JP5252586B2 - レーザー駆動光源 - Google Patents
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Description
この種の分野において使用される光源は、水銀または希ガス(キセノンガス)を封入したガラス管球内で電極間にアーク放電を発生させるタイプのものであったが、電極がアーク放電に曝されるため、極めて高温になって徐々に蒸発することが避けられなかった。
この電極から蒸発した金属は、管球内壁面に付着して紫外域の波長透過性を変化させるので、点灯時間が経過するにつれて、光源の発光強度とスペクトルとを徐々に変化させる、という問題があった。
しかしながら、高温プラズマに照射されたレーザー光の全てが高温プラズマに吸収される訳ではなく、高温プラズマを透過したレーザー光が石英バルブから発した光と共に出射することが頻繁にあった。この高温プラズマを透過したレーザー光の強度は、石英バルブから発する光に対して無視することができない位に高いことが確認された。それ故に、レーザー駆動光源の周辺機器等が、高温プラズマを透過したレーザー光線に曝されることによって破壊される、といった不具合を生じる惧れがあった。ところが、上記のレーザー駆動光源においては、高温プラズマを透過したレーザー光についての対策が検討されていなかった。
図13に示すレーザー駆動光源130は、パルス状のレーザー光線を発振するレーザー発振器131と、レーザー光を適当な形状にして伝達する光学系部材132,133と、伝達されたレーザー光を管球内の焦点に集光させる集光用光学系部材134と、キセノンガス等の希ガス、アルゴンガスおよび水銀蒸気などを封入した管球135と、管球135を透過したレーザー光をもう一度管球内へ入射させるための反射光学系部材136とを備える。
レーザー光線を吸収して発熱した光線遮蔽部材は、プランクの法則にしたがって管球に向けて赤外〜遠赤外の波長域の光を放射して管球を輻射加熱し、管球を高温化して管球内に封入された金属の蒸気圧を上昇させる。この状態の管球内においては、管球内に集光されたレーザー光線によって金属が確実に励起して、管球内の焦点位置に安定したプラズマが生成する。したがって、本発明のレーザー駆動光源によれば、管球内に生成したプラズマから放出される光の出力を、高いレベルで安定させることができる。
図1は、本発明の第1の実施例のレーザー駆動光源の基本構成を示す断面図である。本実施例のレーザー駆動光源は、管球内に電極を有しない、無電極タイプの光源である。また、本実施例のレーザー駆動光源は、プラズマに吸収されずにそれを透過したレーザー光線を吸収することによって遮蔽する光線遮蔽部材を備える。
管球3は、凹面反射鏡1に対し、封止部32が凹面反射鏡1の光出射開口12側に位置するように配置されているので、レーザー光線L1が封止部32によって遮られることがない。
反射面11は、管球3が発した光LXを反射する誘電体多層膜により構成されている。反射面11は、例えば、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層とを交互に積層してなる誘電体多層膜により構成されている。例えば、反射面11は、HfO2(酸化ハフニウム)およびSiO2(酸化シリコン)を交互に積層してなる誘電体多層膜、または、Ta2O5(酸化タンタル)およびSiO2(酸化シリコン)を交互に積層してなる誘電体多層膜等によって構成されている。
なお、反射面11は、回転放物面形状に限らず、回転楕円形状を有するものであっても良い。
光線遮蔽部材S1は、プラズマPを透過したレーザー光線L2を効果的に吸収するために、レーザー光線の焦点Fよりもレーザー光線L2の進行方向に位置する封止部32側において、レーザー光線L1の光軸LAに対して直交するように配置されている。
なお、光線遮蔽部材S1の光軸LAに直交する方向の幅は、レーザー光線L1の入射角および管球3の焦点Fと、光線遮蔽部材S1との間の距離に応じて適宜設定される。
(始動時)
まず、レーザー駆動光源の始動時の動作について図2(A)に基いて説明する。以下では、管球3内の焦点Fにレーザー光線L1を集光開始してから、管球3内に封入した放電媒体としての発光用金属が完全に蒸発するまでの期間を始動時と呼ぶ。
レーザー源4から発振される連続またはパルス状のレーザー光線L1は、光学系部材2によって管球3内の焦点Fに集光される。レーザー駆動光源の始動時においては、管球3内の発光用金属の蒸気圧は非常に低いため、焦点Fに集光したレーザー光線L1の全てのエネルギーがプラズマを生成するために費消されず、管球3内の焦点Fには極めて小さいプラズマPが形成される。
つまり、管球3内の焦点Fに集光したレーザー光線L1は、その大部分は焦点Fを通過するものの、光線遮蔽部材S1に吸収され、管球3の外部へ放出されることが防止される。
光線遮蔽部材S1は、レーザー光線L2を吸収して発熱し、図2(A)に示すように、管球3の発光部31に向けて赤外〜遠赤外の波長域の熱線T1を輻射し、発光部31を輻射加熱し、管球3内に封入した発光用金属の蒸気圧を上昇させる。これに伴い、管球3内の焦点Fに形成されたプラズマPは、次第に大きくなり発光強度が徐々に増加する。
