JP5182525B2 - 光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、光ディスクを製造する光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置に関する。

近年、情報記録の分野において、光学情報記録方式に関する研究開発が進められており、再生専用型、追記型、書換可能型等のさまざまな方式に対応可能となっている。このような光学情報記録方式を有するＣＤ等の光ディスクは、大容量のデータを記録可能であり、従来よりも低価格化が進んでいるため、産業用から民生用まで幅広い用途で利用されている。

この光ディスクは、一般に、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パターンが形成されたディスク基板上に金属等からなる反射膜を形成し、この反射膜を大気中の水分や酸素から保護する保護膜を形成した構成を有している。光ディスクから情報信号を再生する場合には、その凹凸パターンに向けてレーザ光をディスク基板側から照射させ、その照射光（以降、「再生光」と称する場合もある）と戻り光との反射率の差によって情報信号を検出することが可能となる。

また、高記録密度化の要求に対応するため、光学ピックアップの再生光の照射時に用いられる対物レンズの開口数（ＮＡ：numerical aperture）を大きくすることにより、再生光のスポット径の小径化を図る技術も提案されている。ここで、対物レンズにおける高ＮＡ化を進めるには、ディスク基板を薄くする必要がある。これは、チルト角（光学ピックアップの光軸に対してディスク基板面の垂直軸からのズレ角度）の許容量が小さくなり、更にこのチルト角がディスク基板の厚さによる収差や複屈折の影響を受け易いためである。

そこで、図８に示すような多層構造の光ディスクが提案されている。この光ディスクは、ディスク基板１３の一主面に凹凸パターンが形成され、この凹凸パターンの表面に反射膜３２を成膜して第１情報信号部（Ｌ０記録部）を形成し、中間層としての光透過層１１ａを更に積層した後に、半反射膜３４を成膜して第２情報信号部（Ｌ１記録部）を形成し、更にその上に表面を保護するカバー層としての光透過層１１ｂを積層した構造を有している。再生光をディスク基板側から照射する従来法に代えて、ディスク基板１３よりも薄い光透過層１１ｂの側から照射することにより、対物レンズの高ＮＡ化に対応することが可能となる。

ここで、複屈折率を小さく保ちながら良好な透明性が維持された光透過層１１（中間層として機能する光透過層１１ａ、又はカバー層として機能する光透過層１１ｂ）を成膜により形成することは非常に困難であるため、シート接着法（仮称）が用いられる。このシート接着法は、光透過層に相当する光透過性シートを透明な接着剤を用いてディスク基板に貼り付ける方法であり、これにより小複屈折かつ透明性が良好な均一膜厚の光透過層を形成することができる。具体的には、粘着剤を表面に塗布した熱可逆性の光透過性シートをローラー圧着によりディスク基板表面に貼り付ける方法であったり、対向する２つの平面ステージ上に該光透過性シートとディスク基板とが互いに重なるよう載置し、押圧することにより光透過性シートとディスク基板とを貼り合わせる方法である。以下、中間層又はカバー層に光透過性シートを用いた場合の光ディスクの製造方法について簡単に説明しておく。

図９は、中間層に光透過性シートを用いた場合の光ディスクの製造方法を示す図である。まず、凹凸パターンの形成型を表面に有するＮｉスタンパ３７と平面ステージ３８との間にポリカーボネート樹脂３６を挟み、押圧することにより一主面に凹凸パターンを形成したディスク基板１３を形成する（第１工程）。次に、凹凸パターン上に反射膜３２を成膜してＬ０記録部を形成する（第２工程）。続いて、中間層として機能する光透過性シート１１ａを貼り付け、Ｎｉスタンパ３７の凹凸パターンと同様の形成型を表面に有するソフトスタンパ３９を光透過性シート１１ａに押し付けてＬ１記録部を形成する（第３工程）。最後に、半反射膜３４を成膜した後（第４工程）に、カバー層としての光透過層１１ｂを積層する（第５工程）。

