JP5239983B2 - 縦型ウエハ処理装置 - Google Patents
縦型ウエハ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5239983B2 JP5239983B2 JP2009070741A JP2009070741A JP5239983B2 JP 5239983 B2 JP5239983 B2 JP 5239983B2 JP 2009070741 A JP2009070741 A JP 2009070741A JP 2009070741 A JP2009070741 A JP 2009070741A JP 5239983 B2 JP5239983 B2 JP 5239983B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flange
- reaction tube
- processing apparatus
- pressing member
- tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
図5は、縦型ウエハ処理装置の一例を一部断面で模式的に示す側面図である。
昇降機構19によりシールキャップ11が上昇されてボート9が内側反応管3内に配置される。このとき、シールキャップ11の上面がマニホールド7に接触して反応管1,3は封止される。
外側反応管1は下部にフランジ1aを備えている。マニホールド7の上面にオーリング21とオーリング押え23が設けられている。マニホールド7の上面の周縁部に、環状のSUS製フランジ押え部25が取り付けられている。フランジ押え部25は、その内側側面上部にフランジ押え部25の中央側に突出する突起部25aを備えている。
従来、新品の反応管1を数回薬液洗浄すると、フランジ1aの厚みの減少によりリークトラブルが発生し、反応管1の交換を余儀なくされていた。
しかし、反応管は縦型ウエハ処理装置1台に対して複数本用意されるのが通常であり、反応管の洗浄回数に応じて反応管毎にフランジ1aの厚みが異なるので、反応管の本数分だけ緩衝材を用意する必要が生じ、製造コストの増加を招く。
また、反応管のフランジの厚みの減少が進行すると、緩衝材では隙間を埋める事ができなくなるという不具合も発生する。
一端面が上記フランジの下面に対向して配置された金属管と、上記反応管内に収容されるウエハを保持するためのウエハ保持部と、上記ウエハ保持部を上記反応管内に出し入れするために昇降可能であって上記ウエハ保持部が上記反応管内に配置された状態で上記金属管の他端面側の開口を封止するための支持部と、上記フランジの上面を上記金属管側に付勢するために上記金属管に着脱可能に取り付けられた金属製のフランジ押え部を備えている。上記フランジ押え部は、上記金属管の上方に配置される金属管側フランジ押え部材と、上記金属管側フランジ押え部材の上方に配置され上記フランジの上面を付勢するするフランジ側フランジ押え部材と、上記金属管側フランジ押え部材及び上記フランジ側フランジ押え部材の互いに対向する面に取り付けられた金属製バネとを備えている。上記フランジ押え部は、上記フランジ側フランジ押え部材が取付けネジの締め付けによって上記金属管に固定されることによって上記金属管に取り付けられる。
さらに、反応管のフランジの厚みが薬液洗浄により減少した場合であっても、反応管とマニホールドの気密性を確保できるので、処理完了後に真空引きを再度行なったり、真空引き時間を延長するなどを行なったりする必要はなく、製造コストの増加を抑制できる。
さらに、反応管の交換サイクルを延長することができるので、製造コストの低減を図ることができる。
フランジ押え部材31,35は反応管1の外周に配置されるように環状に形成されている。マニホールド側フランジ押え部材31はマニホールド7の周縁部の上に配置されている。
フランジ押え部材31,33は例えばSUS製である。
フランジ押え部29は、金属製バネ35の伸縮性によって高さ寸法が可変になっている。
また、ガスケット27を備えていなくてもよい。
また、金属製バネ35はコイルバネに限定されるものではない。例えば板バネや皿バネなど、金属製のバネであって伸縮性があるものであれば、どのようなバネであってもよい。
また、金属製バネ35の個数及び取付けネジ37の個数は実施例に限定されるものではない。
3 内側反応管
5 ヒータ
7 マニホールド(金属管)
9 ボート(ウエハ保持部)
11 シールキャップ(支持部)
29 フランジ押え部
31 マニホールド側フランジ押え部材(金属管側フランジ押え部材)
33 フランジ側フランジ押え部
35 金属製バネ
37 取付けネジ
Claims (3)
- 下部にフランジを有する石英製の反応管と、
前記反応管の周囲に設置された加熱部と、
一端面が前記フランジの下面に対向して配置された金属管と、
前記反応管内に収容されるウエハを保持するためのウエハ保持部と、
前記ウエハ保持部を前記反応管内に出し入れするために昇降可能であって前記ウエハ保持部が前記反応管内に配置された状態で前記金属管の他端面側の開口を封止するための支持部と、
前記フランジの上面を前記金属管側に付勢するために前記金属管に着脱可能に取り付けられた金属製のフランジ押え部を備え、
前記フランジ押え部は、前記金属管の上方に配置される金属管側フランジ押え部材と、前記金属管側フランジ押え部材の上方に配置され前記フランジの上面を付勢するフランジ側フランジ押え部材と、前記金属管側フランジ押え部材及び前記フランジ側フランジ押え部材の互いに対向する面に取り付けられた金属製バネとを備え、
前記フランジ押え部は、前記フランジ側フランジ押え部材が取付けネジの締め付けによって前記金属管に固定されることによって前記金属管に取り付けられる縦型ウエハ処理装置。 - 前記フランジ側フランジ押え部材は、前記フランジの上面に接触する部分が前記反応管の周囲を囲んで環状に設けられている請求項1に記載の縦型ウエハ処理装置。
- 前記反応管の内側に第2反応管を備え、
前記第2反応管内に前記ウエハ保持部が配置される縦型CVD処理装置又は縦型PVD処理装置である請求項1又は2に記載の縦型ウエハ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009070741A JP5239983B2 (ja) | 2009-03-23 | 2009-03-23 | 縦型ウエハ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009070741A JP5239983B2 (ja) | 2009-03-23 | 2009-03-23 | 縦型ウエハ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010225799A JP2010225799A (ja) | 2010-10-07 |