次に、レーザー駆動光源の定常時の動作について図2(B)に基いて説明する。以下では、管球3内の発光用金属の蒸気圧が所定のレベルで安定し、焦点Fに形成されたプラズマPの大きさが一定になった時を定常時と呼ぶ。
定常時においては、管球3内の焦点Fに集光したレーザー光線L1によって発光用金属が確実に励起され、焦点Fに形成されるプラズマPが一定の大きさに収束し、プラズマPから所定のレベルで安定した強度の光が放出される。管球内に発光用金属として水銀が封入されている場合は、例えば波長365nmのi線が発光部31の外方へ放出される。
定常時においては、レーザー光線L1をプラズマPに照射し続ける。これは、管球3内に生成したプラズマPを消滅させないためである。プラズマPに照射されたレーザー光線L1のうちの一部は、プラズマPに吸収されることなく焦点Fを通過する(図2(B)のL2を参照)。例えば、1KWのYAGレーザーを管球内に照射した場合は、プラズマPを透過したレーザー光線L2の出力は約150Wである。
プラズマPを透過したレーザー光線L2は光線遮蔽部材S1に吸収される。光線遮蔽部材S1はレーザー光線L2を吸収して発熱し、図2(B)に示すように、管球3の発光部31に向けて赤外〜遠赤外の波長域の熱線T1を輻射し、管球3の発光部31を輻射加熱する。
これに伴い、定常時の管球3においては、発光部31が常に高温状態になり、発光用金属が完全に蒸発して蒸気圧が高い状態で安定するので、発光用金属によってレーザー光線L1が確実に吸収される。したがって、管球3内に生成したプラズマPが消滅することがなく、プラズマPから所定のレベルで安定した強度の光が放出される。
第1に、管球3内に生成したプラズマPを透過したレーザー光線L2が光線遮蔽部材S1によって確実に遮蔽されるため、レーザー駆動光源100の周辺機器等が、管球3内に生成したプラズマPを透過したレーザー光線L2に曝されることによって破壊される、という不具合を生じる惧れがない。
第2に、光線遮蔽部材S1が、プラズマPに吸収されずにそれを透過したレーザー光線L2を吸収して発熱し、管球3内に封入された放電媒体としての発光用金属の蒸気圧を速やかに上昇させるとともに高レベルで安定させることにより、管球3内に生成したプラズマPが消滅することなく維持されるため、プラズマPから安定した出力の光を放出することができる。
なお、ビームダンパーS22の成す角度θは、レーザー光線L2が吸収されずにビームダンパーS22の外部へ出ることがない程度の角度に設定されている。
光線遮蔽部材S2は、上記のように、複数のビームダンパーS22がレーザー光線L2の照射側の表面S21に形成されており、管球3内のプラズマPを透過したレーザー光線L2が効率良く吸収されるため、発熱し易い構造になっている。
上記したように、ビームダンパーS22を成す溝の角度θは、入射したレーザー光線L2がビームダンパーS22の外部に出ることがない角度に設定されている。したがって、ビームダンパーS22内に入射したレーザー光線L2は、ビームダンパーS22の内側に向かって多数回にわたり反射誘導され、最終的にはビームダンパーS22によって完全に吸収される。
ビームダンパーS22は、管球3の焦点Fに生成したプラズマPを透過したレーザー光線L2を効率良く吸収するので、光線遮蔽部材S2が容易に発熱する。光線遮蔽部材S2は、管球3の発光部31に向けて赤外〜遠赤外の波長域の熱線T1を輻射し、管球3の発光部31を輻射加熱する。
したがって、レーザー駆動光源101は、管球3内の発光用金属の蒸気圧がより速やかに上昇するとともに高レベルで安定し易くなり、管球3内に生成したプラズマPが消滅することなく維持されるため、プラズマPから安定した出力の光を放出することができる。
光線遮蔽部材S2は、例えば高融点金属からなる基板の表面に対して黒色アルマイト処理をしたり或いはカーボンブラックを塗布したものでも良いし、また、有機色素あるいは有機顔料を含有したセラミックス基板でも良いし、さらには、光線遮蔽部材S2の表面に微粒子のタングステンパウダーを焼結等により付着させたものでも良い。
このようにすることで、光線遮蔽部材S2の実効的表面積が増加し、管球3内に生成したプラズマPを透過したレーザー光線L2を吸収して発熱し易くなり、管球3の発光部31を効果的に輻射加熱することができる。
図4のレーザー駆動光源102は、光線遮蔽部材S3の形状が図1,2に示す光線遮蔽部材S1と異なることを除き、第1の実施例のレーザー駆動光源100と同じ構成を備えるので、図1,2と共通する構成については図1,2と同一符号を付すことにより説明を省略する。
凹凸部S31のピッチは例えば1μm〜1mmの範囲である。凹凸部S31のピッチは、図4(B)に示すように、凹凸部S31において隣接する凸部S32および凸部S33のそれぞれの頂点を通過し、かつ、レーザー光線の光軸LAに平行に伸びる一対の仮想線K1およびK2の間の距離を意味する。
図5のレーザー駆動光源103は、光線遮蔽部材S4の形状が図1に示す光線遮蔽部材S1と異なることを除き、第1の実施例のレーザー駆動光源100と同じ構成を備えるので、図1,2と共通する構成については図1,2と同一符号を付すことにより説明を省略する。