図１０は、カバー層に光透過性シートを用いた場合の光ディスクの製造方法を示す図である。まず、Ｌ０記録部用の凹凸パターンの形成型を表面に有するＬ０用スタンパ３７ａと平面ステージ３８との間にポリカーボネート樹脂３６を挟み、押圧することにより一主面に凹凸パターンを形成したディスク基板１３を形成する（第１工程）。次に、凹凸パターン上に反射膜３２を成膜してＬ０記録部を形成する（第２工程）。その後、中間層としての光透過層１１ａを積層する（第３工程）。一方、これら第１から第３までの各工程とは別に、Ｌ１記録部用の凹凸パターンの形成型を表面に有するＬ１用スタンパ３７ｂと平面ステージ３８との間にカバー層として機能する光透過性シート１１ｂを挟み、押圧することにより一主面に凹凸パターンを形成した光透過性シート１１ｂを形成する（第Ａ工程）。次に、凹凸パターン上に半反射膜３４を成膜してＬ１記録部を形成する（第Ｂ工程）。最後に、第３工程で積層された光透過層１１ｂの表面に第Ｂ工程で形成されたＬ１記録部を張り合わせることで、光ディスクを製造する。

また、このようなシート接着法のうち、特に光透過性シートをディスク基板に張り合わせる技術に着目し、接着層のはみだしや、接着ムラ、気泡混入等を防止する技術が特許文献１に開示されている。この光ディスク製造装置は、張り合わせ装置の内部を弾性体膜で仕切り、その仕切により形成された一方の部屋（メインチャンバー）内にディスク基板とシートとを所定の間隔で対向配置し、双方の部屋を同圧に真空排気した後に他方の部屋（サブチャンバー）を大気開放し、部屋間に生じた差圧に基づいて押し上げられた弾性体膜でディスク基板を押圧することにより、シートをディスク基板に貼り付けるようになっている。

特開２００２−２６９８５３号公報

しかしながら、ディスク基板とシートとを弾性体膜の仕切りにより面接触させるため、接触や接着領域の広がりをコントロールすることが難しく、その改善が望まれている。また、メインチャンバー及びサブチャンバーの各部屋に対する圧力調整や制御、その調整等に伴う時間管理を必要とするため、光ディスク製造装置を構成する各機構や、その構造が複雑になって設備コストが高くなるので、その改善が望まれている。更に、真空排気や大気開放を行う加圧、減圧の圧力調整に時間がかかるため、工程時間（タクト）が長くなるので、その改善が望まれている。

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、構造を簡易にすると共に工程を簡略化し、タクトの短縮が可能な光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置を提供することを目的とする。

そこで、本実施の形態では、上記した課題を解決するために、下記する（１）〜（５）の工程を有する光ディスク製造方法と、（６）〜（８）の構成を有する光ディスク製造装置を提供する。

（１）気泡が封入された発泡性弾性体シート９ａと、気泡が封入されていない非発泡性弾性体シート９ｂとを貼り合わせた弾性体９を形成する工程と、
前記工程の後に、上蓋１の下側にディスク基板１３を配置し、前記上蓋１の下方に対向配置された下蓋３上に、外圧の低下によって前記ディスク基板１３側に湾曲する前記弾性体９と、光透過性シート１１とを順次配置する第１工程と、
前記第１工程の後に、前記上蓋１と前記下蓋３とで密閉された空間内の圧力を低下させ、前記弾性体９を前記光透過性シート１１と共に前記ディスク基板１３側に湾曲させて前記ディスク基板１３と前記光透過性シート１１とを貼り合わせる第２工程と、
を有することを特徴とする光ディスク製造方法。

（２）前記第２工程は、前記光透過性シート１１の内側の一領域を前記ディスク基板１３の内側の一領域に接触させ、この接触領域を前記光透過性シート１１及び前記ディスク基板１３の各外周に向けて順次拡大させて前記ディスク基板１３と前記光透過性シート１１とを貼り合わせることを特徴とする（１）記載の光ディスク製造方法。

（３）前記第１工程は、前記弾性体９の外周縁の一部又は全部を前記下蓋３に固定し、前記第２工程は、前記弾性体９の湾曲形状を、前記外周縁の固定された状態に応じて変形させることを特徴とする（１）又は（２）に記載の光ディスク製造方法。

（４）前記第２工程の後に、前記空間内の圧力を低下させる前の状態に戻し、前記第２工程で湾曲した前記弾性体９を湾曲する前の状態に戻す第３工程をさらに有することを特徴とする（１）から（３）のいずれか１つに記載の光ディスク製造方法。

