JP5232801B2 - チャンバ及び成膜装置 - Google Patents

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Description

本発明はチャンバ及び成膜装置に関する。
フラットパネルディスプレイの製造には、配線用金属膜の成膜プロセスを行うスパッタリング装置など多くの真空処理装置が用いられ、これらの処理装置は、所定のプロセスを行うための真空チャンバを有している。
また、フラットパネルディスプレイの生産歩留まり向上のため、ディスプレイを構成するガラス基板は大型化を続けている。このガラス基板の大型化に伴い、基板の全面に亘って成膜プロセスなどを一括して行うことができるように、処理装置のチャンバ自体も大型化してきている。例えば2850mm×3050mmサイズのガラス基板を処理するとき、処理チャンバの高さ又は幅が5mを超えるようなサイズに及ぶ場合もある。このようなチャンバを組み立て後、設置場所まで輸送するとなると、大型のトレーラなどの大がかりな輸送手段が必要となる。
また、このような大型チャンバは、平面から構成されているため、必要な強度を保持すべく、チャンバの外壁面に補強部材を設ける必要がある。この補強部材は、主に溶接によってチャンバ面に接着されている。しかし、この補強部材の接着でさらにチャンバ全体が大型化してしまうことにより、そのサイズ及び重量において法令の制限を受け、輸送できないという問題が生じている。
このため、複数部品を溶接によって接合してなる側壁平面をもつチャンバが知られている(例えば、特許文献1参照)。このチャンバでは、分割した部品を設置場所まで輸送した後に溶接すれば、かかる大型チャンバをも比較的容易に輸送することができる。
特開平8−64542号公報(図1及び請求項1)
上記処理装置によれば、大型の処理装置であっても一つのチャンバ壁の平面を分割した結果、大型の処理装置として輸送することはできる。しかしながら、チャンバ内で真空処理室を構成する面が、複数の部品の溶接によって形成されているため、リークが発生しやすいという問題がある。これは、一般的に、溶接部分にはピンホールが生じやすく、リークの原因となりやすいこと、また、溶接時に部材の熱歪みが生じることも多く、チャンバ内を真空状態とすると、大気圧による応力が熱歪みの生じた部分に集中し、リークの原因となりやすいことによる。
そこで、本発明の課題は、上記従来技術の問題点を解消すべく、チャンバ部に溶接による接合部を備えておらず、かつ、大型であっても輸送が容易なチャンバを提供することにある。また、これを用いた成膜装置を提供することにある。
本発明のチャンバは、基板が搬入され、基板に対して所定の処理が行われるチャンバ部と、チャンバ部の外壁面に設けられた着脱可能な補強部材とを備え、前記補強部材が、前記外壁面に着脱可能に取り付けられたリブ部材であり、前記補強部材が、さらに前記外壁面に着脱可能に取り付けた板状の接合部材を備え、前記リブ部材が、接合部材を介して前記外壁面に設けられたことを特徴とする。
本発明のチャンバは、チャンバ部の外壁面に取り付けられる補強部材を着脱可能とすることで、輸送時には補強部材を外すことができるので、輸送時には装置全体を小型化でき、輸送が容易である。かつ、本発明のチャンバでは、チャンバ部外壁面に補強部材が着脱可能に設けられており、基板を処理するチャンバ部の内壁面には接合部を有していないので、チャンバ部内を真空状態とする場合のリークの発生を抑制できる。
また、本発明のチャンバは、前記補強部材が、前記リブ部材及び前記接合部材を備え、このリブ部材が、接合部材を介して前記外壁面に着脱可能に取り付けられている。このように構成することで、接合部材の厚さを厚くすることなく所定のチャンバの強度を十分に保つことができる。ここで、板状の接合部材は、平面からなるものも、曲面からなるものも含み、チャンバ部の外形に合わせて選択することが可能である。
前記補強部材は、チャンバ部の外壁面のうち、大気に接触する面に取り付けられることが好ましい。大気に接触する面とは、チャンバ部の外壁面のうち、真空状態となる真空処理室が備えられた別のチャンバと接続しない面をいう。このような大気に接触する面は、基板処理室が真空状態となると、大気と真空との圧力差によりチャンバ部が歪むことがある。そこで、本発明においては、補強部材を大気に接触する面に取り付けることで、基板処理室内を真空状態とした場合に、チャンバが歪むことを防止することができる。