微細な凹凸部S41は、光線遮蔽部材S4の表面積を増やし、管球3の焦点Fに生成したプラズマPを透過したレーザー光線L2を効率良く吸収するとともに、光線遮蔽部材S4からの熱放射を促進する。
円柱状の凹部S42は、光線遮蔽部材S4の表面積を増やし、且つ光線遮蔽部材S4を軽量化する。凹凸部S41のピッチは、上記した光線遮蔽部材S4の凹凸部S41と同じく1μm〜1mmである。
図6のレーザー駆動光源104は、光線遮蔽部材S5の形状が図1に示す光線遮蔽部材S1と異なることを除き、第1の実施例のレーザー駆動光源100と同じ構成を備えるので、図1,2と共通する構成については図1,2と同一符号を付すことにより説明を省略する。
したがって、レーザー駆動光源101乃至104によれば、管球3内の発光用金属の蒸気圧が速やかに上昇するとともに上昇後に高いレベルで安定し、管球3内に生成したプラズマPが消滅することなく維持され、プラズマPから安定した出力の光を放出することができる。
図7は、本発明の第2の実施例のレーザー駆動光源の基本構成を示す断面図である。本実施例のレーザー駆動光源は、管球内に電極を有する、有電極タイプの光源である。また、本実施例のレーザー駆動光源は、プラズマに吸収されずにそれを透過したレーザー光線を吸収することによって遮蔽する光線遮蔽部材を備える。
なお、図7のレーザー駆動光源200は、図1に示すレーザー駆動光源100と共通する構成については、図1と同一符号を付すことにより、説明を省略する。
同図に示すレーザー駆動光源200は、レーザー源4、光学系部材2および管球7がレーザー光線L1の光軸LA上において、この順通りに凹面反射鏡1の光軸LA上に一直線に並んで配置されている。
例えば、放電媒体として水銀を封入した場合は、管球12から水銀の発光である波長365nmの紫外光を発する。水銀の封入量は、例えば2〜70mg/ccである。希ガスは、キセノンガスに加え、アルゴンガス若しくはハロゲンガスの一種以上を封入しても良い。なお、放電媒体として、上記以外に、カドミウム、亜鉛、錫等を封入することもできる。
電極74,75は、それぞれの一端部741,751が密閉空間77内に伸び出すと共に、密閉空間77において所定の距離を隔てて互いに向き合って配置されている。
また、電極74および75は、それぞれの他端部742,752が封止部72,73の外方へ伸び出して、不図示の給電装置に電気的に接続されている。これら電極74,75の極間中心位置は、図7に示すように、凹面反射鏡1の焦点Fに一致する。
第2の実施例のレーザー駆動光源200の管球7は、上記した電極74,75を備えているので、管球7の始動時において電極74および75の間を容易に絶縁破壊することができるため、プラズマPを電極74および75の間の極間中心位置に容易に生成することができる。
光線遮蔽部材S2は、図8(B)に示すように、全体として鉤状に形成された支持部材76によって、電極74,75に対して平行方向に伸びるようにして電極74に固定され、発光部71の密閉空間77内に配置されている。
これら光線遮蔽部材S2および支持部材76は、それぞれ例えばタングステン、タンタルおよびモリブデン等の高融点金属によって構成されている。
光線遮蔽部材S2は、プラズマPを透過したレーザー光線L2の照射側の表面S21において、その内側に向ってV字型に次第に狭くなる複数のビームダンパーが形成されている。ビームダンパーは、図3と同様の構成を有しており、これについては前述したとおりの構成を有するので、説明は省略する。
管球7の一対の電極74および75に高電圧が印加されることにより、電極74および75の極間が絶縁破壊され、電極74および75の極間中心位置に予備放電が形成される。
この状態で、レーザー源4は、光学系部材2に向けてレーザー光線L1を出射する。レーザー光線L1は、光学系部材2によって管球7の電極74および75の極間中心位置に集光され、電極74および75の極間中心位置に生成した予備放電に照射される。電極74および75の極間中心位置には、予備放電に対してレーザー光線L1が照射されることによって、高輝度のプラズマPが生成する。
プラズマPから発した光LXは、凹面反射鏡1の反射面11によって光軸LAと平行方向に反射され、光出射開口12から凹面反射鏡1の外部へ放出される。
一方、プラズマPに吸収されずにそれを透過したレーザー光線L2は、図8(B)に示すように、管球7の密閉空間77内に配置された光線遮蔽部材S2に入射して、前述したように、V字型のビームダンパーS22(図3参照)の内部で多数回にわたり反射誘導され、最終的に吸収、減衰する。
しかも、本実施例のレーザー駆動光源200によれば、光線遮蔽部材S2が、プラズマPに吸収されずにそれを透過したレーザー光線を吸収して発熱することにより管球7を加熱するので、管球7内に封入された発光用金属の蒸気圧がより速やかに上昇するとともに高レベルで安定し易くなり、管球7内に生成したプラズマPが消滅することなく維持されるため、プラズマPから安定した出力の光を放出することができる。
凹面反射鏡1は、回転放物面形状を有する反射面11と、プラズマPから発した光を出射する光出射開口12と、光学系部材2を配置するための側方開口14とを備えている。
