JP5205535B1 - 燃料電池セル - Google Patents

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Abstract

【課題】多孔体とインターコネクタとの剥離を抑制可能な燃料電池セルを提供する。
【解決手段】燃料電池セルは、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔とを含む多孔体と、多孔体上に形成される燃料極活性層を有する発電部と、多孔体上に形成され、燃料極活性層と電気的に接続される緻密質のインターコネクタと、を備える。多孔体とインターコネクタとは、共焼成されている。多孔体は、インターコネクタに接合される接合領域を有する。多孔体が還元雰囲気に曝された場合、接合領域において、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔との体積に対する気孔の体積割合は、14体積%以上かつ55体積%以下であり、該総体積に対するNi粒子の体積割合は、15体積%以上かつ50体積%以下であり、Ni粒子の体積とセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合は、82.5体積%以下である。
【選択図】図3

Description

本発明は、固体酸化物形燃料電池セルに関する。
近年、環境問題及びエネルギー資源の有効利用の観点から、燃料電池に注目が集まっている。
内部に流路を有する平板状の燃料電池セルは、一般的に、多孔質の燃料側電極と、燃料側電極の第1主面上に順次形成される固体電解質層及び空気極と、燃料側電極の第2主面上に形成される緻密質のインターコネクタと、を有する(例えば、特許文献1参照)。
また、燃料側電極とインターコネクタとの導電性を向上させることを目的として、インターコネクタと燃料側電極との間に中間層を設ける手法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2007−200761号公報 特開2004−253376号公報
しかしながら、特許文献1の燃料電池セルでは、還元時に、燃料側電極とインターコネクタとの界面に剥離が生じる場合がある。また、特許文献2の燃料電池セルでは、還元時に、中間層とインターコネクタとの界面に剥離が生じる場合がある。
これは、緻密体であるインターコネクタの還元膨張量が、多孔体である燃料側電極や中間層の還元膨張量よりも大きいことに起因するものである。
本発明は、上述の状況に鑑みてなされたものであり、多孔体とインターコネクタとの剥離を抑制可能な燃料電池セルを提供することを目的とする。
本発明に係る燃料電池セルは、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔とを含む多孔体と、多孔体上に形成され多孔体と電気的に接続される緻密質のインターコネクタと、を備える。多孔体とインターコネクタとは、共焼成されている。多孔体は、インターコネクタに接合される接合領域を有する。多孔体が還元雰囲気に曝された場合、接合領域において、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔との体積に対する気孔の体積割合は、14体積%以上かつ55体積%以下であり、該総体積に対するNi粒子の体積割合は、15体積%以上かつ50体積%以下であり、Ni粒子の体積及びセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合は、82.5体積%以下である。
本発明によれば、多孔体とインターコネクタとの剥離を抑制可能な燃料電池セルを提供することができる。
燃料電池セルの構成を示す断面図 支持基板とインターコネクタとの界面の断面を示す模式図 支持基板の接合領域におけるNi粒子、セラミック粒子及び気孔の体積割合を示す3成分系組成図 体積割合の算出方法について説明するための図 導通検査に用いられる電圧評価装置の構成を示す断面図 サンプルNo.1〜No.22におけるNi粒子、セラミック粒子及び気孔の体積割合を示す3成分系組成図 セバスチャン試験について説明するための図
