JP5262039B2

JP5262039B2 - 光学薄膜積層体

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Publication number: JP5262039B2
Application number: JP2007243683A
Authority: JP
Inventors: 茂信米山
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2007-09-20
Filing date: 2007-09-20
Publication date: 2013-08-14
Anticipated expiration: 2027-09-20
Also published as: JP2009075324A

Description

本発明は、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、パーソナルコンピューター部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等に用いられる光学薄膜積層体であって、光透過における写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体に関するものである。

携帯電話、ＰＤＡ、スマートフォン、携帯ゲーム機等の液晶ディスプレイ部に光透過性を有するカラーフィルムが貼り合わされることがある。液晶ディスプレイ部に光透過性のカラーフィルムを貼り合わせることによって、ディスプレイ点灯時はカラーフィルムを通して画像を視認でき、一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイを囲う筐体部をカラーフィルムと同じ色調の部材で構成すればディスプレイ部と筐体部の色調が同じになってカラーデザインの統一感を演出できる。

光透過性を有するカラーフィルムの作製は、無機や有機の着色顔料を分散剤に分散した着色剤をプラスチック樹脂に混合しておこなうのが一般的である。この方法は簡便、かつ生産コストが低いため広く用いられているが、しかし、着色剤がプラスチック樹脂中に均一に分散しないと色ムラが発生し、特に淡い色調でムラになり易いという問題がある。

一方で、金属光沢性を有するカラーフィルムが要望されている。例えば、携帯電話、携帯ゲーム機等の筐体部の彩色にはアルミニウムなどの金属フレーク、あるいは雲母フレークを混ぜた塗料を用いて金属光沢性を付与している。加えて、光透過性を有し、且つ、金属光沢性を有するカラーフィルムを液晶ディスプレイ部に貼り合わせれば、ディスプレイ部と筐体部の両方に金属光沢性を付与することが可能になり、一層の高級感を演出できるようになる。

カラーフィルムに金属光沢性を付与する方法としては、着色剤で彩色されたフィルムに金属材料を蒸着することで可能である。着色フィルム上に金属薄膜層が形成されるため十分な金属光沢が得られる（特許文献１参照）。金属材料の一例としてはアルミニウムが用いられている。アルミニウムの蒸着は比較的容易であり、蒸着レートは速く、安価であり、何より容易に白金色が出せるため一般に利用されている。しかし、この方法によって所望の色の金属光沢を持つフィルムを得るためには色毎の着色フィルムを用意する必要があるため工程管理が面倒になる。更には、着色フィルムに色ムラがあると、着色フィルム上に形成される金属薄膜層の反射により色ムラが拡大されて目立ってしまうという問題がある。

特開平１０−１３９０６３号公報

よって、本発明の目的は、光透過における写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体およびそれを用いた加飾成形品を提供することにある。

上記課題を解決するために請求項１に記載の発明は、基材上に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、
該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を各１層以上交互に積層した薄膜積層体であり、且つ、前記光学薄膜積層体が光透過における写像性を有し、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて８５％以上、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９０％以上、または光学くし幅１．５ｍｍにおいて９３％以上のいずれかであることを特徴とする光学薄膜積層体とした。

また、請求項２に記載の発明は、前記高屈折率薄膜層の光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上であり、且つ、
前記低屈折率薄膜層の光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満であり、且つ、
高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層が酸化物、窒化物、弗化物、硫化物の少なくとも一種類以上の材料から選択されることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜積層体とした。

また、請求項３に記載の発明は、前記薄膜積層体における高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層が、真空成膜法により形成されることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載の光学薄膜積層体とした。

また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の光学薄膜積層体を具備してなることを特徴とする加飾部材とした。

また、請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の光学薄膜積層体を成形してなることを特徴とする加飾成形品とした。

上記構成の光学薄膜積層体とすることにより、光透過における写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体およびそれを用いた加飾成形品とすることができた。

以下、本発明の光学薄膜積層体について、説明する。本発明の光学薄膜積層体にあっては、基材上に設けられる薄膜積層体が高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層を一層以上交互に積層した薄膜積層体であることを特徴とする。

図１は、本発明の光学薄膜積層体の一例を示す模式断面図である。この光学薄膜積層体１は、基材２と、基材２上に設けられた薄膜積層体３から構成されるものである。図１の薄膜積層体にあっては、基材側から順に高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層６を順に備える。