前記接合部材が設けられている外壁面において、チャンバ部内で所定の処理を行うための機能部材が設けられていない全ての領域を覆うように構成されていることが好ましい。機能部材が設けられていない全ての領域を覆うように接合部材を構成することで、チャンバが十分な強度を得て、チャンバ部内部を真空状態とした場合の歪みを抑制することが可能である。
本発明のチャンバは、補強部材を着脱可能とすることで、大型化してもリークの発生を抑制し、かつ、輸送に便利であり、基板キャリアにより略垂直に保持された被処理基板に対し所定の処理を行うことができるように構成され、その処理装置の設置面積を減少できる、いわゆる縦型処理チャンバとして用いることが適している。なお、ここでいう略垂直とは、被処理基板を垂直な状態から45°未満に傾けた状態をいい、垂直も含むものである。
また、前記チャンバ部の壁面の一部に開口を設け、この開口を介して前記補強部材に着脱自在にマグネットが取り付けられていることが好ましい。本発明の補強部材は着脱自在であり、このようにマグネットを備え付けることもでき、チャンバの用途や使用態様に応じて着脱して、状況に柔軟に対応することができる。また、このようにマグネットを設けることで、基板を保持する基板キャリアにもマグネットを設ければ、基板キャリアの搬送時のぐらつきを抑制できる。
前記リブ部材が、互いに交差する複数の縦リブ部材及び横リブ部材から構成され、この縦リブ部材及び横リブ部材により構成される空間にクレーンが設置され固定されていることが好ましい。本発明のリブ部材は着脱自在であり、このようにクレーンを備え付けることもできるので、チャンバの用途や使用態様に応じて着脱して、状況に柔軟に対応することができる。また、リブ部材でしっかりと支持し固定してクレーンを設置することができるので、クレーンを安全に保持することができる。このクレーンは、具体的には、前記縦リブ部材及び横リブ部材により構成される空間に設置され固定された設置部と、この設置部に接続されている支持部と、この支持部を軸中心として回動自在に接続されている腕部と、この腕部の先端部に、吊下部及び線部材を介して設けられた取り付け部とからなる。このように構成されていることで、簡易にリブ部材に設置することができ、このリブ部材毎に輸送することができる。
本発明の成膜装置は、複数の真空チャンバを備え、各真空チャンバのチャンバ部内で基板に対して所定の処理を行う成膜装置であって、各チャンバ部は、各チャンバ部の外壁面に着脱可能な補強部材を備え、前記補強部材が、前記外壁面に着脱可能に取り付けられたリブ部材であり、前記補強部材が、さらに前記外壁面に着脱可能に取り付けた板状の接合部材を備え、前記リブ部材が、接合部材を介して前記外壁面に設けられたことを特徴とする。チャンバ部の外壁面に取り付けられる補強部材を着脱可能とすることで、輸送時には補強部材を外すことができるので、輸送時には装置全体を小型化でき、輸送が容易である。前記チャンバ部の外壁面が、チャンバ部の天井面、底面、及び他の真空チャンバが接続されていない側面であることが好ましい。
本発明のチャンバによれば、輸送に便利で、かつ、リークの発生を抑制できるという優れた効果を奏し得る。本発明の成膜装置によれば、輸送に便利であるという優れた効果を奏する。
処理装置の構成を説明するための模式図である。 本発明のチャンバを説明するための模式図である。 本発明のチャンバを説明するための模式図である。 本発明の別のチャンバを説明するための模式図である。 加熱室の模式的断面図である。 着脱可能なリブ部材について説明するための模式図である。 別の着脱可能なリブ部材について説明するための模式図である。 さらに別の着脱可能なリブ部材について説明するための模式図である。
符号の説明
1 処理装置
2 チャンバ部
3 補強部材
4 基板キャリア
11 ロードロック室
12 加熱室
13 第1成膜室
14 第2成膜室
31 リブ部材
32 接合部材
S 基板
以下、本発明の実施の形態を図1〜図5を参照して説明する。なお、図中同じ構成要素については同一の参照番号を付してある。
図1は、処理装置の構成を説明するための模式図である。処理装置1は、略垂直に保持された基板に対して処理を行う縦型処理装置であり、ロードロック室11と、加熱室12と、第1成膜室13と、第2成膜室14とがこの順で接続されて構成されるインライン式のものである。処理装置1内には、基板を搬送するための往路15及び復路16がロードロック室11から第2成膜室14まで設けられている。
各室には、図示しない真空ポンプが設けられおり、さらに、各室で所定の処理を行うための処理手段が設けられている。具体的には、加熱室12内部の一の側面には、加熱手段が設けられ、第1成膜室13及び第2成膜室14内部の一の側面には、成膜手段が設けられている。また、第2成膜室14には、基板を保持する基板キャリア4(後述する)を往路15及び復路16間で移動させるための経路変更手段が設けられている。