（５）前記第２工程は、前記弾性体９を前記光透過性シート１１と共に前記ディスク基板１３側に湾曲させると共に前記ディスク基板１３を前記光透過性シート１１に接近する方向に移動させて、前記ディスク基板１３と前記光透過性シート１１とを貼り合わせることを特徴とする（１）から（４）のいずれか１つに記載の光ディスク製造方法。

（６）ディスク基板が配置される上蓋１と、
前記上蓋１の下方に対向配置され、前記上蓋１とによって密閉空間を形成する下蓋３と、
前記密閉空間を減圧する減圧部１５と、
気泡が封入された発泡性弾性体シート９ａと前記発泡性弾性体シート９ａに貼り合わされ気泡が封入されていない非発泡性弾性体シート９ｂとを備え、前記下蓋３上に前記上蓋１と対向配置され、前記密閉空間が減圧されることによって前記上蓋１側に湾曲する弾性体９と、
を備えることを特徴とする光ディスク製造装置。

（７）前記弾性体９はその外周縁の一部又は全部が前記下蓋３側に固定されており、前記弾性体９の湾曲形状は前記外周縁の固定された状態に応じて変形することを特徴とする（６）記載の光ディスク製造装置。

（８）前記弾性体９は、前記密閉空間を減圧することによって湾曲し、前記密閉空間を減圧前の状態に戻すことによって湾曲する前の状態に戻ることを特徴とする（６）又は（７）に記載の光ディスク製造装置。

本発明によれば、構造を簡易にすると共に工程を簡略化し、タクトの短縮が可能な光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置を提供することができる。

第１の実施の形態に係る光ディスク製造装置の断面を示す断面図である。 弾性体ステージの断面を示す断面図である。 第１の実施の形態に係る光ディスク製造方法を示す工程図である。 第２の実施の形態に係る光ディスク製造装置の断面を示す断面図である。 第２の実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程図である。 外周縁を２箇所固定した場合の減圧雰囲気中における弾性体ステージの変形状態を示す図である。 外周縁を４箇所固定した場合の減圧雰囲気中における弾性体ステージの変形状態を示す図である。 光ディスクの断面を示す断面図である。 中間層に光透過性シートを用いた場合の光ディスクの製造方法を示す図である。 カバー層に光透過性シートを用いた場合の光ディスクの製造方法を示す図である。

以下、２つの実施の形態について図面を用いて説明する。

〔第１の実施の形態〕
図１は、第１の実施の形態に係る光ディスク製造装置の断面を示す断面図である。本実施の形態に係る光ディスク製造装置１００は、上蓋１及び下蓋３で密閉された内部空間を形成し、光ディスク製造用の固定台５を内部空間側の下蓋３に配置し、軸方向（図１に示す上下方向）に摺動可能なセンターピン７を下蓋３及び固定台５の中央に設け、センターピン７で中心を貫かれた弾性体ステージ９を固定台５の上に載置すると共に光透過性シート１１を弾性体ステージ９の上に配置し、ディスク基板１３をセンターピン７の上端で支えた構成を備えている。また、上蓋１の側面一部には排気口が形成されており、この排気口を介して排気ポンプ１５により内部空間の大気を排気させて真空減圧可能となっている。さらに、下蓋３と上蓋１との接続部分や下蓋３とセンターピン７との接続部分にはＯリング１７が用いられており、内部空間の密閉度を高くして外部からの気体が内部空間内に侵入することを防止可能となっている。以下、各構成要素の機能について個別具体的に説明すると共に、各構成を備えることによる本発明の作用及び効果について説明する。

弾性体ステージ９は、外圧の低下に伴って封入気体を膨張させ、この膨張に応じて徐々に盛り上がる形状変化を利用して、上面に配置されている光透過性シート１１を押し上げながらディスク基板１３に接着させる機能を備えている。具体的には、例えば図２（ａ）に示すように、内部に気泡９１が封入された発泡性弾性体９ａと気泡９１が封入されていない非発泡性弾性体９ｂとを貼り合わせた２重構造となっており、発泡性弾性体９ａが光透過性シート１１に接触するように配置されている。弾性体ステージ９の外部周辺の圧力が低くなると、これまで弾性体ステージ９に作用していた外圧が低下するため、発泡性弾性体９ａに封入された気泡の体積が次第に大きくなり、発泡性弾性体９ａが膨張することになる。一方、非発泡性弾性体９ｂには気泡が封入されていないため、このような膨張作用は生じることはない。これにより、図２（ｂ）に示すように、非発泡性弾性体９ｂと貼り合わされた発泡性弾性体９ａの体積の増加量が大きくなり、平面方向（Ｘ軸−Ｙ軸方向）及び厚み方向（Ｚ軸方向）に膨張するため、発泡性弾性体９ａが凸状に盛り上がる形状（椀状、断面で見れば弓状に反った形状）に変化することになる。逆に、外部周辺の圧力が復圧した場合には、弾性力によって形状を原形に戻す可逆性の特徴を有している。

このような弾性体ステージ９を構成する材料としては、シリコンゴム、ウレタンゴム、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、又はそれらを混合してなるゴムを一例に挙げることができる。また、発泡性弾性体９ａは、内部から気体を発泡させて成形させた弾性体や、外部から気泡が混入して又は混入させてできた弾性体のいずれでもよく、気泡内の気体が外部に漏れず、外圧の低下に応じて膨張し形状変化するものであればどのようなものでもよい。さらに、気泡内の気体の種類、大きさ、Ｘ軸−Ｙ軸方向やＺ軸方向に対する気泡の混入位置を変化させることにより、弾性体ステージ９が各軸方向に形状変化する変化率を調整することが可能である。

光透過性シート１１は、情報信号の記録や再生に用いるレーザ光を透過可能な光透過性樹脂を有し、同様のレーザ光を透過可能であってディスク基板１３との一主面（情報記録層）との接着に用いる接着剤が光透過性樹脂の表面に付されている。なお、前述したように弾性体ステージ９及び光透過性シート１１の中心はセンターピン７で貫かれており、その中心穴の径はセンターピン７の径と略同径であるため、面方向（図１に示す左右方向）への移動のズレが防止され、センターピン７の軸方向へのみ摺動可能となっている。

ディスク基板１３は、情報信号を再生・記録可能な情報記録層を一主面に形成し、再生時や記録時において回転する際に用いる中心穴をセンターピン７の上端に形成された凸部で支持することにより、情報記録層が光透過性シート１１に所定の間隙を開けて対向するように配置されている。

次に、第１の実施の形態に係る光ディスク製造方法について説明する。図３は、本実施の形態に係る光ディスク製造方法を示す工程図である。

最初に、上蓋１及び下蓋３で密閉された内部空間内において、光ディスク製造用の固定台５は内部空間側の下蓋３の上に配置されている。また、同内部空間内において、弾性体ステージ９は、固定台５に載置されると共に弾性体ステージ９の外周縁の全周が固定台５に固定されている。また、同内部空間内において、光透過性シート１１は弾性体ステージ９の上に配置されており、光透過性シート１１におけるディスク基板１３と対向する面には接着剤が付与されている。また、ディスク基板１３は、固定台５と弾性体ステージ９と光透過性シート１１とを貫いて内部空間の中央に位置するセンターピン７の上端に情報記録層が光透過性シート１１に対向するように配置されている（第１工程）。なお、上述した第１工程は、上蓋１と下蓋３とで密閉した後に行ってもよいし、上蓋１と下蓋３とで密閉する前に行ってもよい。

次に、排気ポンプ１５を用いて密閉された内部空間の減圧を開始して空間内の圧力を低下させ、弾性体ステージ９における発泡性弾性体９ａを膨張させて、ディスク基板１３に向けて盛り上がった形状に変化させ、この形状変化を利用して光透過性シート１１を押し上げる（第２工程）。この第２工程により、光透過性シート１１が外周から内周に向けて椀状に盛り上がった状態になる。

続いて、センターピン７を徐々に降下させる。又は、センターピン７を一気に抜いてディスク基板１３を自由落下させる（第３工程）。この第３工程により、光透過性シート１１の一領域がディスク基板１３における情報記録層の内周に接着し、時間の経過に伴って、接着した一領域が外周縁方向に向けて徐々に拡大することになる。

最後に、センターピン７を弾性体ステージ９と光透過性シート１１とディスク基板１３とから抜去し、所定の時間放置することによりプレス（圧着）を完了させる（第４工程）。この第４工程により接着領域が外周縁まで完全に広がり、光透過性シート１１をディスク基板１３の情報記録層に接着させる貼り合わせが終了する。

なお、第３工程において、センターピン７の降下が光透過性シート１１をディスク基板１３に接触させる契機であることを説明したが、光透過性シート１１とディスク基板１３との間隙をより狭くすることにより、弾性体ステージ９の形状変化に伴う光透過性シートの押し上げ時をその接触契機とすることも可能である。その場合には、弾性体ステージ９が、光透過性シート１１とディスク基板１３とが接触している一領域を外周に向けて徐々に拡大するよう光透過層を押し上げることになる。

第１の実施の形態によれば、空間内の減圧により弾性体ステージ９を膨張させ、この膨張に応じて徐々に盛り上がる形状変化を利用して光透過性シート１１を押し上げてディスク基板１３に接着させ、ディスク基板１３と光透過性シート１１との接触領域を内周部から外周縁方向に向かって拡大させるため、ディスク基板１３と光透過性シート１１との間の空気を外周縁方向に押し出しながら接着を進めることが可能となり、気泡混入や接着ムラ・接着しわの発生を防止することが可能となる。また、減圧と同時に接着及びプレス（圧着）が進行するので、光ディスク製造装置１００の構造を簡易にすると共に製造工程を簡略化し、減圧−接着−プレスの工程時間の短縮を可能とし、コストダウンを図ることができる。

〔第２の実施の形態〕
次に、第２の実施の形態について説明する。図４は、第２の実施の形態に係る光ディスク製造装置の断面を示す断面図である。本実施の形態に係る光ディスク製造装置１００は第１の実施の形態で説明した光ディスク製造装置１００の構成と略同様の構成を備えているが、軸方向（図４に示す上下方向）に摺動可能なシリンダ１９を上蓋１に取り付けて密閉された内部空間を形成し、センターピン７の上端でディスク基板１３を支えるのに代えて、シリンダ１９の内部空間側に置かれた緩衝材２１の表面にディスク基板１３を配置すると共に、ディスク基板１３を、その中心穴を爪２３で引っ掛けて固定して光透過性シート１１に対向して配置するようになっている。なお、第１の実施の形態と同様に、内部空間の密閉度を高くするため、上蓋１とシリンダ１９との接続部分にはＯリング１７が用いられている。その他の構成については第１の実施の形態で説明した構成と同様なので、重複する説明は省略する。

次に、第２の実施の形態に係る光ディスク製造方法について説明する。図５は、本実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程図である。

最初に、軸方向に摺動可能なシリンダ１９が取り付けられた上蓋１及び下蓋３で密閉された内部空間内において、光ディスク製造用の固定台５は内部空間側の下蓋３の上に配置されている。また、同内部空間内において、弾性体ステージ９は、固定台５に載置されると共に固定台５の外周縁の全周が固定台５に固定されている。また、同内部空間内において、光透過性シート１１は弾性体ステージ９の上に配置されており、光透過性シート１１におけるディスク基板１３と対向する面には接着剤が付与されている。また、ディスク基板１３は、シリンダ１９の内部空間側に配置された緩衝材２１の表面に、情報記録層が光透過性シート１１に対向するように配置されており、ディスク基板１３の中心穴の近傍は爪２３で引っ掛けて固定されている（第１工程）。なお、上述した第１工程は、上蓋１と下蓋３とで密閉した後に行ってもよいし、上蓋１と下蓋３とで密閉する前に行ってもよい。

次に、排気ポンプ１５を用いて密閉された内部空間の減圧を開始して空間内の圧力を低下させ、弾性体ステージ９における発泡性弾性体９ａを膨張させて、ディスク基板１３に向けて盛り上がった形状に変化させ、この形状変化を利用して光透過性シート１１を押し上げる（第２工程）。この第２工程により、光透過性シート１１が外周から内周に向けて椀状に盛り上がった状態になる。また、内部空間の減圧によりシリンダ１９が大気圧に押されて下降するが、シリンダ１９の下降はバネとダンパからなる緩衝器２５によって弾性体ステージ９の動作よりも遅れて動作し始める。

続いて、内部空間の減圧を更に継続し、下降するシリンダ１９でセンターピン７を下方に押下げる（第３工程）。この第３工程により、光透過性シート１１の一領域がディスク基板１３における情報記録層の内周に接着し、時間の経過に伴って接着した一領域が外周縁方向に向けて徐々に拡大することになる。

