JP5232373B2 - 2結晶法x線トポグラフィ装置 - Google Patents
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Description
Si(422)用:(100)方位結晶を利用,入射角8.75°回折角88.0°、
Si(511)用:(111)方位結晶を利用,入射角8.53°回折角95.0°、
Si(440)用:(100)方位結晶を利用,入射角8.35°回折角106.7°、
である。
2…第1結晶(試料)
3…定盤
4…X線フィルム
5…X線源(発生装置)
6…スリット
7…走査台
10…コリメータ。
Claims (6)
- X線源からのX線を第1結晶に入射して回折X線を得、当該得られた回折X線を、試料である第2結晶の表面を走査しながら所定の角度で入射し、当該第2結晶の表面から得られる回折X線を記録媒体上に記録し、もって、X線トポグラフィを得る2結晶法X線トポグラフィ装置であって、
前記X線源と、当該X線源に連結されてX線を平行X線にするコリメータと、当該平行X線を所定の幅で前記第1結晶に入射するスリットとによってX線発生部を構成し、
前記第1結晶及び前記第2結晶そして前記記録媒体を含めてトポゴニオ部を構成しており、
前記トポゴニオ部を定盤上に搭載すると共に、前記X線発生部を走査台上に搭載し、更に、当該走査台を、前記X線源から前記第1結晶に対するX線の入射方向を除いた方向に移動可能とする走査機構と、当該走査機構を駆動するモータとを備え、当該モータ及び走査機構を前記定盤から離して配置することにより、当該モータの振動の前記第1結晶及び第2結晶そして記録媒体への影響を除去することを特徴とする2結晶法X線トポグラフィ装置。 - 前記請求項1に記載された2結晶法X線トポグラフィ装置において、前記走査台は、前記走査機構により、前記平行X線の取り出し方向に対して直交する方向に走査することを特徴とする2結晶法X線トポグラフィ装置。
- 前記請求項1に記載された2結晶法X線トポグラフィ装置において、前記走査機構は、リニアガイドからなり、前記モータにより走査が可能であることを特徴とする2結晶法X線トポグラフィ装置。
- 前記請求項1に記載された2結晶法X線トポグラフィ装置において、前記トポゴニオ部を搭載する前記定盤は、鋳鉄製の台から構成されていることを特徴とする2結晶法X線トポグラフィ装置。
- 前記請求項1に記載された2結晶法X線トポグラフィ装置において、前記試料である第2結晶は、口径が200mm以上の半導体の結晶板であることを特徴とする2結晶法X線トポグラフィ装置。
- 前記請求項1に記載された2結晶法X線トポグラフィ装置において、前記試料である第2結晶である半導体の結晶板は、シリコンウェーハであることを特徴とする2結晶法X線トポグラフィ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006264731A JP5232373B2 (ja) | 2006-09-28 | 2006-09-28 | 2結晶法x線トポグラフィ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006264731A JP5232373B2 (ja) | 2006-09-28 | 2006-09-28 | 2結晶法x線トポグラフィ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008082939A JP2008082939A (ja) | 2008-04-10 |
JP5232373B2 true JP5232373B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=39353952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006264731A Active JP5232373B2 (ja) | 2006-09-28 | 2006-09-28 | 2結晶法x線トポグラフィ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5232373B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11703465B2 (en) | 2020-09-02 | 2023-07-18 | Kioxia Corporation | Apparatus for inspecting semiconductor device and method for inspecting semiconductor device |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5557115B2 (ja) * | 2011-03-15 | 2014-07-23 | ブラザー工業株式会社 | プリンタ |
JP5838114B2 (ja) | 2012-04-02 | 2015-12-24 | 株式会社リガク | X線トポグラフィ装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07107516B2 (ja) * | 1987-12-15 | 1995-11-15 | 理学電機株式会社 | X線回折装置のゴニオメータの自動光軸調整装置 |
JP2732311B2 (ja) * | 1989-11-06 | 1998-03-30 | 理学電機株式会社 | X線トポグラフィ装置 |
JP2959745B2 (ja) * | 1994-09-27 | 1999-10-06 | 株式会社テクノス | 表面欠陥評価装置 |
JPH09145641A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 単結晶の結晶性評価方法及び装置 |
JP3627381B2 (ja) * | 1996-05-23 | 2005-03-09 | 住友電気工業株式会社 | 単結晶薄膜の評価方法 |
JP2001066398A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-03-16 | Rigaku Corp | X線測定装置 |
JP2001235435A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Ricoh Co Ltd | 撮像装置 |
JP4447801B2 (ja) * | 2001-04-06 | 2010-04-07 | 株式会社リガク | X線トポグラフ装置およびx線トポグラフ方法 |
JP4383374B2 (ja) * | 2005-03-10 | 2009-12-16 | 株式会社リガク | X線回折装置 |
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2006
- 2006-09-28 JP JP2006264731A patent/JP5232373B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11703465B2 (en) | 2020-09-02 | 2023-07-18 | Kioxia Corporation | Apparatus for inspecting semiconductor device and method for inspecting semiconductor device |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008082939A (ja) | 2008-04-10 |
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SG99 | Written request for registration of restore |
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SG99 | Written request for registration of restore |
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