基板キャリア4は、基板Sを略垂直に保持するものであり、往路15及び復路16上を搬送されるように構成されている。この基板キャリアに保持された基板は、基板キャリア4により往路15上を移動して各室内で所定の処理がなされ、第2成膜室14で経路変更手段により往路15から復路16に移動されて、復路16を通って処理装置1外へ搬出される。即ち、ロードロック室11に搬入された基板Sは、ロードロック室11で真空状態に保持された後に、加熱室12において所定の温度まで加熱される。次いで第1成膜室13で所定の膜が形成された後に、第2成膜室14において経路変更手段により復路16側へ移動される。その後、基板Sは、復路16上を移動して、第2成膜室14から再度第1成膜室13、加熱室12及びロードロック室11を通過して処理装置1から取り出される。
ここで、各室は、基板処理室を有するチャンバからなる。処理装置1に搬入される基板としては、例えば2850mm×3050mmの大型の基板が挙げられ、このような大型の基板を処理するためには、上記の基板を収納しうるサイズの基板処理室を有する大型のチャンバが必要である。また、上述したようなインライン式の縦型処理装置においては、チャンバ部の外側に補強部材を設ける必要がある。この場合に、大型の基板に対応した基板処理室を有するロードロック室11等をチャンバ部と補強部材が一体となって構成されたチャンバを用いて作製すると、大きすぎて設置場所まで搬送できなくなることを防止する必要がある。
そこで、本実施の形態においては、各チャンバを構成するチャンバ部に設けられた補強部材を着脱自在に構成し、搬送時には補強部材を取り外し、設置後に取り付けることができるように構成している。このようなチャンバの構成について、加熱室12を例に挙げて図2及び図3を用いて説明する。
図2及び図3は、本発明のチャンバを用いた加熱室12の構成を説明するための模式図である。加熱室12は、チャンバ部2を有する。チャンバ部2は、図3に示すように直方体状であり、略垂直に保持された大型の被処理基板をその内部で処理するために、奥行き(後述する基板搬入口21の短手方向に一致する)は短く、縦及び横は大型基板(例えば2850mm×3050mmの基板)より大きくなるように構成されている。チャンバ部2は、矩形状の基板搬入口21をロードロック室11側側面22に備えている。この基板搬入口21は、図1に示したロードロック室11の脱気室に連通されると共に、チャンバ部2内部に設けられた加熱処理室(図示せず)に連通され、第1成膜室13側側面23まで貫通している。加熱処理室には、図示しない真空ポンプ及び図示しない加熱手段が設けられて、加熱処理室内を所定の圧力とすることができると共に、加熱処理室内を所定の温度に昇温して保持できるように構成されている。
チャンバ部2の外壁面のうち、真空状態とした場合のチャンバ部の歪みを防止するために、大気に接する面、即ち天井面24、底面25、側面26、27には、この順で補強部材3A、3D、3B、3Cが設けられている。ロードロック室11に接する側面22及び第1成膜室13に接する側面23には補強部材3は設けられていない。補強部材3A、3B、3Cは、リブ部材31と、リブ部材31が接合された板状の接合部材32とからなる。チャンバ部2の底面25に設けられた補強部材3Dは、板状の接合部材32のみからなる。このように、設置場所等に鑑みて、補強部材3としては、リブ部材31及び接合部材32から選ばれた少なくとも1つを用いることが可能である。
接合部材32は、チャンバ部2の取り付け面に、取り付け部材によって着脱自在に設置することができるように構成されている。図2中では、例として補強部材3Aは、接合部材32をボルト321でチャンバ部2に着脱自在で取り付けられている。この場合に、接合部材32は、チャンバ部2の取り付け面の全面を覆うことが好ましいが、例えば上述したように処理装置において所定の処理を行うための機能部、即ち真空ポンプや加熱手段の設置部分がチャンバ部2に設けられている場合には、この機能部以外の部分(全領域)を覆うようにすればよい。図中では、補強部材3Bの接合部材32は、図示しない真空ポンプの設置部分322以外の部分を覆うように、即ち、設置部分322に対応する位置に開口が設けられ、その他の部分は、側面26を覆うことができるように構成されている。これにより、より強度を高く保持することが可能である。