次に、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なっている場合がある。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
以下の実施形態では、燃料電池セルの一例として固体酸化物型燃料電池(Solid Oxide Fuel Cell:SOFC)を挙げて説明する。以下においては、いわゆる縦縞型燃料電池について説明するが、本発明はこれに限られず、いわゆる横縞型燃料電池にも適用可能である。
《燃料電池セル100の構成》
燃料電池セル(以下、「セル」と略称する。)100の構成について、図面を参照しながら説明する。図1は、セル100の構成を示す断面図である。
セル100は、セラミックス材料によって構成される平板である。セル100は、例えば、1mm〜10mm程度の厚みと、10mm〜100mm程度の幅と、50mm〜500mm程度の長さとを有する。複数のセル100を直列に接続することによって、燃料電池を構成するセルスタックを形成することができる。
図1に示すように、セル100は、支持基板10と、インターコネクタ20と、発電部30と、を備える。
(支持基板10)
支持基板10は、扁平断面を有する平板である。支持基板10は、例えば、1mm〜10mm程度の厚みを有する。
支持基板10は、発電部30で発生する電流をインターコネクタに伝達させるための導電性と、燃料ガスを発電部まで透過させるためのガス透過性とを有する。支持基板10の内部には、図1に示すように、燃料ガスを通すための複数のガス流路11が形成されている。
支持基板10は、第1平坦面10Aと、第2平坦面10Bと、第1湾曲側面10Cと、第2湾曲側面10Dと、を有する。第1平坦面10Aと第2平坦面10Bとが互いに対向し、第1湾曲側面10Cと第2湾曲側面10Dとは互いに対向する。第1平坦面10A、第2平坦面10B、第1湾曲側面10Cおよび第2湾曲側面10Dは、互いに繋がっており、支持基板10の外周面を構成している。
支持基板10は、ニッケル(Ni)粒子と、セラミック粒子と、気孔と、を含んでいる。本実施形態において、支持基板10は、“多孔体”の一例である。支持基板10は、Ni粒子を酸化ニッケル(NiO)粒子として含有していてもよい。
セラミック粒子としては、イットリア安定化ジルコニア(YSZ)、カルシア安定化ジルコニア(CSZ)、希土類酸化物及びペロブスカイト型酸化物などが挙げられるが、イットリア(Y)、ガドリニウム固溶セリア(GDC)、ランタンクロマイト(LaCrO3)などのクロマイト系材料、及びSrTiO3などのチタネート系材料が特に好適である。このようなセラミック粒子は、導電性を有していてもよいし、導電性を有していなくてもよい。
なお、支持基板10の微構造については、インターコネクタ20との接合領域101(図2参照)に着目して後述する。
(インターコネクタ20)
インターコネクタ20は、支持基板10の第1平坦面10A上に配置される。インターコネクタ20は、支持基板10と電気的に接続されている。インターコネクタ20は、支持基板10と共焼成されている。インターコネクタ20は、支持基板10に比べて緻密質である。従って、インターコネクタ20における気孔率は、支持基板10における気孔率よりも低い。インターコネクタ20は、支持基板10を介して、発電部30で発生する電流を集電する。インターコネクタ20は、例えば、10μm〜100μm程度の厚みを有する。
インターコネクタ20は、緻密質なセラミックス、例えば、ランタンクロマイト系のペロブスカイト型酸化物によって構成される。ランタンクロマイト系のペロブスカイト型酸化物としては、Mg、Ca、Sr等を置換固溶したLa(CrMg)O系、(LaCa)CrO系、(LaSr)CrO等の材料が挙げられる。
(発電部30)
発電部30は、支持基板10の第2平坦面10B上に配置される。従って、発電部30は、支持基板10を介して、インターコネクタ20の反対側に配置されている。発電部30は、燃料極活性層31と、固体電解質層32と、空気極33とによって構成されている。
