JP5229617B2 - 光導波路デバイスとその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)基板上に形成される光回路は何らかの機能を備えている。そのため、光回路が介在した結果として得られる光出力などの光特性を示す値は、光回路の特性(挿入損失、PDL(Polarization Dependent Loss)、分岐比など)のばらつきの影響を受けている。
(2)LDが期待通りに実装されているとは限らない。LDが台座から浮いていたり、傾いていたりする可能性がある。
(3)光特性に影響を与えているずれを、平面方向のずれと高さ方向のずれに分離することできない。
これらはつまり、掛かる手間に対して得られる結果の精度が低いことを意味する。従って現実的には、電子顕微鏡などで実際の実装状態を確認し、個々に実装状態からの高さのずれを確認する方法が最も正確で効果的である。
2 下クラッド層
3 埋め込み層
4 上クラッド層
5 コア
6 台座
7 電極
8 アライメントマーカ
9 LDチップ
10 活性層
11 観察方向
12 ダミーコア
13 凸部
14 側面
15 アライメントマーカ
20 光回路部
101 シリコン基板
102 下クラッド層
103 埋め込み層
104 上クラッド層
105 コア
106 台座
107 電極
108 アライメントマーカ
109 LDチップ
110 活性層
111 観察方向
115 アライメントマーカ
120 光回路部
Claims (6)
- 基板と、
前記基板上に配置される光素子と、
前記基板上に形成された光導波路を備える光回路部
とを具備し、
前記光回路部は、
前記光素子と光軸が合わせられたコアと、
前記コアと同じ層に配置され、前記光素子が前記基板上に配置されたときに、前記光素子に対向しない面に露出するダミーコアとを備え、
前記光回路部は、
前記基板上に配置される下クラッド層と、
前記下クラッド層の第1領域上に配置される前記コアと、
前記下クラッド層の前記第1領域と分離された第2領域上に配置される前記ダミーコアと、
前記コアと前記ダミーコアを覆うように前記下クラッド層上に形成された埋め込み層とを備え、
前記下クラッド層と前記埋め込み層との境界面は、前記下クラッド層と前記コアとの境界面よりも前記基板に対する高さが低く、
前記光回路部の平面形状は、前記光素子の端部と前記コアの端部とが対向する対向部において前記光素子の側に突出する凸部を有し、
前記ダミーコアは、前記凸部の前記端面と異なる向きの側面に露出する
光導波路デバイス。 - 請求項1に記載された光導波路デバイスであって、
更に、前記埋め込み層上に配置される上クラッド層を備える
光導波路デバイス。 - 請求項1に記載された光導波路デバイスであって、
前記埋め込み層は、前記コア及び前記下クラッド層と共に光導波路を形成する上クラッド層として機能する
光導波路デバイス。 - 請求項1に記載された光導波路デバイスであって、
前記対向部において、前記凸部の幅と前記光素子の幅は同じである
光導波路デバイス。 - 請求項1から4のいずれかに記載された光導波路デバイスであって、
前記側面は、前記光素子の一側面と同一面上に配置される
光導波路デバイス。 - 基板上に下クラッド層を形成する工程と、
前記下クラッド層上にコア層を形成する工程と、
前記コア層のうち光導波路の一部を形成する第1領域と前記第1領域と異なる第2領域とを残して、前記コア層をエッチングすることにより、前記第1領域にコアを形成し、前記第2領域にダミーコアを形成する工程と、
前記コア層の上部に上クラッド層を形成することにより前記光導波路を製作する工程と、
前記基板上に形成された目合わせ手段に従って光素子を配置するステップと、
外部に露出した前記ダミーコアを観察することにより、前記光導波路と前記光素子との光軸の位置関係を認識するステップと、
前記コア層と前記上クラッド層との間に埋め込み層を配置する工程とを具備し、
前記下クラッド層と前記埋め込み層との境界面は、前記下クラッド層と前記コアとの境界面よりも前記基板に対する高さが低く、
前記下クラッド層、前記コア、前記ダミーコア、及び前記埋め込み層を含む光回路部の平面形状は、前記光素子の端部と前記コアの端部とが対向する対向部において前記光素子の側に突出する凸部を有し、
前記ダミーコアは、前記凸部の前記端面と異なる向きの側面に露出する
光導波路デバイスの製造方法。
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