JP5251582B2 - カラーフィルタ用ガラス基板の再生装置 - Google Patents

Description

本発明は、カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタ製造工程で発生する品質基準に満たないカラーフィルタ用ガラス基板や、前記品質基準に満たないカラーフィルタ用ガラス基板を透明電極の成膜条件出しに使用したガラス基板を再生し、再使用可能とするカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置に関するものである。

図１はカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図である。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。

上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法を用いることが知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｃ−１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ−２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ−３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ−４）、露光処理する工程（Ｃ−５）、現像処理する工程（Ｃ−６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ−７）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ−８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ−９）がこの順に行われ製造される。

例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ−２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ−７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色レジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。

ガラス基板２上へのＢＭ３の形成は、例えば、ガラス基板２上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜にフォトレジストを塗布した後、フォトリソグラフィー法によってＢＭ形状を有したパターンを露光、現像、エッチングをして形成するといった方法や、または、ガラス基板２上に黒色のフォトレジスト樹脂を塗布し、この樹脂塗膜をフォトリソグラフィー法によってＢＭ形状を有したパターンを露光、現像して、いわゆる樹脂ＢＭと称するパターンを形成する方法がとられている。

カラーフィルタ用ガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板上へのＢＭの形成は、ＢＭの材料としては、クロムなどの金属を用いて真空装置によって金属薄膜を形成するよりも、黒色の樹脂フォトレジストを用いてフォトリソグラフィー法によって形成する樹脂ＢＭの方が、価格的、環境的にも有利なため、金属薄膜のＢＭを回避する傾向にある。

製造されるカラーフィルタには高い信頼性が必要であるが、前記のようにカラーフィルタの製造工程には多くの工程があり、その途中でゴミや樹脂カスなどの異物の付着や混入、ピンホール、パターン欠け等による欠陥が生じ、品質基準に満たない不良ガラス基板となって、歩留まりが低下している現状がある。また、近年の大画面液晶テレビの普及に伴うカラーフィルタ用ガラス基板の大型化により、例えば１ｍｍ以下の薄く、かつ一辺が１〜２ｍ以上に達するカラーフィルタ用ガラス基板では、廃棄そのものに危険が伴う。

一般的にカラーフィルタ用ガラス基板の不良検査は、前記製造工程の最終工程であるＰＳ，ＶＡ形成処理する工程（Ｃ−９）の後に行われる他に、中間工程であるＢＭを形成処理する工程（Ｃ−１）の後、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ−４）の後、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ−７）の後、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ−８）の後においても行われ、品質基準に満たないカラーフィルタ用ガラス基板が検出されている。

そこで、カラーフィルタの製造工程で品質基準を満足しないものが発生した場合は、傷つき等の不良がないガラス基板を再生し、製造工程に再投入、再使用可能なカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置が求められている。また品質基準を満足しないガラス基板の内、その一部のガラス基板は透明電極の成膜の条件出しに使用される場合があり、透明電極の成膜の条件出しに使用されるガラス基板を含めたカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置が求められている。

カラーフィルタ用ガラス基板の再生工程のフローと工程内容の一例を図３に示す。

カラーフィルタ用ガラス基板の不良検査で検出されたガラス基板は、その後再生処理が行われる。すなわち、カラーフィルタ用ガラス基板の再生はＢＭを形成した後、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素のためのレジストを形成した後、ＢＭ、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素を形成した後、透明電極（例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ））膜成膜後、またはＰＳ、ＶＡ形成後のいずれの場合においても行われるが、図３はＰＳ、ＶＡ膜形成後の再生工程と工程内容を示す。品質基準を満足しないカラーフィルタ用ガラス基板は次に示す工程を経て再生される。