燃料極活性層31は、支持基板10の第2平坦面10B上に形成されている。燃料極活性層31は、希土類元素が固溶するZrO(安定化ジルコニア)と、Ni及び/又はNiOとによって構成される。希土類元素が固溶するZrOとしては、イットリア安定化ジルコニア(3YSZ、8YSZ、10YSZなど)が好適に用いられる。
固体電解質層32は、燃料極活性層31と空気極33との間に配置される。また、固体電解質層32は、燃料極活性層31上から支持基板10上に延在された第1シール部32a及び第2シール部32bを有する。固体電解質層32は、例えば、3μm〜50μm程度の厚みを有する。
固体電解質層32は、ジルコニウム(Zr)を含む。固体電解質層32は、Zrをジルコニア(ZrO2)として含んでもよいし、ジルコニアを主成分として含んでいてもよい。このような固体電解質層12の材料としては、例えば、3YSZ、8YSZ及び10YSZなどのイットリア安定化ジルコニアやScSZなどのジルコニア系材料が挙げられる。
空気極33は、固体電解質層32上に配置される。空気極33は、例えば、10μm〜100μm程度の厚みを有する。空気極33は、一般式ABO3で表されるペロブスカイト型酸化物の導電性セラミックスによって構成される。このようなペロブスカイト型酸化物としては、遷移金属ペロブスカイト型酸化物が挙げられ、特に、AサイトにLaを有するLaMnO3系酸化物、LaFeO3系酸化物、LaCoO3系酸化物などが好適に用いられる。なお、空気極33と電解質の間に、両者の反応を防止する反応防止層が挿入されていてもよい。反応防止層の材料としては、GdやSmをドープしたセリアが好適に用いられる。
(支持基板10の微構造)
次に、多孔体である支持基板10の微構造について、図面を参照しながら説明する。図2は、支持基板10とインターコネクタ20との界面Pの断面を示す模式図である。図3は、支持基板10の接合領域101におけるNi粒子、セラミック粒子及び気孔の体積割合を示す3成分系組成図である。ただし、図3では、Ni粒子、セラミックス粒子及び気孔の総体積(以下、「総体積」と略称する。)に対する各成分の体積割合が示されている。また、本実施形態では、各成分の体積割合について述べる場合、支持基板10は還元雰囲気に曝されているものとする。
図2に示すように、支持基板10は、インターコネクタ20に接合される接合領域101を有する。接合領域101は、Ni粒子とセラミック粒子と気孔とによって構成されている。界面Pにおいて、Ni粒子、セラミック粒子及び気孔のそれぞれは、インターコネクタ20に接合されている。界面Pは、インターコネクタ20の最も支持基板10側にある線として定義できる。界面Pは走査電子顕微鏡(SEM)での観察により識別できる。さらに、それに付随する元素分析装置、例えば、エネルギー分散型X線分光分析装置(EDS)や、波長分散型X線分光分析装置(WDS)などを用い、インターコネクタ20に含まれる主要成分が検出される境界を界面Pと識別することができる。なお、接合領域101は、界面Pから所定距離(例えば、5μm以下)内の領域として定義されうるが、界面Pに代えて界面Pを通る最小二乗線を用いてもよい。
図3に示すように、支持基板10が還元雰囲気に曝されている場合、総体積に対するNi粒子、セラミック粒子及び気孔それぞれの体積割合は、Ni粒子がx体積%、セラミックスがy体積%、気孔がz体積%である点を(x、y、z)とするときに、点A(37.1、7.9、55.0)、点B(15.0、30.0、55.0)、点C(15.0、71.0、14.0)、点D(50.0、36.0、14.0)及び点E(50.0、10.6、39.4)を頂点とする五角形によって囲まれた領域X内に存在する。
このような領域Xは、第1乃至第5ラインL1〜L5によって囲まれた領域として定義される。第1ラインL1は、総体積に対する気孔の体積割合が14体積%となるラインである。第2ラインL2は、総体積に対する気孔の体積割合が55体積%となるラインである。第3ラインL3は、総体積に対するNi粒子の体積割合が15体積%となるラインである。第4ラインL4は、総体積に対するNi粒子の体積割合が50体積%となるラインである。第5ラインL5は、Ni粒子の体積とセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合が82.5体積%となるラインである。