本発明の光学薄膜積層体にあっては、薄膜積層体の高屈折率薄膜層及び／または低屈折率薄膜層の光学干渉により、彩色を備える。また、本発明の光学薄膜積層体にあっては、薄膜積層体の高屈折率薄膜層及び／または低屈折率薄膜層を形成する材料により、金属光沢を備える。

本発明の光学薄膜積層体にあっては、薄膜積層体の高屈折率薄膜層及び／または低屈折率薄膜層の光学干渉により彩色を発現するため、薄膜積層体自体は透明性を有しており、さらには写像性を備えることが可能となる。

なお、本発明の光学薄膜積層体にあっては、基材上に形成される薄膜積層体は少なくとも高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層１層以上交互に積層していればよく、その構成は図１に限定されるものではない。高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層の物理膜厚は７ｎｍ以上２３０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層の膜厚を上記範囲内とすることにより、高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層を交互に備える薄膜積層体は、高屈折率薄膜層及び／または低屈折率薄膜層の光学干渉により、彩色を備える。

また、本発明の光学薄膜積層体にあっては、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて８５％以上であること、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度が、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９０％以上であること、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度が、光学くし幅１．５ｍｍにおいて９３％以上であることが好ましい。

本発明の光学薄膜積層体において、光透過法による像鮮明度を上記範囲内とすることにより、高い写像性を備える光学薄膜積層体とすることができる。なお、本発明にあっては、光透過法による像鮮明度は、ＪＩＳＫ７１０５に準拠して求めることができる。

本発明の薄膜積層体を形成する高屈折率薄膜層は、光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７５以上であり、酸化物、窒化物、弗化物、硫化物の少なくとも一種類以上の材料から選択され形成されていることが好ましい。また、本発明の薄膜積層体を形成する低屈折率薄膜層は、光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７５未満であり、酸化物、窒化物、弗化物、硫化物の少なくとも一種類以上の材料から選択され形成されていることが好ましい。

高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層の屈折率を上記範囲内とし、高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層の形成材料を酸化物、窒化物、弗化物、硫化物の少なくとも一種類以上の材料から選択し形成することにより、得られる光学薄膜積層体は光透過写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体とすることができる。

本発明の薄膜積層体を形成する高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層は真空成膜法により形成することができる。本発明の高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層は、その光学干渉により彩色を発現するため、面内において膜厚が均一であることが求められる。

真空成膜法では基材表面の形状を保持したまま薄膜を形成することが可能であり、真空成膜法で堆積していく薄膜形成材料のサイズはオングストロームオーダーの原子・分子であるため、例えば、マイクロメーターオーダーの微細な凹凸を有する基材上に成膜しても表面に均一の厚さで堆積して凹部分を埋めずに元の凹凸形状を保持する。したがって、高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層を真空成膜法により形成することにより、得られる光学薄膜積層体は色ムラのない表面加飾性を得ることができる。

本発明の光学薄膜積層体は、具体的には、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、パーソナルコンピューター部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等に適用され、加飾部材及び加飾成形品として用いられる。

本発明の光学薄膜積層体を、携帯電話、ＰＤＡ、スマートフォン、携帯ゲーム機等の液晶ディスプレイ表面に貼り合わせることによって、ディスプレイ点灯時はカラーフィルムを通して画像を視認でき、一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイを囲う筐体部をカラーフィルムと同じ色調の部材で構成すればディスプレイ部と筐体部の色調が同じになってカラーデザインの統一感を演出できる。

（基材）
本発明における基材２としては、透明性を有しているものであれば特に限定されるものではなく、プラスチック、ガラス、あるいはこれらを複合した素材が挙げられる。
プラスチック素材としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリパラキシレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルオキサイド、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、珪素樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＢＳアロイ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ガラス素材としては、例えば、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、これらプラスチック素材、ガラス素材を各種複合した素材でも構わない。

基材２の形状としては、表面が平滑であれば特に限定されず、板状、ロール状等のものを用いることができる。

基材２の表面は薄膜積層体を形成する前に、目的に応じて表面処理を施してもよい。表面処理法としては、例えば、コロナ処理法、蒸着処理法、電子ビーム処理法、高周波放電プラズマ処理法、スパッタリング処理法、イオンビーム処理法、大気圧グロー放電プラズマ処理法、アルカリ処理法、酸処理法等を用いることができる。