先ず、アルカリ処理（１）（Ｋ−１）、ブラシ洗浄（Ｋ−２）及び水洗リンス（Ｋ−３）によってガラス基板の最上層にあるＰＳ、ＶＡ膜が剥離、リンスされる（Ｎ−１）、（Ｎ−２）、（Ｎ−３）。次に中間層のＩＴＯ膜が酸処理（Ｋ−４）、水洗リンス（Ｋ−５）によって剥離、リンス（Ｎ−４），（Ｎ−５）された後、最下層であるＢＭ、ＲＧＢ樹脂膜がアルカリ処理（２）（Ｋ−６）、ブラシ洗浄（Ｋ−７）、水洗リンス（Ｋ−８）によってＲＧＢ、ＢＭ層が剥離、リンス（Ｎ−６）、（Ｎ−７）、（Ｎ−８）され、最後にブラシ洗浄（Ｋ−９）でカラーフィルタ用ガラス基板に微少量残っている洗浄残渣を取り除かれ（Ｎ−９）、水切り（Ｋ−１０）によって乾燥される（Ｎ−１０）。
る

図４は従来の上記アルカリ処理（１）を用いてカラーフィルタ用ガラス基板を再生する再生装置の一例を説明するための図を示す。処理槽２１には予め組成、濃度が調整されたアルカリ液及び剥離液からなる処理液が貯液されており、該処理液は、配管２７を通して送液ポンプ２２によって複数個配置された吐出ノズル２３を介して被再生処理カラーフィルタ用ガラス基板２０に吐出される。また、同時に洗浄ブラシ（図示せず）によって前記被再生処理カラーフィルタ用ガラス基板は洗浄され、ＰＳ、ＶＡ層が剥離される。前記被再生処理カラーフィルタ用ガラス基板２０は、処理液が吐出され、また洗浄ブラシによって洗浄される間は搬送装置（図示せず）によって一定速度で搬送方向に搬送される。

処理槽２１内の処理液は一定時間毎にアルカリ液と剥離液の濃度が測定され、濃度不足が生じた場合はアルカリ液補充タンク２４及び剥離液補充タンク２５からそれぞれ配管２９及び２８を介して補充される。

剥離された樹脂（この場合は、ＰＳ、ＶＡ形成に用いられた樹脂）及び処理液は、回収パン２６、配管３０を介し、処理槽２１に回収される。回収された樹脂は処理槽２１の下
部に沈殿した後、外部に排出される。

また、上記従来法のカラーフィルタ用ガラス基板再生装置のほかに、いくつかの方法が提案されている。

例えば、水溶性有機アミン化合物と無機アルカリ金属化合物を含有する水溶液にカラーフィルタ用ガラス基板を浸漬することで再生する方法（特許文献１）や、濃度９８％の濃硫酸にカラーフィルタ用ガラス基板を１０分浸漬した後に、水洗して、５５℃に加温したアルキルジオールとグリコールエーテルを含有したアルカリ水溶液に浸漬した後、必要に応じてスポンジラビング（手こすり）する方法（特許文献２）や、一次酸液処理と二次酸液処理を行いＩＴＯ膜、ＲＧＢ、ＢＭ膜を剥離する方法（特許文献３）や、無機酸を含有する前処理液で前処理する工程と、アルカリを含有する剥離液にて後処理する工程の２段階の処理方法によってＲＧＢ、ＢＭの樹脂膜を剥離する方法（特許文献４）が提案されている。

特開２００１−１２４９１６号公報 特開平７−２３００８１号公報 特開２００６−１５４７５２号公報 特開２００２−１７９４３８号公報

図３に示される再生工程は、最上層のＰＳ、ＶＡ剥離からＢＭ，ＲＧＢ剥離までの工程が連動してあたかも一連の工程のように示されているが、前記アルカリ処理（１）（Ｋ−１）、酸処理（Ｋ−４）、アルカリ処理（２）（Ｋ−６）はそれぞれ処理に要する時間が異なるために、各処理工程はバッチ処理で行われている。このため再生処理に多大な時間を費やしていた。

また、先行技術文献に示した処理方法では、いずれの方法においても、カラーフィルタ用ガラス基板の浸漬に１０分から２時間もの長時間を必要とするために、カラーフィルタ用ガラス基板自身が損傷してしまうといった問題や、最下層の樹脂膜の残渣が残るため研磨処理を行うのが一般的となっている。