従って、支持基板10が還元雰囲気に曝されている場合、領域Xは、次の3つの条件を満たす領域として定義される。
条件(1):総体積に対する気孔の体積割合が14体積%以上かつ55体積%以下であること
条件(2):総体積に対するNi粒子の体積割合が15体積%以上かつ50体積%以下であること
条件(3):Ni粒子の体積とセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合が82.5体積%以下であること
ここで、総体積に対する各成分の体積割合の算出方法について説明する。図4は、体積割合の算出方法について説明するための図であり、界面Pの一部(P1〜P2)を拡大して示す模式図である。P1とP2との間隔は、例えば、30μm〜300μm程度である。
図4において、A1〜A5は、Ni粒子がインターコネクタ20に接合する範囲を示し、B1〜B5は、セラミックス粒子がインターコネクタ20に接合する範囲を示し、C1〜C5は、気孔がインターコネクタ20に接する範囲を示している。この場合、総体積に対する各成分の体積割合は、次の式(1)〜(3)によって推定される。ただし、式(1)〜(3)では、A1〜A5とB1〜B5とC1〜C5の和をWとする。
Ni粒子(体積%)=(A1+A2+A3+A4+A5)×100/W・・・(1)
セラミックス粒子(体積%)=(B1+B2+B3+B4+B5)×100/W・・・(2)
気孔(体積%)=(C1+C2+C3+C4+C5)×100/W・・・(3)
また、Ni粒子の体積及びセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合は、式(1)の値と式(2)の値の和で式(1)の値を除することによって算出される。
なお、このように2次元の組織から3次元の構造を推定する手法については、“水谷惟恭、尾崎義治、木村敏夫、山口喬著、「セラミックプロセッシング」、技報堂出版株式会社、1985年3月25日発行、第190頁から第201頁”に記載されている通りである。
また、Ni粒子がインターコネクタ20に接合する長さの平均値(図4では、(A1+A2+A3+A4+A5)/5)は、0.51μm以上3.1μm以下であることが好ましい。同様に、セラミックス粒子がインターコネクタ20に接合する長さの平均値(図4では、(B1+B2+B3+B4+B5)/5)は、0.49μm以上3.2μm以下であることが好ましい。
《燃料電池セル100の製造方法》
次に、燃料電池セル100の製造方法について説明する。
まず、NiO粉末とY粉末とを混合し、この混合粉末に、造孔材(例えば、セルロースや平均粒径0.5μm−20μmのPMMA粒子)、有機バインダーと、水とを混合して支持基板用坏土を形成する。
次に、支持基板用坏土を押出成形し、乾燥及び仮焼することによって、支持基板仮焼体を作製する。
次に、Yが添加されたZrO(例えば8YSZなど)の粉末と有機バインダーを混合して得られるスラリーを、ドクターブレード法によって固体電解質層用シートを作製する。
次に、NiO粉末と、Yが固溶したZrO(例えば8YSZなど)の粉末と、有機バインダーと溶媒とを混合したペーストを作製し、固体電解質層用シートの一部分上にスクリーン印刷法で塗布及び乾燥することによって、燃料極層用コーティング層を形成する。
次に、燃料極層用コーティング層が形成された固体電解質層用シートを支持基板成形体上に貼り付けることによって、積層体を作製する。
次に、積層体を所定の温度(例えば、1000℃程度)で仮焼処理する。
次に、LaCrO系酸化物と、有機バインダーと溶媒を混合したペーストを支持基板成形体の露出部分に印刷塗布し、所定の温度(1450℃)で焼成する。
次に、LSCF粉末とバインダーを添加して得られるスラリーを、固体電解質層用シート上に印刷及び乾燥し、その後所定の温度(例えば、1150℃)で焼き付けて空気極層を形成する。
《作用及び効果》
本実施形態に係る支持基板10(多孔体の一例)の接合領域101において、支持基板10が還元雰囲気に曝されている場合、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔との総体積に対する気孔の体積割合は、14体積%以上かつ55体積%以下である。