補強部材3A、3B、3Cのリブ部材31は、接合部材32に例えば溶接で固定されている。なお、リブ部材31を着脱自在となるように固定する場合については後述する。リブ部材31は、縦リブ311及び横リブ312が格子状となるように構成されている。例えば、補強部材3Aにおいては、リブ部材31は一本の横リブ312に2本の縦リブ311が直角に交差するように構成され、補強部材3B及び3Cにおいては、リブ部材31は、2本の縦リブ311と2本の横リブ312とが井桁状となるように構成されている。また、リブ部材31の形状は、チャンバ内部が真空状態となった場合にチャンバがたわまないように設けてあればどのような形状でもよく、例えばストライプ状であっても、折れ線状であってもよい。さらにまた、リブ部材31は、少なくとも一つ外壁面に設けられていればよい。少なくとも一つ設けていることで、チャンバの外壁面が歪むことを抑制できる。例えば、リブ部材31を天井面の中央に一つ設けても良い。このように、チャンバの外壁面の歪みを抑制すべく外壁面の一つの端部から端部に亘って設ければよい。また、リブ部材31は、縦リブ31のみでも横リブ32のみでもよく、さらに、斜めになるように設けられていてもよい。
このように、本チャンバにおいては、補強部材3A〜3Dを設けることで加熱室12が真空引きされた際の強度を確保できる。また、補強部材3A〜3D(接合部材32及びこれに固定されたリブ部材31)が着脱自在であるで、輸送の際には補強部材3A〜3Dを取り外してチャンバ全体のサイズを小さくすることができるので、輸送に便利である。
さらにまた、補強部材3A〜3Dが着脱自在に構成されていることで、必要に応じてリブ部材31を変更することができる。例えば、図4は、加熱室12の別の構成を説明するための模式図であり、チャンバ部2の天井面に設けられた補強部材3A'は、図2に示す補強部材3Aとはリブ部材31とは形状が異なるものである。即ち、この補強部材3A'においては、補強部材3Aとは4本の縦リブ311及び2本の横リブ312が格子状に組まれている点が異なる。
縦リブ311及び横リブ312とで区画されてなる中央部313にクレーン33が設けられている。クレーン33は、例えばメンテナンス時に交換を要するチャンバ内部に設置される防着板やヒータプレート等の交換部材等の運搬に用いられる。クレーン33は、中央部313に設置され固定される設置部331と、設置部331に接続されている柱状の支持部332とを有する。縦リブ311と横リブ312とは、設置部331の形状に合う中央部313が区画されるように構成されており、この中央部313に設置部331が設置され、縦リブ311及び横リブ312で図示しない固定具によってしっかりと固定され支持されている。そして、柱状の支持部332には、支持部332を軸中心として回動自在に接続されている腕部333が設けられている。この腕部333の先端部には、吊下部334と、吊下部334に線部材335を介して設けられた取り付け部336とが設けられており、取り付け部336は線部材335の長さを変えることで上下動が自在であるように構成されている。本クレーン33は、取り付け部336を上下動させて、交換部材に取り付け部336を取り付けて、交換部材をつり下げた状態で保持する。この場合に、腕部333は支持部332を軸中心として回動自在に接続されているので、取り付け部336に取り付けられた交換部材を左右方向にも自在に移動させることが可能である。本実施の形態では、設置部331の形状に合わせて縦リブ311及び横リブ312を設けてあるため、設置部331をこれらのリブでしっかりと支持し固定して設置することができるので、かかる構成のクレーン33を安全に保持することができる。さらに、このような形状のリブ部材を有する補強部材3A’を用いれば、縦リブ311がもう本増えているため、より強度が高いので、上述したような重量物であるクレーン33を支持するための支持部材としても用いることができる。このように、補強部材3A〜3Dが着脱自在であることで、必要に応じて補強部材3A〜3Dの1以上を別のリブ形状を有する補強部材に交換し、リブ部材31を別の部材の支持部材として用いることができるので、汎用性が高い。
さらにまた、補強部材3が着脱自在に構成されていることで、必要に応じて加熱処理室内部の構造により接合部材32に接続する内部構造物を取り替えることもできる。例えば、図5は、加熱処理室の構造を説明するための加熱室の模式的断面図である。加熱室12内部には、底面に基板搬送路としての往路15が設けられており、底面の往路15上を、基板キャリア4が移動できるように構成されている。基板キャリア4には、基板Sが略垂直に保持されている。