光線遮蔽部材S2は、図3に示すV字型のビームダンパーS22が形成されており、光線遮蔽部材32の管軸Xが凹面反射鏡1の光軸LAに対して平行となる姿勢で、プラズマPを透過したレーザー光線の光路上においてプラズマPの近傍に配置されている。
一方、プラズマPに吸収されずにそれを透過したレーザー光線は、管球7の密閉空間77内に配置された光線遮蔽部材S2に入射し、前述したように図3に示すV字状のビームダンパーS22の内部で多数回にわたり反射誘導され、最終的に光線遮蔽部材S2によって吸収、減衰される。
反射部材5は、高温のプラズマPから発する光LXの光路上に、凹面反射鏡1の光軸LAに対して傾斜した状態で配置されている。反射部材5の表面には、プラズマPから発する光LXを透過すると共に、レーザー光線L1を管球7の方向へ反射する誘電体多層膜からなる反射面が形成されている。この反射部材5に設けられた誘電体多層膜からなる反射面については、凹面反射鏡1の反射面11と同じであり、これについては前述したとおりであるので、説明は省略する。
一方、プラズマPに吸収されずにそれを透過したレーザー光線は、管球7内の密閉空間77内に配置された光線遮蔽部材S2に入射して、前述したように図3に示すV字状のビームダンパーS22の内部で多数回にわたり反射誘導され、最終的に光線遮蔽部材S2によって吸収、減衰される。
図11は、第3の実施例のレーザー駆動光源の基本構成を示す断面図である。本実施例のレーザー駆動光源は、管球内に電極を有する有電極タイプの光源である。
また、本実施例のレーザー駆動光源は、プラズマに吸収されずにそれを透過したレーザー光線を反射することによって遮蔽する光線遮蔽部材を、管球内に備えることが、第1および第2の実施例のレーザー駆動光源と相違する。(第1および第2の実施例のレーザー駆動光源は、プラズマに吸収されずにそれを透過したレーザー光線を、管球内に配置した光線遮蔽部材で吸収することによって遮蔽するものである。)
なお、図11に示すレーザー駆動光源300は、図7,8に示すレーザー駆動光源200と共通する構成については、図7,8と同一符号を付すことにより、説明を省略する。
図12(A)に示す管球8は、例えば石英ガラスによって構成される略球状の発光部81およびその両端のそれぞれに連続して管軸X方向に伸びるロッド状の封止部82および83と、発光部81の内部に形成された密閉空間87と、発光部81の封止部82および83にそれぞれ埋設された棒状の電極84および85と、密閉空間87内に配置され、高温のプラズマPを透過したレーザー光線L2を反射して遮蔽する光線遮蔽部材R1(図12(B)参照)と、光線遮蔽部材R1を電極84に固定するための支持部材86とを備えている。
光線遮蔽部材R1は、タングステン、タンタル、モリブデン等の高融点金属からなる基板上に、誘電体多層膜で構成された反射面R11を備えて構成される。反射面R11は、レーザー源4から出射したレーザー光線L1を殆ど吸収することなく、凹面反射鏡1の外方へ反射するように、誘電体多層膜の材質および膜数が適宜設計されている。
なお、光線遮蔽部材R1の反射面R11は、上記したような誘電体多層膜に限られず、例えば上記の高融点金属からなる基板の表面を研磨することによって鏡面加工したものでも良い。
図12(B)に示されるように、光線遮蔽部材R1の反射面R11と管球8の管軸Xとで成す角θは、反射面R11に入射したレーザー光線L1が光線吸収部材AB1の方向に反射されるように適宜設定されている。
一方、高温のプラズマPに吸収されずにそれを透過したレーザー光線L2は、図12(A)に示すように、管球8内の密閉空間87内に配置された光線遮蔽部材R1の反射面R11に入射すると共に、反射面R11によって凹面反射鏡1の外方に設置された光線吸収部材AB1に向けて反射され、前述したように、図3に示すV字型の溝状のビームダンパーS22で多数回にわたり反射誘導されることによって、光線吸収部材AB1に設けられたビームダンパーS22に吸収される。
このように、プラズマPを透過したレーザー光線L2は、光線遮蔽部材R1によって凹面反射鏡1の外方へと反射され、最終的には光線吸収部材AB1によって吸収、減衰する。
したがって、本実施例のレーザー駆動光源300によれば、その周辺機器等が、管球8内のプラズマPを透過したレーザー光線L2に曝されることによって破壊される、という不具合を生じることがない。
例えば、光線遮蔽部材R1は、銅、アルミニウムおよび銀のいずれかよりなる基板の表面を梨地加工することで凹凸形状に形成された散乱反射面を有するようにしても良いし、また、耐熱性および加工性に優れた樹脂からなる基板の表面を梨地加工することで凹凸形状に形成すると共に、当該基板の表面に銅、アルミニウムおよび銀のいずれかよりなる金属を塗布して散乱反射面を形成しても良い。
このようにすれば、プラズマPに吸収されずにそれを透過したレーザー光線L2が、光線遮蔽部材R1の散乱反射面に入射した後に、散乱反射面の周囲に向けて拡散反射することによって遮蔽されるため、上記の光線吸収部材AB1を省略することができる。
1 凹面反射鏡
2 光学系部材
3 管球
31 発光部
32 封止部
33 金属箔
34 支柱
35 密閉空間
S1〜S5 光線遮蔽部材
S22 ビームダンパー
S31 凹凸部
S41 凹凸部
S42 凹部
S51 線状部