更に、透明電極膜の成膜条件出しに使用した不良ガラス基板を再生する方法や装置も望まれている。

本発明は、係る問題点に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ用ガラス基板上の樹脂膜、金属膜、及び透明電極膜の成膜条件出しで作られた金属膜を剥離、除去、洗浄する際に、カラーフィルタ用ガラス基板を損傷することなく、短時間でしかも研磨処理を行うことなくカラーフィルタ用ガラス基板を再生するカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置を提供することである。

本発明の請求項１に係る発明は、製造工程で発生したカラーフィルタの不良ガラス基板を再生するカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置であって、不良ガラス基板の透明電極膜を剥離する第一酸液処理部と、樹脂層を剥離する第一アルカリ液処理部と、前記樹脂層があった部分の透明電極膜を剥離する第二酸液処理部と、樹脂ブラックマトリックスと着色画素を剥離する第二アルカリ処理部とを有し、第一酸液処理部、第一アルカリ液処理部、第二酸液処理部、第二アルカリ処理部の順に連続して不良ガラス基板を処理することを特徴とするカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置である。

本発明の請求項２に係る発明は、第一酸液処理部、第一アルカリ液処理部、第二酸液処理部、第二アルカリ処理部における処理液の吐出圧力、液温、吐出時間及び不良ガラス基板の搬送速度を設定可能であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置である。

本発明によるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置によれば、短時間でしかも研磨処理を行うことなく、カラーフィルタ用ガラス基板を損傷することなく再生して再利用可能とし、更に透明電極の成膜条件出しに使用されたガラス基板を再生して再利用可能とすることが出来る。その結果、歩留まりの低下を改善することが可能となる。

カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を断面で示した図。 一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程のフロー図。 カラーフィルタ用ガラス基板の再生工程のフローと工程内容の一例を示す図。 従来のカラーフィルタ用ガラス基板を再生する再生装置の一例を示す図。 本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置によって再生されるカラーフィルタ用ガラス基板の一例を断面で示した図。 （ａ）はＰＳ，ＶＡの形成後のガラス基板。 （ｂ）はＰＳ，ＶＡの上に透明電極成膜条件出しの金属膜が形成されたガラス基板。 （ｃ）は透明電極形成後に、裏面に透明電極成膜条件出しの金属膜が形成されたガラス基板。 本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置を用いた再生処理のフロー図。 本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置の構成図。 本発明の実施形態に係わる別のカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置の構成図。

以下、図面を参照して本発明に係るカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置の実施形態を説明する。

図５は本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置によって再生されるカラーフィルタ用ガラス基板の一例を断面で示したものである。

図５（ａ）に示される再生されるカラーフィルタ用ガラス基板３１−１は、製造工程の最終工程であるＰＳ，ＶＡ形成処理する工程の後の不良検査で検出されたガラス基板で、ガラス基板３２上に樹脂層である樹脂ＢＭ３３と着色画素であるＲ画素３４−１とＧ画素３４−２とＢ画素３４−３、金属層であるＩＴＯ透明電極３５、及び樹脂層であるＰＳ３６とＶＡ３７が順次形成されたものである。

図５（ｂ）に示される再生されるカラーフィルタ用ガラス基板３１−２は、製造工程の最終工程であるＰＳ，ＶＡ形成処理する工程の後の不良検査で検出されたガラス基板で、
更に透明電極の成膜条件出しのために透明電極の金属膜３８がＰＳ３６とＶＡ３７の上に形成されたものである。

図５（ｃ）に示される再生されるカラーフィルタ用ガラス基板３１−３は、透明電極を成膜処理する工程の後の不良検査で検出されたガラス基板で、更に透明電極の成膜条件出しのために透明電極の金属膜３９がガラス基板３１の裏面（樹脂ＢＭ３３と着色画素であるＲ画素３４−１とＧ画素３４−２とＢ画素３４−３、金属層であるＩＴＯ透明電極３５が形成されている面の反対の面）に形成されたものである。

図６は本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置を用いた再生処理のフロー図であり、図７は本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置の構成図を示す。