このように、気孔の体積割合を14体積%以上とすることによって、支持基板10の界面P近傍におけるヤング率を低減させることができる。そのため、還元時におけるインターコネクタ20の膨張に応じて界面P近傍に発生する応力を低減させることができる。また、気孔の体積割合を55体積%以下とすることによって、Ni粒子及びセラミックス粒子とインターコネクタ20との十分な接合幅を維持することができる。このように、応力の緩和と接合強度の維持とを両立させることができるので、支持基板10とインターコネクタ20との剥離を抑制することができる。
また、本実施形態に係る接合領域101において、支持基板10が還元雰囲気に曝されている場合、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔との総体積に対するNi粒子の体積割合は、15体積%以上かつ50体積%以下である。
このように、Ni粒子の体積割合を15体積%以上とすることによって、Ni粒子どうしの多くの接合箇所を確保することによって、接合界面における電気抵抗が高くなることを抑制できる。さらに、発電雰囲気でNi粒子が凝集した際に電気的なパスが容易に切断されてしまうことを抑制できる。また、Ni粒子の体積割合を50体積%以下とすることによって、還元時にNi粒子どうしが過剰に凝集することを抑制できる。
また、本実施形態に係る接合領域101において、支持基板10が還元雰囲気に曝されている場合、Ni粒子の体積とセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合は、82.5体積%以下である。これによって、還元時にNi粒子どうしが過剰に凝集することを抑制できる。
≪他の実施形態≫
本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない範囲で種々の変形又は変更が可能である。
(A)上記実施形態では、インターコネクタ20と接合される多孔体の一例として支持基板10を挙げて説明したが、これに限られるものではない。インターコネクタ20は、支持基板10とインターコネクタ20の間に介挿される中間層に接合されていてもよい。この場合には、中間層又は/及び支持基板10が多孔体となる。なお、このような中間層の導電率は、燃料極集電層として機能する支持基板10の導電率よりも高いことが好ましい。
(B)上記実施形態では特に触れていないが、セル100の形状は、燃料極支持型、平板形、円筒形、横縞型、などであればよい。また、セル100の断面は、楕円形状などであってもよい。
なお、横縞型燃料電池は、絶縁性の支持基板と、支持基板上に配置される第1及び第2発電部と、第1及び第2発電部を電気的に接続する緻密質のインターコネクタと、を備えている。絶縁性の支持基板は、多孔質であり、燃料ガスを通すための流路を内部に有し、平板状に形成されている。発電部は、導電性の燃料極集電層と、燃料極活性層と、固体電解質層と、空気極と、を有する。燃料極集電層は、支持基板上に形成される。燃料極活性層は、燃料極集電層上に形成される。固体電解質層は、燃料極活性層と空気極との間に配置される。インターコネクタは、第1発電部の燃料極集電層と、第2発電部の空気極とに電気的に接続される。インターコネクタの一部は、料極集電層の表面と支持基板の表面とに接合されている。
このような横縞型燃料電池では、燃料極集電層が“多孔体”の一例であってもよい。すなわち、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔とを含む燃料極集電層において、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔との総体積に対する気孔の体積割合を14体積%以上かつ55体積%以下とし、総体積に対するNi粒子の体積割合を15体積%以上かつ50体積%以下とし、Ni粒子の体積とセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合を82.5体積%以下とすることによって、多孔体である燃料極集電層とインターコネクタとの剥離を抑制することができる。なお、この場合、発電部を支持する支持基板には、Niが含まれていてもよいし、Niが含まれていなくてもよい。