JP5239983B2 true JP5239983B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=43042688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009070741A Expired - Fee Related JP5239983B2 (ja) | 2009-03-23 | 2009-03-23 | 縦型ウエハ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5239983B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5882167B2 (ja) * | 2012-09-13 | 2016-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
WO2024161474A1 (ja) * | 2023-01-30 | 2024-08-08 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、炉口アセンブリ、基板処理方法、半導体装置の製造方法およびプログラム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6097622A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-31 | Toshiba Mach Co Ltd | エピタキシヤル装置 |
JPH02291112A (ja) * | 1989-04-29 | 1990-11-30 | Toyoda Gosei Co Ltd | 化合物半導体の気相成長装置 |
JP3106172B2 (ja) * | 1991-02-26 | 2000-11-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置の封止構造 |
JPH04347096A (ja) * | 1991-05-21 | 1992-12-02 | Seiko Instr Inc | 石英チューブの気密シール構造及び気密シール方法 |
JPH08186104A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-07-16 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置及びそのフランジ押え緩衝体の製造方法 |
JP4384518B2 (ja) * | 2004-02-18 | 2009-12-16 | 光洋サーモシステム株式会社 | 熱処理装置の炉口構造 |
-
2009
- 2009-03-23 JP JP2009070741A patent/JP5239983B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010225799A (ja) | 2010-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6669784B2 (en) | Gas processing apparatus for object to be processed | |
US20040060519A1 (en) | Quartz to quartz seal using expanded PTFE gasket material | |
JP4211185B2 (ja) | Cvd,ale装置用ガラス基板収納治具 | |
TWI697037B (zh) | 處理裝置 | |
TWI606546B (zh) | 靜電夾頭裝置 | |
US10907252B2 (en) | Horizontal heat choke faceplate design | |
JPWO2008156031A1 (ja) | 真空処理装置 | |
JP5239983B2 (ja) | 縦型ウエハ処理装置 | |
KR20060094912A (ko) | 정전 척 및 이를 구비한 진공처리장치 | |
US6988886B2 (en) | Thermal treatment system for semiconductors | |
TWI849257B (zh) | 具有嵌入式螺帽的噴淋頭 | |
JP5398358B2 (ja) | 基板支持台の構造及びプラズマ処理装置 | |
JP4855356B2 (ja) | 密封構造体 | |
JPH07283292A (ja) | シール機構並びにこのシール機構を用いた処理装置及び処理方法 | |
JP4578829B2 (ja) | 真空用ゲート弁のシールプレートおよびこれに用いられるシール部材 | |
KR200398832Y1 (ko) | 반도체 제조 설비의 기판 서셉터 | |
JP4617701B2 (ja) | Oリング取り外し用窪み構造を有する容器部材 | |
JP2003209064A (ja) | 半導体製造装置 | |
KR20150127679A (ko) | 고온 공정 챔버 리드 | |
EP1120813B1 (en) | Reactor for manufacturing of a semiconductor device | |
JP2008187067A (ja) | 熱処理装置、遮熱用真空バッファー体及び遮熱板 | |
TW202234985A (zh) | 用於將基板固定在載體上的夾持機構 | |
TW202246569A (zh) | 用於腔室內電阻加熱元件的腔室主體饋通 | |
US20190226089A1 (en) | High temperature faceplate with hybrid material design | |
CN118785553A (en) | Metal heater and manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130318 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |