JP5230143B2 - フッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、Xeガスのガス放電により生成した紫外光により励起されて波長230〜260nmの範囲にピークを有する紫外光を発光するフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末を製造する方法に関する。
交流型プラズマディスプレイパネル(以下、AC型PDPともいう)は、一般に、画像表示面となる前面板と、放電ガスが充填された放電空間を挟んで対向配置された背面板とからなる。前面板は、前面ガラス基板、前面ガラスの上に形成された一対の放電電極、放電電極を被覆するように形成された誘電体層、そして誘電体層の表面に形成された誘電体保護層からなる。背面板は、背面ガラス基板、ガラス基板の上に形成されたアドレス電極、ガラス基板とアドレス電極とを被覆するように形成された、放電空間を区画するための隔壁、そして隔壁の表面に形成された赤、緑、青の蛍光体層からなる。
放電ガスとしては、一般にXe(キセノン)とNe(ネオン)との混合ガスが利用されている。この混合ガスでは、Xeが放電ガスであり、Neはバッファガスである。
誘電体保護層の形成材料には、AC型PDPの作動電圧を低減し、かつ放電空間に生成したプラズマから誘電体層を保護するために、二次電子放出係数が高く、耐スパッタ性に優れる酸化マグネシウムが広く利用されている。
従来より、AC型PDPにおいては、発光特性の向上を目的として、誘電体保護層の放電空間側の表面に、放電ガスにより生成する紫外光によって励起されて、蛍光体層の蛍光体を励起し得る波長の紫外光を放出する紫外光放出層を設けて、放電ガスから放出される紫外光と、紫外光放出層から放出される紫外光とにより蛍光体層の蛍光体を励起させることにより、蛍光体層の発光効率を向上させることが検討されている。
例えば、特許文献1には、マグネシウムが加熱されて発生される蒸気が気相酸化されることによって生成した、BET法によって測定した平均粒子径が500オングストローム以上、好ましくは2000オングストローム以上の気相法酸化マグネシウム単結晶体からなる紫外光放出層を、誘電体保護層の放電空間側の表面に形成したAC型PDPが開示されている。そして、この紫外光放出層は230〜250nmの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出し、その波長の紫外光により蛍光体が励起されて発光することにより、PDPの輝度が増加することが開示されている。
特開2006−59786号公報
本発明の目的は、AC型PDPなどのXeガスを放電ガスとするガス放電発光装置の紫外光放出層の材料として有用な、Xeガスのガス放電により生成した紫外光により励起されると、波長250nm付近にピーク波長を有する紫外光を高い効率で放出する酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法を提供することにある。
本発明者は、焼成によって純度99.8質量%以上の酸化マグネシウム粉末を生成する高純度のマグネシウム化合物粉末を、フッ化マグネシウム粉末などのフッ素源の存在下、850〜1500℃の温度で焼成することによって得られたフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末が、Xeガスのガス放電により生成した紫外光によって励起されると、波長250nm付近(特に、波長230〜260nmの範囲)にピーク波長を有する紫外光を高い効率で放出することを見出し、本発明を完成させた。
本発明は、焼成によって純度99.8質量%以上の酸化マグネシウム粉末を生成するマグネシウム化合物粉末(但し、酸化マグネシウム粉末及びフッ化マグネシウム粉末を除く)を、フッ素源の存在下に850〜1500℃の温度で焼成することを特徴とする、Xeガスのガス放電により生成した紫外光により励起されて波長230〜260nmの範囲にピークを有する紫外光を発光するフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法にある。
本発明のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法の好ましい態様は、以下の通りである。
(1)生成するフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末がフッ素を0.01質量%以上含む。
(2)生成するフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末がフッ素を0.01〜10質量%の範囲で含む。
(3)マグネシウム化合物粉末が、水酸化マグネシウム粉末、塩基性炭酸マグネシウム粉末、硝酸マグネシウム粉末、又は酢酸マグネシウム粉末である。
(4)マグネシウム化合物粉末が、焼成によってBET比表面積が、5〜150m2/gの範囲にある酸化マグネシウム粉末を生成するものである。
(5)フッ素源が純度99.0質量%以上のフッ化マグネシウム粉末であって、該粉末をマグネシウム化合物粉末に混合して焼成する。
本発明のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法を利用することによって、Xeガスのガス放電により生成した紫外光により励起されると、波長250nm付近にピーク波長を有する紫外光を高い効率で放出する酸化マグネシウム焼成物粉末を工業的に有利に製造することができる。
本発明のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法は、焼成によって純度99.8質量%以上、好ましくは99.9質量%以上、更に好ましくは99.95質量%以上の酸化マグネシウム粉末を生成する高純度のマグネシウム化合物粉末(但し、酸化マグネシウム粉末及びフッ化マグネシウム粉末を除く)を、フッ素源の存在下に850〜1500℃の温度で焼成することに特徴がある。