また、横縞型燃料電池では、支持基板が“多孔体”の一例であってもよい。すなわち、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔とを含む支持基板において、Ni粒子とセラミックス粒子と気孔との総体積に対する気孔の体積割合を14体積%以上かつ55体積%以下とし、総体積に対するNi粒子の体積割合を15体積%以上かつ50体積%以下とし、Ni粒子の体積とセラミックス粒子の体積の和に対するNi粒子の体積割合を82.5体積%以下とすることによって、多孔体である支持基板とインターコネクタとの剥離を抑制することができる。
(C)上記実施形態では、支持基板10は、第1及び第2湾曲側面10C、10Dを有することとしたが、支持基板10の側面の形状はこれに限られるものではない。
(D)上記実施形態において、第1シール部32a及び第2シール部32bは、支持基板10の第1湾曲側面10C及び第2湾曲側面10Dを覆うこととしたが、“燃料側電極”の側方を覆っていればよい。
(E)上記実施形態において、第1シール部32a及び第2シール部32bは、支持基板10上に延在された固体電解質層32によって構成されることとしたが、固体電解質層32とは別の部材として形成されていてもよい。
以下において本発明に係るセルの実施例について説明するが、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではない。
[サンプルNo.1〜No.22の作製]
以下のようにして、NiO-Y板(支持基板)とインターコネクタとによって構成されるサンプルNo.1〜No.22を作製した。
まず、NiO粉末とY粉末を混合した粉末に、造孔剤としてのPMMAを添加した。この際、サンプルNo.1〜No.22では、NiO粉末(20重量%〜90重量%)、Y粉末(10重量%〜80重量%)の範囲で粉末を混合した。その後、NiOとYの合計重量に対して造孔剤を0重量%〜30重量%の範囲で添加した。
次に、造孔剤が添加された粉末を玉石が投入されたミルに入れ、水と分散剤を加えて3時間混合することによってスラリーを作製した。
次に、スラリーを目開き150μmの篩で濾した後、バインダーとしてのポリビニルアルコール(PVA)を添加して、100℃の乾燥器で乾燥させた。その後、乾燥した粉体を再度目開き150μmの篩に通して造粒粉末を作製した。
次に、造粒粉末を0.4t/cmの面圧で一軸プレスすることによって、直径30mm、厚み2.0mmのNiO-Y製のペレットを作製した。
次に、カルシウムがドープされたランタンクロマイトと、バインダーとしてのポリビニルブラチール(PVB)と、溶剤としてのテルピネオールとをトリロールミルによって混合することによって、スクリーン印刷用のペーストを作製した。
次に、焼成後の厚みが40μmになるように、ペレット上にペーストをスクリーン印刷し、1450℃で5時間かけて焼成した。このようにして、共焼成体であるサンプルNo.1〜No.22を作製した。
[サンプルNo.1〜No.22の還元処理後の導通検査]
サンプルNo.1〜No.22を、図5に示す電圧評価装置200内にセットして、NiOを還元させた後における導通の有無を確認した。電圧評価装置200は、上部と下部とに分かれたカプセル201を備える。カプセル201の上部及び下部内には、Pt台座202がそれぞれ配置され、各Pt台座202には2本のPt線203(電位線及び電流線)が接続されている。インターコネクタがカプセル201上部内のPt台座202に接し、NiO-Y板がカプセル201下部内のPt台座202に接するようにサンプルNo.1〜No.22を配置した。カプセル上部と下部との間でガスが混合しないようにカプセルと試料片との間を溶融ガラスでシールし、カプセル下部に35%H2/Arガスを流すとともに、カプセル上部に空気を流した。
NiOが充分に還元された後、750℃で、Pt台座に1Aの定電流を流した際の電位を測定することによって導通の有無を確認した。確認結果を表1に示す。
[サンプルNo.1〜No.22の3成分系組成図]
以下のように、サンプルNo.1〜No.22の断面観察を行って、NiO-Y板とインターコネクタとの界面付近におけるNiO-Y板の微構造を解析した。