4 レーザー源
7 管球
71 発光部
72,73 封止部
74,75 電極
76 支持部材
77 密閉空間
8 管球
81 発光部
82,83 封止部
84,85 電極
86 支持部材
87 密閉空間
R1 光線遮蔽部材
AB1 光線吸収部材
Claims (17)
- 放電媒体を封入した管球を備え、前記管球内に集光させたレーザー光線によって前記管球内にプラズマを生成するレーザー駆動光源において、
前記管球内には、前記管球内に生成したプラズマを透過したレーザー光線を遮蔽する光線遮蔽部材が設けられていることを特徴とするレーザー駆動光源。 - 前記放電媒体が金属であり、
前記光線遮蔽部材が、前記管球内に生成したプラズマを透過したレーザー光線を吸収して発熱することを特徴とする請求項1記載のレーザー駆動光源。 - 前記光線遮蔽部材には、前記管球内に生成したプラズマを透過したレーザー光線を反射誘導して吸収するビームダンパーが設けられていることを特徴とする請求項2記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材は、その輻射率を高めるための表面加工が施されていることを特徴とする請求項2記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材には、ピッチが1μm〜1mmの範囲内である凹凸部が設けられていることを特徴とする請求項2記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材の、前記管球内に生成したプラズマを透過したレーザー光線が照射される表面に、タングステンパウダーを焼結したことを特徴とする請求項2記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材が、タングステン、モリブデン、タンタルおよびレニウムの何れか一種以上の金属によって構成されることを特徴とする請求項2記載のレーザー駆動光源。
- 前記管球内に封入された放電媒体が水銀を含むことを特徴とする請求項2記載のレーザー駆動光源。
- 前記管球内に封入された放電媒体が、水銀および希ガスの何れか一種以上を含むことを特徴とする請求項1記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材が、前記管球内に伸び出るように配置された支持部材によって支持されていることを特徴とする請求項1記載のレーザー駆動光源。
- 前記管球内に、互いに向き合うように配置された一対の電極を備えることを特徴とする請求項1記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材が、前記電極に固定された支持部材によって支持されていることを特徴とする請求項11記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材が、前記管球内に生成したプラズマを透過したレーザー光線を反射する反射面を備えることを特徴とする請求項1記載のレーザー駆動光源。
- 前記光線遮蔽部材の反射面が散乱反射面であることを特徴とする請求項13記載のレーザー駆動光源。
- 前記管球の外方に、前記光線遮蔽部材の反射面によって反射されたレーザー光線を吸収する、光線吸収部材を設けたことを特徴とする請求項13記載のレーザー駆動光源。
- 前記管球内に生成するプラズマに対して焦点位置が一致するように配置され、前記プラズマが出射する光線を反射する凹面反射鏡を備えたことを特徴とする請求項1に記載のレーザー駆動光源。
- 前記凹面反射鏡には、前記管球内に集光するレーザー光線の光軸上に開口が設けられ、前記凹面反射鏡の開口に、前記管球内にレーザー光線を集光するための光学部材が配置されていることを特徴とする請求項16記載のレーザー駆動光源。
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US8658967B2 (en) * | 2011-06-29 | 2014-02-25 | Kla-Tencor Corporation | Optically pumping to sustain plasma |
JP2013030444A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Sharp Corp | 照射装置、発光装置、照明装置および車両用前照灯 |
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DE102011113681A1 (de) * | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Heraeus Noblelight Gmbh | Lampeneinheit für die Erzeugung optischer Strahlung |
US9318311B2 (en) * | 2011-10-11 | 2016-04-19 | Kla-Tencor Corporation | Plasma cell for laser-sustained plasma light source |