本発明で用いるマグネシウム化合物粉末は、850℃より低い温度での焼成によって前述のような高純度の酸化マグネシウム粉末を生成するものであることが好ましい。マグネシウム化合物粉末の例としては、水酸化マグネシウム粉末、塩基性炭酸マグネシウム粉末、硝酸マグネシウム粉末、及び酢酸マグネシウム粉末を挙げることができる。
高純度のマグネシウム化合物粉末は、前述のような高純度の酸化マグネシウム粉末を生成するものであれば、どのような製法によるものであってもよい。高純度のマグネシウム化合物粉末は、例えば、気相合成酸化法によって生成した酸化マグネシウム粉末を出発原料として用いて製造することもできる。具体的には、気相合成酸化法により生成した酸化マグネシウム粉末を水和させることによって得られた水酸化マグネシウム粉末などを用いることができる。なお、気相合成酸化法とは、金属マグネシウム蒸気と酸素含有気体とを気相で接触させることにより、金属マグネシウムを酸化して酸化マグネシウム粉末を製造する方法である。この気相合成酸化法を利用して製造した酸化マグネシウム粉末は、一般に、純度が99.9質量%以上、特に99.95質量%以上である。
マグネシウム化合物粉末は、850℃以下より低い温度での焼成によってBET比表面積が、5〜150m2/gの範囲、特に7〜50m2/gの範囲にある酸化マグネシウム粉末を生成するものであることが好ましい。
本発明において、フッ素源としては、フッ素含有化合物粉末及びフッ素含有気体を用いることができる。フッ素含有化合物粉末の例としては、フッ化マグネシウム粉末、及びフッ化アンモニウム粉末を挙げることができる。フッ素含有化合物粉末は、純度が99.0質量%以上であることが好ましい。フッ素含有気体の例としては、フッ化水素ガス、及びフッ素含有化合物粉末を加熱して気化させたガスを挙げることができる。
フッ素源は、フッ素含有化合物粉末であることが好ましく、特にフッ化マグネシウム粉末であることが好ましい。フッ素源にフッ素含有化合物粉末を用いる場合は、フッ素含有化合物粉末とマグネシウム化合物粉末とを混合して焼成することが好ましい。
フッ素含有化合物粉末とマグネシウム化合物粉末との粉末混合物は、通常は、昇温速度100〜500℃/時間の条件で、好ましくは850〜1500℃の範囲、より好ましくは900〜1500℃の範囲、更に好ましくは1000〜1500℃の温度にまで加熱され、次いで該温度で好ましくは10分以上、より好ましくは20分〜5時間、更に好ましくは20分〜2時間加熱焼成される。粉末混合物の焼成物は次いで降温速度100〜500℃/時間の条件で、室温まで冷却することによって、目的のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末が得られる。
粉末混合物中のフッ素含有化合物粉末とマグネシウム化合物粉末との混合割合は、粉末混合物の焼成温度や焼成時間などの焼成条件によっても異なるが、生成するフッ素含有酸化マグネシウム粉末のフッ素含有量が好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.01〜10質量%の範囲、特に好ましくは0.03〜5質量%の範囲、更に好ましくは0.03〜3質量%の範囲となる割合である。例えば、フッ素含有化合物粉末にフッ化マグネシウム粉末を用いる場合、焼成温度1200℃で、焼成時間が30分であれば、フッ化マグネシウム粉末とマグネシウム化合物粉末との配合割合は、両粉末に含まれるマグネシウムの合計量100質量部に対してフッ素量が0.08質量部以上となる割合であることが好ましく、0.3〜60質量部の範囲となる割合であることがより好ましく、0.4〜40質量部の範囲となる割合であることが更に好ましい。このようにして得られる本発明のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末は、フッ素を上記の範囲にて含有し、以下のような特性を有する。また、そのBET比表面積は、好ましくは0.1〜30m2/gの範囲、更に好ましくは0.1〜12m2/gの範囲にある。
本発明の製造方法によって得られるフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末は、Xeガスのガス放電により生成した紫外光に励起されて波長250nm付近の紫外光(230〜260nmの範囲にピーク波長を有する紫外光)を高い効率で放出する。また、AC型PDPや蛍光体ランプ等のガス放電発光装置に使用される蛍光体材料は、前記特許文献1に記載されているように波長250nm付近の紫外光に励起されて可視光を放出することが知られている。このため、本発明の製造方法によって得られたフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末から製造された酸化マグネシウム膜を、AC型PDPや蛍光体ランプ等のXeガスを放電ガスに用いたガス放電発光装置の放電空間内、特に誘電体保護層の放電空間側の表面に配置すると、Xeガスのガス放電により放電空間内に放出される紫外光の光量を増加させることができ、その結果、ガス放電発光装置から放出される可視光の量を増加させることが可能になる。従って、本発明の製造方法によって得られるフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末は、AC型PDPの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造用として特に有用である。