まず、還元処理後のサンプルNo.1〜No.22にエポキシ樹脂を滴下しながら真空引きすることによって、NiO-Y板内部の気孔に樹脂を含浸させた。一晩かけて樹脂を硬化させた後、マイクロカッターで各サンプルを厚み方向に沿って切断することによって、NiO-Y板/インターコネクタの切断面を得た。
次に、切断面を#600耐水ペーパーで慣らした後、イオンミリング装置(日本電子製クロスセクションポリッシャー)で断面を平滑化した。
次に、各サンプルの断面を無蒸着のまま低加速で観察が可能な高分解能FE-SEMにて観察した。インレンズ像とアウトレンズ像の写真を撮影すると、コントラストの異なる3つの相が観察された。3つの相は、Ni粒子、セラミックス粒子及び気孔である。3つの相がインターコネクタに接する長さを測長し、それぞれの割合を算出することによって、接合領域におけるNi粒子、セラミックス粒子及び気孔の体積割合を推定した。
次に、エネルギー分散型X線分光分析装置(EDS)によるスポット分析によって、各コントラストを有する領域がNi粒子、セラミックス粒子、樹脂(すなわち、気孔)のどれに相当するかを明らかにした。なお、樹脂が含浸していない閉気孔については、平滑面から窪んでいる領域を目視することによって識別した。
以上によって、図6に示すように、サンプルNo.1〜No.22それぞれの接合領域におけるNi粒子、セラミック粒子及び気孔の体積割合を示す3成分系組成図を取得した。
[サンプルNo.1〜No.22の還元後の剥離検査]
以下のように、サンプルNo.1〜No.22について、NiO-Y板とインターコネクタとの界面における剥離の有無を確認した。本実施例では、サンプルNo.1〜No.22を800℃で水素雰囲気に10時間暴露させた後と、500時間暴露させた後とにおいて、各サンプルの断面を2000倍の視野で3ヶ所ずつ観察した。剥離発生の有無の確認結果を表1に示す。
Figure 0005205535
表1及び図6から分かるように、サンプルNo.1〜No.12において導通検査及び剥離検査で良好な結果を得ることができた。このような、サンプルNo.1〜No.12の体積割合は、図6に示す3成分系組成図において、(Ni、Y、気孔)=(37.1、7.9、55.0)、(15.0、30.0、55.0)、(15.0、71.0、14.0)、(50.0、36.0、14.0)、(50.0、10.6、39.4)を頂点とする五角形の領域を形成している。そして、この五角形の領域外に位置するNo.13〜No.22では、導通検査及び剥離検査で良好な結果を得ることはできなかった。従って、図6に示す五角形の領域内の体積割合に調整することが好ましいことが分かった。
[サンプルNo.23〜No.39の作製]
上述のサンプルNo.12の作製方法と同様にして、サンプルNo.23〜No.39を作製した。ただし、サンプルNo.23〜No.39では、NiO-Y板を構成するNiO粉末とY粉末の原料粒径をそれぞれ0.2μm〜10μmの範囲で異ならせることによって、表2に示すように、Ni粒子及びY粒子のそれぞれが界面に接する長さが調整されている。
上述と同様の手法でサンプルNo.23〜No.39の断面を観察することによって、Ni粒子及びY粒子が界面に接する長さの平均値を算出した。算出結果を表2に示す。
[サンプルNo.23〜No.39のセバスチャン試験]
サンプルNo.23〜No.39について、図7に示す装置によってNiO-Y板をインターコネクタから引き剥がすことによって、NiO-Y板とインターコネクタとの接合強度を測定した。
まず、サンプルNo.23〜No.39を800℃で水素雰囲気に10時間暴露させた後、再酸化することのないように還元雰囲気を保持したまま降温した。
次に、図7に示すように、接着剤によってインターコネクタに接着されたスタッドピンを引っ張り、NiO-Y板がインターコネクタから剥がれた際の引っ張り強度を測定した。このようなセバスチャン試験の詳細は、“大山 健著、「スタッドピン型垂直引張試験機による密着性測定」、表面技術 vol.58 第292頁 (2007)”に記載されている通りである。
測定結果を表2に示す。表2では、最も強度の高かったサンプルNo.31の強度を基準として規格化された強度比が記載されている。なお、本実施例では、強度比が0.9以上である場合に良好と判断した。