基材２の厚さは、目的の用途に応じて適宜選択され、通常５μｍ以上１０ｍｍ以下である。プラスチック素材には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含有されていてもよい。

（高屈折率薄膜層）
本発明における高屈折率薄膜層とは、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上２．５以下であり、消衰係数が０．５以下の層とすることができる。

高屈折率薄膜層の形成材料としては、例えば、インジウム、錫、チタン、珪素、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、クロム、白金、炭素、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、ガリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム、イットリウム、ロジウム、セレニウム、ユーロピウム、イッテルビウム、スカンジウム、プラセオジウム、サマリウム等の元素の酸化物、窒化物、弗化物、硫化物、または、酸化物、窒化物、弗化物、硫化物の混合物等が挙げられる。酸化物、窒化物、弗化物、硫化物の化学組成は、化学量論的な組成と一致しなくてもよい。

ここで、図１に示す高屈折率薄膜層５、および７とは、必ずしも同一の材料でなくてもよく、目的に合わせて適宜選択されるものである。

（低屈折率薄膜層）
本発明における低屈折率薄膜層とは、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．３以上１．７５未満、消衰係数が０．５以下の層とすることができる。

低屈折率薄膜層の形成材料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン、弗化ナトリウム、弗化アルミニウム、弗化炭素、弗化鉛、弗化ストロンチウム、弗化イッテルビウム、弗化ネオジウム、弗化リチウム、弗化サマリウム等の化合物、または、これら化合物の混合物等が挙げられる。これら化合物の化学組成は、化学量論的な組成と一致しなくてもよい。

本発明における高屈折率薄膜層および低屈折率薄膜層は、蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法により形成することができる。

屈折率、および、消衰係数の光学定数に関しては、分光エリプソメトリー法を用いて、高屈折率薄膜層試料、および、低屈折率薄膜層試料の表面から反射してくる光の偏光状態の変化を測定することで求めることが可能である。消衰係数に関しては、０．５より大きくなると光の吸収が大きくなるため、本発明の光反射性能を有するような薄膜の形成材料として好ましくない。

（薄膜積層体）
本発明における薄膜積層体３は、少なくとも高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層して形成されたものであり、本発明における光学薄膜積層体１は、基材２上に薄膜積層体３を形成してなされたものである。これによると、光透過写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体を得ることができる。

図１に示す光学薄膜積層体において、高屈折率薄膜層４の物理膜厚を１２ｎｍ以上２００ｎｍ以下とし、低屈折率薄膜層５の物理膜厚を４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とし、高屈折率薄膜層６の物理膜厚を１２ｎｍ以上２００ｎｍ以下とし、前記基材の薄膜積層体を形成した側に測定光源を設置し、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊が１５以上７５以下、ａ＊が１０以上８０以下、ｂ＊が−８０以上８０以下であることが好ましい。これによると、金属光沢と赤色の彩色、かつ、光透過写像性に優れた光学薄膜積層体１を得ることができる。

図１に示す光学薄膜積層体において、高屈折率薄膜層４の物理膜厚を１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下とし、低屈折率薄膜層５の物理膜厚を１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下とし、高屈折率薄膜層６の物理膜厚を１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下とし、前記基材の薄膜積層体を形成した側に測定光源を設置し、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊を１５以上６０以下、ａ＊を−２０以上７０以下、ｂ＊を−８０以上−１０以下とすることが好ましい。これによると、金属光沢と青色の彩色、かつ、光透過写像性に優れた光学薄膜積層体を得ることができる。

図１に示す光学薄膜積層体において、高屈折率薄膜層４の物理膜厚を１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とし、低屈折率薄膜層５の物理膜厚を１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とし、高屈折率薄膜層６の物理膜厚を１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とし、前記基材の薄膜積層体を形成した側に測定光源を設置し、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊を１５以上８０以下、ａ＊を−３５以上３５以下、ｂ＊を−２０以上２０以下とすることが好ましい。これによると、金属光沢と銀色の彩色、かつ光透過写像性に優れた光学薄膜積層体を得ることができる。