なお、本発明の製造方法によって得られるフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末は、スプレー法や静電塗布法などの公知の方法を用いることにより酸化マグネシウム膜とすることができる。
[実施例1]
酸化マグネシウム源として、水酸化マグネシウム[Mg(OH)2]粉末(純度:99.98質量%、BET比表面積:36.3m2/g)4.0gと、フッ素源としてフッ化マグネシウム(MgF2)粉末(純度:99.1質量%、BET比表面積:6.4m2/g)0.0043gとを混合して、粉末混合物を得た。得られた粉末混合物を容量25mLのアルミナ坩堝に投入し、アルミナ坩堝に蓋をして電気炉に入れ、240℃/時間の昇温速度で炉内温度を1200℃まで上昇させ、次いで該温度で30分間加熱焼成した。その後、炉内温度を240℃/時間の降温速度で室温まで冷却した。そして、電気炉からアルミナ坩堝を取り出して、粉末混合物の焼成物を得た。得られた焼成物は、フッ素含有量が0.01質量%以上のフッ素含有酸化マグネシウム粉末であった。なお、フッ素含有量は下記の方法により測定した。
[フッ素含有量の測定方法]
焼成物を塩酸で溶解して調製した溶液中のフッ素量をJIS−0102(工場排水試験方法)の34.1に記載の方法により測定する。
[実施例2〜4]
水酸化マグネシウム粉末とフッ化マグネシウム粉末との配合量を、下記表1に示す量にて変えた以外は、実施例1と同様にして、焼成物を得た。得られた焼成物のフッ素含有量を上記の方法により測定した結果、焼成物のフッ素含有量は、いずれも0.01質量%以上であった。
[参考例1]
酸化マグネシウム源を、水酸化マグネシウム粉末に代えて、気相合成酸化法により製造された酸化マグネシウム粉末(2000A;宇部マテリアルズ(株)製、純度99.98質量%、BET比表面積8.7m2/g)を使用し、酸化マグネシウム粉末の配合量を5.0g、フッ化マグネシウム粉末の配合量を0.0025gとした以外は、実施例1と同様にして、焼成物を得た。得られた焼成物のフッ素含有量を上記の方法により測定した結果、焼成物のフッ素含有量は0.0084質量%であった。
[評価]
実施例1〜4及び参考例1にて得られた焼成物にXeガスのガス放電により生成した紫外光を照射して、焼成物から放出された紫外光スペクトルを測定し、波長250nm付近(波長230〜260nmの範囲)の最大ピーク値を紫外光発光強度として求めた。その結果を、参考例1にて得られた焼成物の紫外線発光強度を100とした相対値として表1に示す。
表1
────────────────────────────────────────
酸化マグネシウム源 フッ素源
───────────── ──────────── 紫外光発光強度
種類 配合量(g) 種類 配合量(g) (−)
────────────────────────────────────────
実施例1 Mg(OH)2 4.0 MgF2 0.0043 2420
実施例2 Mg(OH)2 4.0 MgF2 0.0427 6530
実施例3 Mg(OH)2 4.0 MgF2 0.4273 13260
実施例4 Mg(OH)2 3.0 MgF2 3.2058 9820
────────────────────────────────────────
参考例1 MgO 5.0 MgF2 0.0025 100
────────────────────────────────────────
表1の結果から明らかなように、本発明の製法に従って、高純度のマグネシウム化合物粉末をフッ素源の存在下に850〜1500℃の温度で焼成することによって得られたフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末は、Xeガスのガス放電により生成した紫外光により励起されて波長230〜260nmの範囲にピークを有する紫外光を発光する。

Claims (5)

  1. 蓋をしたるつぼ内にて、焼成によって純度99.8質量%以上の酸化マグネシウム粉末を生成する、水酸化マグネシウム粉末、塩基性炭酸マグネシウム粉末、硝酸マグネシウム粉末及び酢酸マグネシウム粉末からなる群より選ばれる少なくとも一種のマグネシウム化合物粉末を、フッ素源の存在下に850〜1500℃の温度で焼成することを特徴とする、Xeガスのガス放電により生成した紫外光により励起されて波長230〜260nmの範囲にピークを有する紫外光を発光するフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法。
  2. 生成するフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末がフッ素を0.01質量%以上含む請求項1に記載のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法。
  3. 生成するフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末がフッ素を0.01〜10質量%の範囲で含む請求項2に記載のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法。
  4. マグネシウム化合物粉末が、焼成によってBET比表面積が、5〜150m 2 /gの範
    囲にある酸化マグネシウム粉末を生成するものである請求項1に記載のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法。
  5. フッ素源が純度99.0質量%以上のフッ化マグネシウム粉末であって、該粉末をマグネシウム化合物粉末に混合して、焼成する請求項1に記載のフッ素含有酸化マグネシウム焼成物粉末の製造方法。
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