本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置は、ガラス基板の搬送方向順に、ガラス基板搬入部４０、第一酸液処理部４１、第一アルカリ液処理部４２、第二酸液処理部４３、第二アルカリ処理部４４、最終水洗処理部４５、ガラス基板搬出部４６を有しており、第一酸液処理部４１、第一アルカリ液処理部４２、酸液処理部４３、第二アルカリ処理部４４の順に前記カラーフィルタ用ガラス基板は搬送され再生処理される。

基板搬入部４０、第一酸液処理部４１、第一アルカリ液処理部４２、酸液処理部４３、第二アルカリ処理部４４、最終水洗処理部４５、ガラス基板搬出部４６は、制御部（図示せず）に接続されており、ガラス基板は搬入から搬出までが連続して処理、搬送される。

本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置によって、図５（ａ）に示されるガラス基板を再生する場合を説明する。ガラス基板搬入部４０によって搬入された後、第一酸液処理部４１に搬送される。第一酸液処理部４１では吐出ノズルから酸処理液がガラス基板３１に吐出されるが、処理液が酸液のためガラス基板３１の最上層のＰＳ３６、ＶＡ３７は剥離されずガラス基板は通過する。次に第一アルカリ液処理部４２によって最上層のＰＳ３６、ＶＡ３７の樹脂膜が剥離される。第一アルカリ液処理部４２でガラス基板表面に付着したアルカリ薬液が水洗リンス部―２で水洗リンスされて除去される。次の第二酸液処理部４３ではガラス基板の表裏両面に酸処理液が吐出ノズルから噴射される。その結果、中間層の金属膜のＩＴＯ透明電極３５が剥離され、カラーフィルタ用ガラス基板表面に付着した酸薬液が水洗リンス部―３で水洗リンスされて除去される。第二酸液処理部４３では処理液が酸液のためガラス基板３１の裏面のガラス基板がむき出しになっている面の表面もダメージを受けることなく通過する。その後、第二アルカリ液処理部４４によって最下層のＢＭ３３、Ｒ画素３４−１、Ｇ画素３４−２、Ｂ画素３４−３の樹脂膜が剥離され、ガラス基板表面に付着したアルカリ薬液が水洗リンス部−４によって水洗リンスされる。その後、最終水洗処理部４６によって水洗シャワーとエアナイフで水洗、乾燥された後、ガラス基板搬出部４６によって搬出される。

次に本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置によって、図５（ｂ）に示されるガラス基板を再生する場合を説明する。ガラス基板搬入部４０によって搬入された後、第一酸液処理部４１によってガラス基板３１の最上層の透明電極の成膜条件出しのために成膜された透明電極３８が剥離された後、ガラス基板表面に付着した酸薬液が水洗リンス部−１によって水洗リンスされて除去される。裏面のガラス基板がむき出しになっている面の表面は前記同様ダメージを受けることなくガラス基板は通過する。次に第一アルカリ液処理部４２によって最上層のＰＳ３６、ＶＡ３７の樹脂膜が剥離され、ガラス基板表面に付着したアルカリ薬液が水洗リンス部−２で水洗リンスされて除去される。次の第二酸液処理部４３ではガラス基板の表裏両面に酸処理液が吐出ノズルから噴射
される。その結果、中間層の金属膜のＩＴＯ透明電極３５が剥離され、その後カラーフィルタ用ガラス基板表面に付着した酸薬液が水洗リンス部―３によって水洗リンスされて除去される。第二酸液処理部４３では処理液が酸液のためガラス基板３１の裏面のガラス基板がむき出しになっている面の表面もダメージを受けることなくガラス基板は通過する。その後、第二アルカリ液処理部４４によって最下層であるＢＭ３３、Ｒ画素３４−１、Ｇ画素３４−２、Ｂ画素３４−３の樹脂膜が剥離され、ガラス基板表面に付着したアルカリ薬液が水洗リンス部―４によって水洗リンスされて除去される。その後、最終水洗処理部４６によって水洗された後、ガラス基板搬出部４６によって搬出される。