図１に示す光学薄膜積層体において、高屈折率薄膜層４の物理膜厚を８ｎｍ以上２３０ｎｍ以下とし、低屈折率薄膜層５の物理膜厚を７ｎｍ以上２１０ｎｍ以下とし、高屈折率薄膜層６の物理膜厚を８ｎｍ以上２３０ｎｍ以下とし、前記基材の薄膜積層体を形成した側に測定光源を設置し、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡ
Ｂ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊を１５以上８０以下、ａ＊を−３０以上３０以下、ｂ＊を５以上７０以下とすることが好ましい。これによると、金属光沢と黄色の彩色、かつ光透過写像性に優れた光学薄膜積層体を得ることができる。

図１に示す光学薄膜積層体において、高屈折率薄膜層４の物理膜厚を１０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下とし、低屈折率薄膜層５の物理膜厚を１２ｎｍ以上２００ｎｍ以下とし、高屈折率薄膜層６の物理膜厚を１０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下とし、前記基材の薄膜積層体を形成した側に測定光源を設置し、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊を１５以上８０以下、ａ＊を−７５以上−５以下、ｂ＊を−４５以上４５以下とすることが好ましい。これによると、金属光沢と緑色の彩色、かつ光透過写像性に優れた光学薄膜積層体を得ることができる。

なお、本発明の光学薄膜積層体におけるＣＩＥＬＡＢの明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊、ｂ＊は、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光を用いて、ＪＩＳＺ８７２９に準拠して測定したものであり、薄膜積層体４を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、測定光源は基材２の薄膜積層体４を形成した側に設置している。

本発明の光学薄膜積層体における全光線透過率は２０％以上９８％以下であることが好ましい。本発明の光学薄膜積層体における全光線透過率は、ＪＩＳＫ７３６１−１に準拠して測定されたものであり、測定光源は基材２の薄膜積層体４を形成した側に設置されている。全光線透過率が２０％より低いと透過度が低すぎるために、視認性が低下する。また、全光線透過率が９８％より高いと反射率が低すぎるために、反射色が明瞭でなく、金属光沢や彩色などの装飾性が劣る。

図１には、基材２に近い側から高屈折率薄膜層５、低屈折率薄膜層６、高屈折率薄膜層７の３層が順次積層してなる薄膜積層体３が示されているが、これは一実施例にすぎず、基材２上に高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を各１層以上交互に積層していれば、２層であっても、４層以上であってもよく、層数に制限はない。

本発明の光学薄膜積層体を、携帯電話、ＰＤＡ、スマートフォン、携帯ゲーム機等の液晶ディスプレイ部に貼り合わせることによって、ディスプレイ点灯時は光学薄膜積層体を通して歪み、ぼやけの無い明瞭な画像を視認でき、一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイを囲う筐体部を光学薄膜積層体と同じ色調の部材で構成すればディスプレイ部と筐体部の色調が同じになってカラーデザインの統一感を演出できる。

さらに、本発明の光学薄膜積層体を、携帯電話、テレビ、ラジオ、カーナビゲーション等の電波を送信・受信する機器の筐体部分の部材に用いる場合は、電波の反射・散乱によるアンテナの送信・受信感度の減衰や乱れを避けるために、光学薄膜積層体を構成する基材、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層からなる薄膜積層体に誘電性を有する材料を用いることが好ましい。誘電性を有する材料を用いることによって、電波の反射・散乱によるアンテナの送信・受信感度の減衰や乱れを避けることができ、かつ、光透過写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体を提供することが可能である。

以下、本発明の実施例を具体的に説明する。

［実施例１］
図１に示すように、基材２である、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層６からなる薄膜積層体３を以下のように形成した。

まず、次のように薄膜積層体３を形成した。
基材２上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚５０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。

高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚６０ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。

低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚３５ｎｍの高屈折率薄膜層６を形成し、薄膜積層体３を完成させた。

薄膜積層体３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊が４３．１、ａ＊が０．８、ｂ＊が−４７．３であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、透過光における視感平均透過率Ｙが８０．８％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて９３．５％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９６．８％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅１．５ｍｍにおいて９７．８％であった。