US9927094B2 (en) | 2012-01-17 | 2018-03-27 | Kla-Tencor Corporation | Plasma cell for providing VUV filtering in a laser-sustained plasma light source |
US9255900B2 (en) * | 2012-03-19 | 2016-02-09 | Glenn M. Fishbine | Hand held toxicity tester |
US9390892B2 (en) | 2012-06-26 | 2016-07-12 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma light source with electrically induced gas flow |
US8796652B2 (en) * | 2012-08-08 | 2014-08-05 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma bulb including water |
RU2539970C2 (ru) * | 2012-12-17 | 2015-01-27 | Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" | Источник света с лазерной накачкой и способ генерации излучения |
US9646729B2 (en) * | 2013-01-18 | 2017-05-09 | Westinghouse Electric Company Llc | Laser sintering systems and methods for remote manufacture of high density pellets containing highly radioactive elements |
US9232622B2 (en) | 2013-02-22 | 2016-01-05 | Kla-Tencor Corporation | Gas refraction compensation for laser-sustained plasma bulbs |
KR102012902B1 (ko) | 2013-02-26 | 2019-08-22 | 삼성전자주식회사 | 광원 소자 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치 |
RU2534223C1 (ru) * | 2013-04-11 | 2014-11-27 | Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" | Источник света с лазерной накачкой и способ генерации излучения |
US9185788B2 (en) * | 2013-05-29 | 2015-11-10 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for controlling convection within a plasma cell |
KR102088363B1 (ko) | 2013-12-05 | 2020-04-14 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 광원 장치 및 플라즈마 광 생성 방법 |
US9984865B2 (en) * | 2013-12-06 | 2018-05-29 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light-emitting sealed body |
DE112014005518T5 (de) | 2013-12-06 | 2016-08-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Lichtquellenvorrichtung |
CN105830198B (zh) * | 2013-12-13 | 2017-10-27 | Asml荷兰有限公司 | 辐射源、量测设备、光刻系统和器件制造方法 |
US9433070B2 (en) * | 2013-12-13 | 2016-08-30 | Kla-Tencor Corporation | Plasma cell with floating flange |
US9530636B2 (en) | 2014-03-20 | 2016-12-27 | Kla-Tencor Corporation | Light source with nanostructured antireflection layer |
US9723703B2 (en) * | 2014-04-01 | 2017-08-01 | Kla-Tencor Corporation | System and method for transverse pumping of laser-sustained plasma |
US10032620B2 (en) * | 2014-04-30 | 2018-07-24 | Kla-Tencor Corporation | Broadband light source including transparent portion with high hydroxide content |
EP3143638B1 (en) | 2014-05-15 | 2018-11-14 | Excelitas Technologies Corp. | Laser driven sealed beam lamp |
US10186416B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-01-22 | Excelitas Technologies Corp. | Apparatus and a method for operating a variable pressure sealed beam lamp |
US9741553B2 (en) | 2014-05-15 | 2017-08-22 | Excelitas Technologies Corp. | Elliptical and dual parabolic laser driven sealed beam lamps |
US9506871B1 (en) | 2014-05-25 | 2016-11-29 | Kla-Tencor Corporation | Pulsed laser induced plasma light source |
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KR102294317B1 (ko) * | 2015-01-30 | 2021-08-26 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 장치 |
US10008378B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-06-26 | Excelitas Technologies Corp. | Laser driven sealed beam lamp with improved stability |
US10057973B2 (en) * | 2015-05-14 | 2018-08-21 | Excelitas Technologies Corp. | Electrodeless single low power CW laser driven plasma lamp |
US9576785B2 (en) | 2015-05-14 | 2017-02-21 | Excelitas Technologies Corp. | Electrodeless single CW laser driven xenon lamp |
WO2017212710A1 (ja) * | 2016-06-06 | 2017-12-14 | ウシオ電機株式会社 | レーザ駆動光源装置 |
CN106568762B (zh) * | 2016-11-07 | 2019-08-06 | 中国科学院光电研究院 | 扫描式激光诱导光谱面范围分析检测系统 |
JP2018113100A (ja) | 2017-01-06 | 2018-07-19 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 圧力検査方法及びガス封入体の製造方法 |
US10883921B2 (en) * | 2017-07-17 | 2021-01-05 | Thermo Scientific Portable Analytical Instruments Inc. | Complementary safety systems for laser induced breakdown spectroscopy |
JP2019029272A (ja) * | 2017-08-02 | 2019-02-21 | ウシオ電機株式会社 | レーザ駆動ランプ |
US10109473B1 (en) | 2018-01-26 | 2018-10-23 | Excelitas Technologies Corp. | Mechanically sealed tube for laser sustained plasma lamp and production method for same |
RU2752778C1 (ru) * | 2020-08-06 | 2021-08-03 | Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" | Плазменный источник света с лазерной накачкой и способ генерации излучения |
RU2761182C1 (ru) * | 2020-09-22 | 2021-12-06 | Ооо "Спецоптопродукция" | Способ повышения кпд газоразрядной лампы и управления спектром ее излучения |