次に本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置によって、図５（ｃ）に示されるガラス基板を再生する場合を説明する。ガラス基板３１は、ガラス基板搬入部４０によって搬入された後、第一酸液処理部４１に搬送される。第一酸液処理部４１では吐出ノズルから処理液がガラス基板３１に吐出されるが、処理液が酸液のためガラス基板３１の金属膜のＩＴＯ透明電極３５の一部が剥離される。次にガラス基板は第一アルカリ液処理部４２を通過するが、処理液がアルカリ液のため、ガラス基板の表面の金属膜のＩＴＯ透明電極３５は剥離されずに通過する。次の第二酸液処理部４３ではガラス基板の表裏両面に酸処理液が吐出ノズルから噴射される。その結果、表面の金属膜のＩＴＯ透明電極３５が剥離され、更に透明電極の成膜条件出しのために成膜された金属膜３９が剥離された後、ガラス基板３１の表面及び裏面に付着した酸薬液が水洗リンス部―３によって表裏共に水洗リンスされて除去される。その後、第二アルカリ液処理部４４によって最下層であるＢＭ３３、Ｒ画素３４−１、Ｇ画素３４−２、Ｂ画素３４−３の樹脂膜が剥離され、ガラス基板表面に付着したアルカリ薬液が水洗リンス部―４によって水洗リンスされて除去される。その後、最終水洗処理部４６によって水洗された後、ガラス基板搬出部４６によって搬出される。

上記のように本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置は、不良ガラス基板の種類を選択することなく全ての不良ガラス基板を再生することが出来る。

本発明の実施形態では、第一酸液処理部４１、第一アルカリ液処理部４２、第二酸液処理部４３、第二アルカリ処理部４４では、ガラス基板を搬送ローラ上に水平に載置し搬送しながら、ポンプ（図示せず）によって吐出ノズル（図示せず）から処理液を吹き付けて行ったが、これに限定されずにガラス基板を垂直に吊り下げた状態で搬送し、ガラス基板を浸漬して行っても良い。

また、第二アルカリ処理部４４ではガラス基板の表裏両面に酸処理液が吐出ノズルから噴射される場合を説明したが、図８に示すようにガラス基板の表裏両面から酸処理液を吐出せずに第二アルカリ処理部Ａ４３−１と水洗リンス部―３−１、及び第二アルカリ処理部Ｂ４３−２と水洗リンス部―３−２を設け、更に水洗リンス部―３−１と第二アルカリ処理部Ａとの間でガラス基板を反転させて処理しても良い。

第一酸処理部４１、第一アルカリ液処理部４２、第二酸液処理部４３、第二アルカリ処理部４４はＰＳ３６、ＶＡ３７、ＩＴＯ透明電極３５、ＢＭ３３、Ｒ画素３４−１、Ｇ画素３４−２、Ｂ画素３４−３の材料の変更等に伴い、各処理液の吐出圧力、液温、吐出時間及びガラス基板の搬送速度を設定することによって、樹脂膜、金属膜の剥離、除去が最適な条件で行われる。

表１に本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置に用いたアルカリ処理工程に使われるアルカリ液と酸処理工程に使われる酸液の構成と重量％を示す。

アルカリ液は、水酸化カリウム８％（重量％、以下同じ）、モノエタノールアミン１２％、ブチルカルビトール１５％、ベンジルアルコール２％、水６３％であって、酸液は塩化第２鉄３５％、硝酸３％、水６２％からなるものである

表１に示したアルカリ液は、第一アルカリ液処理４２と第二アルカリ液処理４４の両処理に使われる。酸液は、第一酸液処理４１と第二酸液処理４３の両処理に使われる。

表２に本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置による再生テストの評価結果を示す。

第一酸液処理、及び第二酸液は酸液の吐出圧が０．１５ＭＰａ、第一アルカリ液処理はアルカリ液の吐出圧が０．１ＭＰａ、酸液処理は酸液の吐出圧が０．１５ＭＰａ、第二アルカリ液処理はアルカリ液の吐出圧が０．１ＭＰａであって、それぞれ液温と吐出時間を変えて、その時の上樹脂（すなわちＰＳとＶＡの樹脂膜）、透明電極（すなわち、ＩＴＯ金属膜）、下樹脂（すなわち、ＢＭ、着色画素の樹脂膜）の残渣（皮膜が残っていること）の有無を評価した。評価した結果を、残渣なしを○で、残渣ありを×で示した。

