JP5263266B2 - プラズマドーピング方法及び装置 - Google Patents
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Description
以下、本発明の実施の形態1について、図1〜図3を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態2について、図4〜図6を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態3について、図7〜図12を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態4について、図13を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態5について、図14を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態6について、図15〜図16を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態7について、図17を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態8について、図18を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態9について、図19を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態10について、図20を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態11について、図21を参照して説明する。
2 基材
T プラズマトーチユニット
3 導体棒
4 石英管
5 真鍮ブロック
6 蓋
7 チャンバ内部空間
8 プラズマガスマニホールド
9 プラズマガス供給穴
10 シースガスマニホールド
11 シースガス供給穴
12 プラズマ噴出口
13 シールドガスノズル
14 シールドガスマニホールド
15 冷却水配管
16 薄膜
17 真鍮ブロック
18 樹脂ケース
19 銅ブロック
20 銅板
22 冷却水マニホールド
41 プラズマガス供給配管
Claims (13)
- 原子または分子を、水素を含むガスを電離させることによって得られるプラズマの熱による昇華、または、水素を含むガスを電離させることによって得られるプラズマ中の活性種による化学的エッチングによって発生させ、前記プラズマを、表面が半導体である基材に照射することにより、前記原子または分子を前記半導体にドーピングすること
を特徴とするプラズマドーピング方法。 - ドーピングするのと同時に、前記半導体を活性化する、請求項1記載のプラズマドーピング方法。
- 前記原子または分子が、ボロン、アルミニウム、リン、砒素のいずれか1つを含有するものであり、前記半導体がシリコンである、請求項1記載のプラズマドーピング方法。
- 前記プラズマが発生する空間に、前記原子または分子を含有した粉体を導入する、請求項1記載のプラズマドーピング方法。
- 筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、前記チャンバに形成されたスリット状の開口部から前記基材に向けてガスを噴出すると共に、コイルに高周波電力を供給することで、前記チャンバ内に前記プラズマを発生させるプラズマドーピング方法であって、
前記開口部の長手方向に対して垂直な向きに前記チャンバと前記基材とを相対的に移動しながら前記基材の表面を処理する、請求項1記載のプラズマドーピング方法。 - 前記プラズマが発生する空間を画定する部材の一部が前記原子または分子を含有する材料で構成され、前記原子または分子を、前記半導体に対して部分的にドーピングする、請求項1記載のプラズマドーピング方法。
- 原子または分子を、プラズマの熱による昇華、または、プラズマ中の活性種による化学的エッチングによって発生させ、前記プラズマを、表面が半導体である基材に照射することにより、前記原子または分子を前記半導体にドーピングするプラズマドーピング方法において、
前記プラズマが発生する空間を画定する部材の一部が前記原子または分子を含有する材料で構成され、前記部材の一部とは別の一部が前記原子または分子とは別の原子または分子を含有する材料で構成され、前記原子または分子を、前記半導体に対して部分的にドーピングするとともに、前記原子または分子とは別の原子または分子を、前記半導体に対して、前記の部分とは別の部分にドーピングすることを特徴とするプラズマドーピング方法。 - 前記プラズマが発生する空間を画定する部材のほぼ全部が、前記原子または分子を含有する材料で構成されている、請求項1記載のプラズマドーピング方法。
- スリット状の開口部を備える筒状チャンバと、前記チャンバ内にガスを供給するガス導入口と、前記チャンバ内に高周波電磁界を発生させるコイルと、前記コイルに高周波電力を供給する高周波電源と、前記開口部と対向して配置され、かつ基材を保持する基材載置台と、を有し、原子または分子を、前記基材の表面をなす半導体にドーピングするプラズマドーピング装置であって、
前記筒状チャンバの長手方向と前記開口部の長手方向とは平行に配置され、
前記開口部の長手方向に対して垂直な向きに、前記チャンバと前記基材載置台とを相対的に移動可能とする移動機構を備え、
前記筒状チャンバの内壁面の少なくとも一部、または、前記筒状チャンバと前記基材載置台との間に設けられ、前記筒状チャンバの長手方向に延びた棒が、前記原子または分子を含有する材料で構成されていること
を特徴とするプラズマドーピング装置。 - 前記コイルはソレノイドコイルであり、前記コイルの延出方向と前記開口部の長手方向とは平行に配置されている、請求項9記載のプラズマドーピング装置。
- 前記コイルは、前記筒状チャンバの長手方向に平行に配置された複数の導体棒を、前記筒状チャンバの長手方向と垂直に配置された導体リンクにより接続してなるものであり、
前記導体棒は、誘電体筒内に挿入され、
前記誘電体筒の一部が前記筒状チャンバ内部の空間に露出するよう配置されている、請求項9記載のプラズマドーピング装置。 - 前記筒状チャンバの内壁面の一部が前記原子または分子を含有する材料で構成され、前記筒状チャンバの内壁面のうち、前記一部とは別の一部が、前記原子または分子とは別の原子または分子を含有する材料で構成されている、請求項9記載のプラズマドーピング装置。
- 前記筒状チャンバの内壁面のほぼ全部が、前記原子または分子を含有する材料で構成されている、請求項9記載のプラズマドーピング装置。
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