上記した分光測定は、Ｕ−４０００形自記分光光度計（株式会社日立製作所製）を用いておこなった。測定手順は次に示すとおりである。まず、反射明度、および反射彩度の場合、光学薄膜積層体１の薄膜積層体３を形成した側と反対側の基材２表面全面を黒い塗料でムラの出ないように塗りつぶした。黒い塗料で塗りつぶした基材２を太陽光の自然光あるいは蛍光灯などの人工光にかざして、基材２を通して光が漏れていないか確認した。基材２の黒塗りしなかった面側をＵ−４０００形自記分光光度計の測定光源に向けて設置した。このとき、薄膜積層体を形成した基材２表面における鉛直線に対して測定光が５°の角度を持って基材２表面に入射するように設置した。基材２表面で正反射される光の方向で、かつ、２°視野になる位置に測光器を設置して可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）における分光反射率を測定し、ＪＩＳＺ８７０１に規定される三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求めた。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚの計算は５ｎｍ間隔で実施した。続いて、三刺激値を用いてＪＩＳＺ８７２９に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系の明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊、ｂ＊を求めた。

次に、視感平均透過率の場合、光学薄膜積層体１の薄膜積層体３を形成した側をＵ−４０００形自記分光光度計の測定光源に向けて設置した。このとき、薄膜積層体を形成した基材２表面における鉛直線に対して測定光が５°の角度を持って基材２表面に入射するように設置した。基材２を透過した光の方向で、かつ、２°視野になる位置に測光器を設置して可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）における分光透過率を測定し、ＪＩＳＺ８７０１に規定される三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求めた。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚの計算は５ｎｍ間隔で実施した。

光学薄膜積層体１を携帯電話の液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、ディスプレイ点灯時は光学薄膜積層体を通して画像の歪み、ぼやけが無く、視認性が明瞭であった。一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイ部が金属光沢を有する青色の彩色を有する加飾性のため高級感が演出されていた。

上記した像鮮明度の測定は、写像性測定器ＩＣＭ−１ＤＰ（スガ試験機株式会社製）を用いておこなった。測定手順は次に示すとおりである。まず、写像性測定器ＩＣＭ−１ＤＰの光源、試料片取付け台、受光器が直線上に並ぶように機具を配置した。次に、光学薄膜積層体１の薄膜積層体３を形成した側を写像性測定器ＩＣＭ−１ＤＰの測定光源に向けて設置した。このとき、薄膜積層体を形成した基材２表面における鉛直線方向から測定光が基材表面に入射するように設置した。光学くしを試験片と受光器の間で移動させて、試験片を透過した光の受光波形を測定し、それぞれの光学くし幅のときの像鮮明度をＪＩＳＫ７１０５に規定される計算式によって求めた。測定の基準に関しては、上記測定条件において試験片無しの状態の像鮮明度を１００％とした。測定に際しては、正確な像鮮明度測定が実施できるように試験片にて予め受光器の感度調整をおこなった。

［実施例２］
図２に示すように、基材２である、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層６、低屈折率薄膜層７、高屈折率薄膜層８からなる薄膜積層体３を以下のように形成した。

まず、次のように薄膜積層体３を形成した。
基材２上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚６０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。

高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚９５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。

低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚９５ｎｍの高屈折率薄膜層６を形成した。

高屈折率薄膜層６の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚１２５ｎｍの低屈折率薄膜層７を形成した。

低屈折率薄膜層７の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚６０ｎｍの高屈折率薄膜層８を形成し、薄膜積層体３を完成させた。

薄膜積層体３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊が７１．１、ａ＊が４２．９、ｂ＊が−０．７であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、透過光における視感平均透過率Ｙが５４．２％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて９８．０％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９８．２％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅１．５ｍｍにおいて９８．５％であった。

光学薄膜積層体１を携帯電話の液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、ディスプレイ点灯時は光学薄膜積層体を通して画像の歪み、ぼやけが無く、視認性が明瞭であった。一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイ部が金属光沢を有する赤色の彩色を有する加飾性のため高級感が演出されていた。

［実施例３］
図１に示すように、基材２である、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層６からなる薄膜積層体３を以下のように形成した。

まず、次のように薄膜積層体３を形成した。
基材２上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚６０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。

高屈折率薄膜層４の上に、二弗化マグネシウム（ＭｇＦ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚６５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。

低屈折率薄膜層５の上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚１６５ｎｍの高屈折率薄膜層６を形成し、薄膜積層体３を完成させた。

薄膜積層体３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊が７３．１、ａ＊が−４４．８、ｂ＊が０．７であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、透過光における視感平均透過率Ｙが５１．８％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９８．３％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅１．５ｍｍにおいて９８．８％であった。