ここで、基板が1mを超えるような大型の基板であると、基板Sを略垂直に保持するためには、基板キャリア4だけでは足りず、さらに保持部材を用いる場合がある。そこで、図5に示す形態では、マグネット41を基板キャリア4の上部に設けると共に、チャンバ部2の上壁面の一部に開口を設けてマグネット42をこの開口を介して接合部材32に接続している。このマグネット41及び42の引力により、より往路15及び復路16において基板キャリア4が倒れないように保持できるので、安全に基板Sを搬送できる。このように保持部材の一方としてのマグネット42を接合部材32に接続することで、例えばマグネット42にパーティクルが付着したのでメンテナンスが必要な場合などに、補強部材3Aを取り外し、別のマグネット42が設けられた別の補強部材を取り付けて成膜は続け、その間にマグネット42のメンテナンスを行うことも可能である。従って、補強部材3が着脱自在に構成されていることで、装置の稼働率を下げずに必要に応じて接合部材32に接続する内部構造物を取り替えることもできる。なお、接合部材32を設けずリブ部材31のみ設ける場合には、リブ部材31にマグネット42を設けてもよい。
ここで、リブ部材31を着脱自在となるように固定する場合について図6〜8を用いて説明する。図6は、リブ部材31をチャンバの天井面24に設置した状態を示すための模式的斜視図である。図6に示すように、リブ部材31は、リブ部51とリブ部51に設けられたフランジ部52とを備える。そして、ボルト53により、フランジ部52をチャンバの天井面24に固定する。このようにリブ部材31にフランジ部52を設けて複数のボルト53によりリブ部材31を着脱自在に簡易に固定することができる。そして、リブ部材31が着脱自在であることで、大型であっても輸送が容易である。
図7に示す実施形態について説明する。図7は、図6とは別のリブ部材について説明するための模式図であり、(a)は設置前のリブ部材及び補強部材について説明するための斜視図であり、(b)はリブ部材を補強部材に設置した状態を示すための斜視図である。図7に示す実施形態では、接合部材32の設置面にはピン54が離間して複数設けてある。リブ部材31のリブ部51に設けたフランジ部52には、上面視においてだるま形状の、即ち径の小さい穴521と径の大きい穴522が連通したピン穴523が複数設けられている。この場合、径の小さい穴521の径はピン54の胴部541に嵌合するように形成され、径の大きい穴522の径はピン54の頭部542の径と同じか、大きくなるように形成されている。このリブ部材31を接合部材32上に設置するには、初めに、ピン54の頭部542が各径の大きい穴522に臨んだ状態でリブ部材31を接合部材32に載置する。次いで、この状態でリブ部材31をピン54の胴部541が径の小さい穴521に嵌合するようにスライドさせて、リブ部材31を接合部材32に固定する。このように接合部材32に複数のピン4を設け、このピンをリブ部材31のフランジ部5に設けたピン穴523に挿入しスライドすることで、リブ部材31を簡易に着脱自在に固定することができる。そして、リブ部材31が着脱自在であることで、大型であっても輸送が容易である。
次いで、図8に示す実施形態について説明する。図8は、さらに別のリブ部材について説明するための模式図であり、(a)はリブ部材の上面図、(b)はリブ部材のA−A’断面図、(c)は補強部材の上面図、(d)は補強部材のB−B’断面図であり、(e)はリブ部材を補強部材に設置した状態を示すための斜視図である。図8(a)(b)に示すように、リブ部材31のリブ部51は、不連続的に設けられたフランジ部55を有する。図8(c)に示すように、接合部材32には、溝56が設けられている。溝56は、開口部の狭い第一溝部561とこの第一溝部561に連通した開口部の広い第二溝部562とからなり、第一溝部561と第二溝部562とが交互に繰り返されて構成されている。この第二溝部562の開口部は、リブ部材31のフランジ部55と同一か、やや大きく、底部までその幅は変わらない。また、図8(d)に示すように、第一溝部561の幅は、開口部においてリブ部材31のリブ部51の幅とほぼ同一であり、内部において第二溝部562の幅と同一になっている。
リブ部材31を溝56に設置して固定するには、まず、リブ部材31のフランジ部55が溝56の第二溝部562に臨ませて溝56にリブ部材31を挿入する。そして、その後リブ部材31を、フランジ部55が第一溝部561の内部に保持されるようにスライドさせて固定する。この場合にリブ部材31と接合部材32とをより強固に固定するために第一溝部561の周囲に図示しないボルト穴を設け、ボルト53により固定してもよい。このようにリブ部材31を接合部材32にスライド挿入することができるように構成することで、リブ部材31を簡易に着脱自在に固定することができる。そして、リブ部材31が着脱自在であることで、大型であっても輸送が容易である。