US11587781B2 (en) | 2021-05-24 | 2023-02-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser-driven light source with electrodeless ignition |
JP2023054442A (ja) * | 2021-10-04 | 2023-04-14 | 浜松ホトニクス株式会社 | 発光封体、光源装置、及び発光封体の駆動方法 |
JP2023054439A (ja) * | 2021-10-04 | 2023-04-14 | 浜松ホトニクス株式会社 | 発光封体及び光源装置 |
JP2023054443A (ja) * | 2021-10-04 | 2023-04-14 | 浜松ホトニクス株式会社 | 発光封体及び光源装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4152625A (en) * | 1978-05-08 | 1979-05-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Plasma generation and confinement with continuous wave lasers |
JPS6030721Y2 (ja) * | 1981-07-31 | 1985-09-14 | 工業技術院長 | レ−ザ−光吸収装置 |
JPS61193358A (ja) * | 1985-02-22 | 1986-08-27 | Canon Inc | 光源装置 |
CN86203848U (zh) * | 1986-05-30 | 1987-03-04 | 徐予叨 | 节能指示灯泡 |
JPH0525535A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-02-02 | Nissan Motor Co Ltd | レーザ焼入れ装置 |
JPH06243845A (ja) * | 1993-02-18 | 1994-09-02 | Matsushita Electric Works Ltd | 無電極ランプ |
JPH0935877A (ja) * | 1995-07-20 | 1997-02-07 | Nippon Avionics Co Ltd | 蛍光灯の輝度安定化装置 |
JP3580205B2 (ja) * | 2000-01-18 | 2004-10-20 | ウシオ電機株式会社 | 電磁エネルギー励起点光源ランプ装置 |
JP4512968B2 (ja) * | 2000-08-03 | 2010-07-28 | ウシオ電機株式会社 | ショートアーク型高圧放電ランプ |
JP4320999B2 (ja) | 2002-02-04 | 2009-08-26 | 株式会社ニコン | X線発生装置及び露光装置 |
JP3912171B2 (ja) * | 2002-04-26 | 2007-05-09 | ウシオ電機株式会社 | 光放射装置 |
TWI275325B (en) * | 2003-03-08 | 2007-03-01 | Cymer Inc | Discharge produced plasma EUV light source |
JP2004319263A (ja) * | 2003-04-16 | 2004-11-11 | Sony Corp | 光源装置、及び画像表示装置 |
JP2005129397A (ja) * | 2003-10-24 | 2005-05-19 | Harclon Co Ltd | 冷陰極ランプ |
JP3734812B2 (ja) * | 2003-11-04 | 2006-01-11 | 浜松ホトニクス株式会社 | シャッタユニット及びそれを用いたレーザ加工装置 |
JP4535732B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2010-09-01 | 株式会社小松製作所 | 光源装置及びそれを用いた露光装置 |
US7989786B2 (en) * | 2006-03-31 | 2011-08-02 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
US7435982B2 (en) * | 2006-03-31 | 2008-10-14 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
US7705331B1 (en) * | 2006-06-29 | 2010-04-27 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for providing illumination of a specimen for a process performed on the specimen |
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