評価した結果、上樹脂すなわちＰＳとＶＡの樹脂膜は、第一アルカリ処理のアルカリ液を吐出圧０．１ＭＰａで液温４０℃、吐出時間６０秒以上、または液温３０℃、吐出時間９０秒以上で残渣がなく良好に処理される。透明電極すなわちＩＴＯ金属膜及び透明電極の成膜条件だしのために形成されたＩＴＯ金属膜は吐出圧が０．１５ＭＰａで液温５５℃、吐出時間１８０秒以上、または液温６５℃、吐出時間１５０秒以上で残渣がなく良好に処理される。下樹脂すなわちＢＭ、着色画素の樹脂膜は第二アルカリ液処理のアルカリ液の吐出圧が０．１ＭＰａで液温６５℃、吐出時間２４０秒以上で残渣がなく良好に再生される。

また、本発明の実施形態に係わるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置においては、第二アルカリ処理によって目視では確認できない樹脂の残渣も無く、その結果、従来必要としていた研磨処理が不要となる。

以上のように、本発明によるカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置によれば、再生処理したい不良カラーフィルタ用ガラス基板を短時間で、しかも研磨処理を行うことなく、カラーフィルタ用ガラス基板を損傷することなく再生することが可能となる。また、透明電極の成膜条件出しに使用された不良カラーフィルタ用ガラス基板を再生することが可能となる。更に、不良ガラス基板の種類を選択することなしに全ての種類の不良ガラス基板を再生することが出来、その結果歩留まりの低下を改善することが可能となる。

１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーテイカルアライメント（ＶＡ）
２１・・・処理槽
２７・・・配管
２２・・・送液ポンプ
２３・・・吐出ノズル
２０・・・被再生処理カラーフィルタ用ガラス基板
２４・・・アルカリ液補充タンク
２５・・・剥離液補充タンク
２８・・・配管
２９・・・配管
２６・・・回収パン
３０・・・配管
３１・・・再生されるカラーフィルタ用ガラス基板
３２・・・ガラス基板
３３・・・樹脂ＢＭ
３４−１・・・Ｒ画素
３４−２・・・Ｇ画素
３４−３・・・Ｂ画素
３５・・・透明電極
３６・・・ＰＳ
３７・・・ＶＡ
３８・・・透明電極の成膜条件出しのために形成された金属膜
３９・・・透明電極の成膜条件出しのために形成された金属膜
４０・・・ガラス基板搬入部
４１・・・第一酸液処理部
４２・・・第一アルカリ液処理部
４３・・・第二酸液処理部
４３−１・・・第二酸液処理部Ａ
４３−２・・・第二酸液処理部Ｂ
４４・・・第二アルカリ処理部
４５・・・最終水洗処理部
４６・・・ガラス基板搬出部

Claims (2)

1. 製造工程で発生したカラーフィルタの不良ガラス基板を再生するカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置であって、不良ガラス基板の透明電極膜を剥離する第一酸液処理部と、樹脂層を剥離する第一アルカリ液処理部と、前記樹脂層があった部分の透明電極膜を剥離する第二酸液処理部と、樹脂ブラックマトリックスと着色画素を剥離する第二アルカリ処理部とを有し、
   第一酸液処理部、第一アルカリ液処理部、第二酸液処理部、第二アルカリ処理部の順に連続して不良ガラス基板を処理することを特徴とするカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置。
2. 第一酸液処理部、第一アルカリ液処理部、第二酸液処理部、第二アルカリ処理部における処理液の吐出圧力、液温、吐出時間及び不良ガラス基板の搬送速度を設定可能であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置。
   

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