Figure 0005205535
表2に示すように、Ni粒子の平均接合長さは、0.51μm以上3.1μm以下が好ましいことが分かった。また、Yの平均接合長さは、0.49μm以上3.2μm以下が好ましいことが分かった。
100 燃料電池セル
10 支持基板
101 接合領域
20 インターコネクタ
30 発電部
31 燃料極
32 固体電解質層
33 空気極

Claims (6)

  1. Ni粒子とセラミックス粒子と気孔とを含む多孔体と、
    前記多孔体上に形成される燃料極活性層と、
    空気極と、
    前記燃料極活性層と前記空気極との間に配置される固体電解質層と、
    前記多孔体上に形成され、前記燃料極活性層と電気的に接続される緻密質のインターコネクタと、
    を備え、
    前記多孔体と前記インターコネクタとは、共焼成されており、
    前記多孔体は、前記インターコネクタに接合され、前記インターコネクタとの界面から所定距離内の接合領域を有し、
    前記多孔体が還元雰囲気に曝された場合、前記接合領域において、前記Ni粒子と前記セラミックス粒子と前記気孔との総体積に対する前記気孔の体積割合は、14体積%以上かつ55体積%以下であり、前記総体積に対する前記Ni粒子の体積割合は、15体積%以上かつ50体積%以下であり、前記Ni粒子の体積と前記セラミックス粒子の体積の和に対する前記Ni粒子の体積割合は、82.5体積%以下であり、
    前記Ni粒子、前記セラミックス粒子及び前記気孔それぞれの体積割合は、前記多孔体と前記インターコネクタとの前記界面において、前記Ni粒子、前記セラミックス粒子及び前記気孔それぞれが前記インターコネクタと接合する長さに基づいて算出された値である、
    燃料電池セル。
  2. 前記多孔体が還元雰囲気に曝された場合、前記Ni粒子が前記インターコネクタと接合する長さの平均値は、0.51μm以上3.1μm以下である、
    請求項1に記載の燃料電池セル。
  3. 前記多孔体が還元雰囲気に曝された場合、前記セラミックス粒子が前記インターコネクタと接合する長さの平均値は、0.49μm以上3.2μm以下である、
    請求項1に記載の燃料電池セル。
  4. 前記インターコネクタは、ランタンクロマイト系のペロブスカイト型酸化物によって構成される、
    請求項1乃至3のいずれかに記載の燃料電池セル。
  5. 燃料ガスを通すための流路を内部に有する平板状の支持基板を備える、
    請求項1乃至4のいずれかに記載の燃料電池セル。
  6. Ni粒子とセラミックス粒子と気孔とを含む多孔体と、
    前記多孔体上に形成される燃料極活性層と、
    空気極と、
    前記燃料極活性層と前記空気極との間に配置される固体電解質層と、
    前記多孔体上に形成され、前記燃料極活性層と電気的に接続される緻密質のインターコネクタと、
    を備え、
    前記多孔体と前記インターコネクタとは、共焼成されており、
    前記多孔体は、前記インターコネクタに接合され、前記インターコネクタとの界面から所定距離内の接合領域を有し、
    前記多孔体が還元雰囲気に曝された場合、前記接合領域において、前記Ni粒子と前記セラミックス粒子と前記気孔との総体積に対する前記Ni粒子、前記セラミックス粒子及び前記気孔それぞれの体積割合は、3成分系組成図において、前記Ni粒子がx体積%、前記セラミックスがy体積%、前記気孔がz体積%である点を(x、y、z)とするときに、(37.1、7.9、55.0)、(15.0、30.0、55.0)、(15.0、71.0、14.0)、(50.0、36.0、14.0)及び(50.0、10.6、39.4)を頂点とする五角形によって囲まれた領域に存在しており、
    前記Ni粒子、前記セラミックス粒子及び前記気孔それぞれの体積割合は、前記多孔体と前記インターコネクタとの前記界面において、前記Ni粒子、前記セラミックス粒子及び前記気孔それぞれが前記インターコネクタと接合する長さに基づいて算出された値である、
    燃料電池セル。
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