 2010-09-09 |
JP5267202B2 true JP5267202B2 (ja) | 2013-08-21 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5267202B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2789003B1 (en) * | 2011-12-06 | 2018-11-21 | Koninklijke Philips N.V. | Balancing of a rotating anode |
EP2958128A4 (en) * | 2013-02-18 | 2016-04-20 | Shimadzu Corp | ROTATING ENVELOPE X-RAY TUBE DEVICE |
JP7090900B2 (ja) * | 2018-09-26 | 2022-06-27 | 株式会社リガク | X線発生装置、及びx線分析装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03194834A (ja) * | 1989-12-22 | 1991-08-26 | Shimadzu Corp | X線管装置 |
JP3030069B2 (ja) * | 1990-09-13 | 2000-04-10 | イメイトロン インコーポレーテッド | X線管 |
JPH11185680A (ja) * | 1997-12-17 | 1999-07-09 | General Electric Co <Ge> | X線管組立体 |
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2009
- 2009-02-23 JP JP2009039586A patent/JP5267202B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010198778A (ja) | 2010-09-09 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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