光学薄膜積層体１を携帯電話の液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、ディスプレイ点灯時は光学薄膜積層体を通して画像の歪み、ぼやけが無く、視認性が明瞭であった。一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイ部が金属光沢を有する緑色の彩色を有する加飾性のため高級感が演出されていた。

［実施例４］
図１に示すように、基材２である、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層６からなる薄膜積層体３を以下のように形成した。

まず、次のように薄膜積層体３を形成した。
基材２上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚７０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。

高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚１０５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。

低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚１９５ｎｍの高屈折率薄膜層６を形成し、薄膜積層体３を完成させた。

薄膜積層体３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊が７３．０、ａ＊が−２．３、ｂ＊が４９．７であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、透過光における視感平均透過率Ｙが５１．７％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて９７．１％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９７．５％であった。

光学薄膜積層体１を携帯電話の液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、ディスプレイ点灯時は光学薄膜積層体を通して画像の歪み、ぼやけが無く、視認性が明瞭であった。一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイ部が金属光沢を有する黄色の彩色を有する加飾性のため高級感が演出されていた。

［実施例５］
図１に示すように、基材２である、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層６からなる薄膜積層体３を以下のように形成した。

まず、次のように薄膜積層体３を形成した。
基材２上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚１０５ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。

低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚２５ｎｍの高屈折率薄膜層６を形成し、薄膜積層体３を完成させた。

薄膜積層体３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊が５５．１、ａ＊が−１．４、ｂ＊が−２．８であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、透過光における視感平均透過率Ｙが７２．１％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて９５．１％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９５．５％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅１．５ｍｍにおいて９５．９％であった。

光学薄膜積層体１を携帯電話の液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、ディスプレイ点灯時は光学薄膜積層体を通して画像の歪み、ぼやけが無く、視認性が明瞭であった。一方、ディスプレイ消灯時はディスプレイ部が金属光沢を有する銀色の彩色を有する加飾性のため高級感が演出されていた。

［実施例６］
図１に示すように、基材２である、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層６からなる薄膜積層体３を以下のように形成した。

まず、次のように薄膜積層体３を形成した。
基材２上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚１１０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。

高屈折率薄膜層４の上に、二弗化マグネシウム（ＭｇＦ_２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚４０ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。

低屈折率薄膜層５の上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚５０ｎｍの高屈折率薄膜層６を形成し、薄膜積層体３を完成させた。

薄膜積層体３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳＺ８７２９に準拠）のＬ＊が６５．９、ａ＊が−０．６、ｂ＊が−０．１であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、透過光における視感平均透過率Ｙが６１．２％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて９５．６％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９６．０％であった。

基材２の薄膜積層体３を形成した側に測定光源を設置したとき、薄膜積層体を形成した基材表面における鉛直線に対して測定光が０°の角度を持って基材表面に入射したときの光透過の像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅１．５ｍｍにおいて９６．６％であった。

図１は本発明の光学薄膜積層体の一例を示す断面図である。図２は本発明の光学薄膜積層体の一例を示す断面図である・。

符号の説明

１光学薄膜積層体
２基材
３薄膜積層体
４高屈折率薄膜層
５低屈折率薄膜層
６高屈折率薄膜層
７低屈折率薄膜層
８高屈折率薄膜層

Claims

基材上に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、
該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を各１層以上交互に積層した薄膜積層体であり、且つ、前記光学薄膜積層体が光透過における写像性を有し、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度（ＪＩＳＫ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて８５％以上、光学くし幅０．５ｍｍにおいて９０％以上、または光学くし幅１．５ｍｍにおいて９３％以上のいずれかであることを特徴とする光学薄膜積層体。
前記高屈折率薄膜層の光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上であり、且つ、
前記低屈折率薄膜層の光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満であり、且つ、
高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層が酸化物、窒化物、弗化物、硫化物の少なくとも一種類以上の材料から選択されることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜積層体。
前記薄膜積層体における高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層が、真空成膜法により形成されることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載の光学薄膜積層体。
請求項１乃至３のいずれかに記載の光学薄膜積層体を具備してなることを特徴とする加飾部材。
請求項１乃至４のいずれかに記載の光学薄膜積層体を成形してなることを特徴とする加飾成形品。