JP5264384B2 - 気相成長装置及び気相成長方法 - Google Patents
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シリコン基板が載置される円盤部材と、
円盤部材表面にシリコン基板を密着させた状態で、シリコン基板が載置される円盤部材を搬入し、シリコン基板上にシリコン(Si)含有膜を成膜するチャンバと、
内部に前記円盤部材の外径寸法よりも小さい直径の貫通する開口部が形成されると共に内部に前記円盤部材の外径寸法以上の直径で上面側から所定の深さまで掘り込んだ凹部となるザグリ穴が形成され、チャンバ内で、前記ザグリ穴の底面で前記円盤部材の裏面外周部と接触して、シリコン基板が密着して載置される円盤部材の裏面外周部を支持するホルダと、
ホルダを回転させる回転部材と、
を備えたことを特徴とする。
大気圧下でシリコン基板を円盤部材表面に載置し、円盤部材表面にシリコン基板が載置された状態で、大気圧から真空雰囲気に晒す工程と、
真空雰囲気下で、シリコン基板が載置された円盤部材をチャンバ内に搬入し、内部に前記円盤部材の外径寸法よりも小さい直径の貫通する開口部が形成されると共に内部に前記円盤部材の外径寸法以上の直径で上面側から所定の深さまで掘り込んだ凹部となるザグリ穴が形成されたホルダの前記ザグリ穴の底面で前記円盤部材の裏面外周部と接触して、前記シリコン基板が密着して載置される前記円盤部材の裏面外周部を支持する工程と、
シリコン基板を回転させながら、シリコン基板にシリコン(Si)含有膜を成膜する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるエピタキシャル成長装置の構成を示す概念図である。図1において、気相成長装置の一例となるエピタキシャル成長装置100は、ホルダ(サセプタとも言う。)110、円盤部材112、チャンバ120、シャワーヘッド130、真空ポンプ140、圧力制御弁142、アウトヒータ150、インヒータ160、及び回転部材170を備えている。チャンバ120には、ガスを供給する流路122とガスを排気する流路124が接続されている。そして、流路122は、シャワーヘッド130に接続されている。図1では、実施の形態1を説明する上で必要な構成について説明している。ただし、縮尺等は、実物とは一致させていない(以下、各図面において同様である)。
図3は、実施の形態1におけるエピタキシャル成長装置システムのユニット構成の一例を示す図である。エピタキシャル成長装置システム300内では、カセットが、カセットステージ(C/S)310或いはカセットステージ(C/S)312に配置される。
100 エピタキシャル成長装置
101 シリコンウェハ
110 ホルダ
112 円盤部材
120 チャンバ
122,124 流路
130 シャワーヘッド
140 真空ポンプ
142 圧力制御弁
150 アウトヒータ
160 インヒータ
170 回転部材
300 エピタキシャル成長装置システム
310,312 C/S
332,350 搬送ロボット
320 L/Lチャンバ
330 トランスファーチャンバ
Claims (5)
- シリコン基板が載置される円盤部材と、
前記円盤部材表面に前記シリコン基板を密着させた状態で、前記シリコン基板が載置される前記円盤部材を搬入し、前記シリコン基板上にシリコン(Si)含有膜を成膜するチャンバと、
内部に前記円盤部材の外径寸法よりも小さい直径の貫通する開口部が形成されると共に内部に前記円盤部材の外径寸法以上の直径で上面側から所定の深さまで掘り込んだ凹部となるザグリ穴が形成され、前記チャンバ内で、前記ザグリ穴の底面で前記円盤部材の裏面外周部と接触して、前記シリコン基板が密着して載置される前記円盤部材の裏面外周部を支持するホルダと、
前記ホルダを回転させる回転部材と、
を備えたことを特徴とする気相成長装置。 - 前記円盤部材の裏面側から前記円盤部材を介して前記シリコン基板が加熱されるように、熱源をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の気相成長装置。
- 前記円盤部材は、直径が前記シリコン基板以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の気相成長装置。
- 前記円盤部材は、厚さが前記シリコン基板より薄いことを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の気相成長装置。
- 大気圧下でシリコン基板を円盤部材表面に載置し、前記円盤部材表面に前記シリコン基板が載置された状態で、大気圧から真空雰囲気に晒す工程と、
真空雰囲気下で、前記シリコン基板が密着して載置された前記円盤部材をチャンバ内に搬入し、内部に前記円盤部材の外径寸法よりも小さい直径の貫通する開口部が形成されると共に内部に前記円盤部材の外径寸法以上の直径で上面側から所定の深さまで掘り込んだ凹部となるザグリ穴が形成されたホルダの前記ザグリ穴の底面で前記円盤部材の裏面外周部と接触して、前記シリコン基板が密着して載置される前記円盤部材の裏面外周部を支持する工程と、
前記シリコン基板を回転させながら、前記シリコン基板にシリコン(Si)含有膜を成膜する工程と、
を備えたことを特徴とする気相成長方法。
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JP2008241561A JP5264384B2 (ja) | 2008-09-19 | 2008-09-19 | 気相成長装置及び気相成長方法 |
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JP2008241561A JP5264384B2 (ja) | 2008-09-19 | 2008-09-19 | 気相成長装置及び気相成長方法 |
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- 2008-09-19 JP JP2008241561A patent/JP5264384B2/ja not_active Expired - Fee Related
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