なお、図7、図8の実施形態について、リブ部材31は接合部材32上に設けたがこれに限定されず、例えば、チャンバ部2の外壁面に直接設けてもよい。また図6の実施形態についても、リブ部材31はチャンバ部2の天井面24に設けたがこれに限定されない。また、これらのリブ部材31の上面に上述したクレーン等を設けることももちろん可能である。
上記実施の形態においては加熱室12を例にとって説明したが、ロードロック室11、第1成膜室13、第2成膜室14においても同様のチャンバを用いて構成することができる。そして、それぞれにおいて、内部の構造や、外部に取り付ける部材に応じて補強部材を変化させることができる。また、これらの大型の基板に対して成膜する処理装置でなくても、同様の構成とすることができる。さらにまた、上記実施の形態では、補強部材3A〜3Dは、全て着脱可能としたが、輸送時に問題とならなければ、全てを着脱可能としなくてもよい。例えば、補強部材3Aのみ着脱可能としてもよい。もちろん、補強部材3Aのうち、リブ部材31のみ、又は接合部材32のみを着脱可能としてもよい。
また、上述した実施形態では、チャンバ部の底面25に設けられた補強部材3はリブ部材31を有していなかったが、リブ部材31を有していてもよい。この場合には、例えばチャンバ部2をリブ部材31間から支持する載置台上にチャンバ部2を載置すればよい。
本発明のチャンバによれば、大型の基板にも成膜等の所定の処理を行うことができる。従って、半導体製造分野で利用可能である。

Claims (9)

  1. 基板が搬入され、基板に対して所定の処理が行われるチャンバ部と、チャンバ部の外壁面に設けられた着脱可能な補強部材とを備え、
    前記補強部材が、前記外壁面に着脱可能に取り付けられたリブ部材であり、
    前記補強部材が、さらに前記外壁面に着脱可能に取り付けた板状の接合部材を備え、
    前記リブ部材が、接合部材を介して前記外壁面に設けられたことを特徴とする真空チャンバ。
  2. 前記補強部材は、前記外壁面のうち、大気に接触する面に取り付けられたことを特徴とする請求項に記載の真空チャンバ。
  3. 前記接合部材は、接合部材が設けられている外壁面において、チャンバ部内で所定の処理を行うための機能部材が設けられていない全ての領域を覆うように構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の真空チャンバ。
  4. 前記チャンバ部は、基板キャリアにより略垂直に保持された被処理基板に対し所定の処理を行うことができるように構成されていることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の真空チャンバ。
  5. 前記チャンバ部の壁面の一部に開口を設け、この開口を介して前記補強部材に着脱自在にマグネットが取り付けられていることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の真空チャンバ。
  6. 前記リブ部材が、互いに交差する複数の縦リブ部材及び横リブ部材から構成され、
    この縦リブ部材及び横リブ部材により構成される空間にクレーンが設置され固定されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の真空チャンバ。
  7. 前記クレーンは、前記縦リブ部材及び横リブ部材により構成される空間に設置され固定された設置部と、この設置部に接続されている支持部と、この支持部を軸中心として回動自在に接続されている腕部と、この腕部の先端部に、吊下部及び線部材を介して設けられた取り付け部とからなることを特徴とする請求項に記載の真空チャンバ。
  8. 複数の真空チャンバを備え、各真空チャンバのチャンバ部内で基板に対して所定の処理を行う成膜装置であって、
    各チャンバ部は、各チャンバ部の外壁面に着脱可能な補強部材を備え
    前記補強部材が、前記外壁面に着脱可能に取り付けられたリブ部材であり、
    前記補強部材が、さらに前記外壁面に着脱可能に取り付けた板状の接合部材を備え、
    前記リブ部材が、接合部材を介して前記外壁面に設けられたことを特徴とする成膜装置。
  9. 前記チャンバ部の外壁面が、チャンバ部の天井面、底面、及び他の真空チャンバが接続されていない側面であることを特徴とする請求項に記載の成膜装置。
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