最後に、爪２３のロックを外し、内部空間の減圧を所定の時間引き続き継続することによりプレス（圧着）を完了させる（第４工程）。この第４工程により接着領域が外周縁まで完全に広がり、光透過性シート１１をディスク基板１３の情報記録層に接着させる貼り合わせが終了する。その後、排気ポンプ１５の排気を停止し、密閉された内部空間を大気圧に戻すことにより、シリンダ１９が元の位置に戻ることになる。

第２の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様に、空間内の減圧により弾性体ステージ９を膨張させ、この膨張に応じて徐々に盛り上がる形状変化を利用して光透過性シート１１を押し上げてディスク基板１３に接着させ、ディスク基板１３と光透過性シート１１との接触領域を内周部から外周縁方向に向かって拡大させるため、ディスク基板１３と光透過性シート１１との間の空気を外周縁方向に押し出しながら接着を進めることが可能となり、気泡混入や接着ムラ・接着しわの発生を防止することが可能となる。また、減圧と同時に接着及びプレスが進行するので、光ディスク製造装置１００の構造を簡易にすると共に製造工程を簡略化し、減圧−接着−プレスの工程時間の短縮を可能とし、コストダウンを図ることができる。

なお、第２の実施の形態では、上蓋１にシリンダ１９が取り付けられた場合について説明したが、下蓋３に同様のシリンダを取り付けた場合であっても、同様の効果を得ることが可能である。

第１の実施の形態及び第２の実施の形態では、弾性体ステージ９の外周縁の全周が一様に固定台５に接着されている場合について説明したが、外周縁の一部を固定した場合であっても同様の効果を得ることが可能である。例えば、２箇所のみを固定した場合には、図６に示すように、減圧雰囲気中で弾性体ステージ９はカマボコ状に変形することになる。また、９０度おきに４箇所のみを固定した場合にあっては、図７に示すように、弾性体ステージ９は丸みを帯びた四角形状の変形することになる。勿論、本実施の形態と同様に無限箇所を固定すれば、弾性体ステージ９は椀状に変化することになる。弾性体ステージ９の外周縁の一部を固定した場合であっても全部を固定した場合であっても得られる効果は同じであるが、減圧雰囲気中で変化する弾性体ステージ９の形状に差異を与えることが可能となるため、弾性体ステージ９における機能説明と同様に、固定台５への固定状態によって弾性体ステージ９がＸ軸−Ｙ軸方向やＺ軸方向に形状変化する変化率を調整することが可能である。

１…上蓋
３…下蓋
５…固定台
９…弾性体ステージ（弾性体）
９ａ…発泡性弾性体（発泡性弾性体シート）
９ｂ…非発泡性弾性体（非発泡性弾性体シート）
１１…光透過性シート（光透過層）
１１ａ…光透過性シート（中間層としての光透過層）
１１ｂ…光透過性シート（カバー層としての光透過層）
１３…ディスク基板
１５…排気ポンプ（減圧部）
１７…Ｏリング
１９…シリンダ
２１…緩衝材
２３…爪
２５…緩衝器
３２…反射膜
３４…半反射膜
３６…ポリカーボネート樹脂
３７…Ｎｉスタンパ
３７ａ…Ｌ０用スタンパ
３７ｂ…Ｌ１用スタンパ
３８…平面ステージ
３９…ソフトスタンパ
９１…気泡
１００…光ディスク製造装置

Claims (8)

1. 気泡が封入された発泡性弾性体シートと、気泡が封入されていない非発泡性弾性体シートとを貼り合わせた弾性体を形成する工程と、
   前記工程の後に、上蓋の下側にディスク基板を配置し、前記上蓋の下方に対向配置された下蓋上に、外圧の低下によって前記ディスク基板側に湾曲する前記弾性体と、光透過性シートとを順次配置する第１工程と、
   前記第１工程の後に、前記上蓋と前記下蓋とで密閉された空間内の圧力を低下させ、前記弾性体を前記光透過性シートと共に前記ディスク基板側に湾曲させて前記ディスク基板と前記光透過性シートとを貼り合わせる第２工程と、
   を有することを特徴とする光ディスク製造方法。
2. 前記第２工程は、前記光透過性シートの内側の一領域を前記ディスク基板の内側の一領域に接触させ、この接触領域を前記光透過性シート及び前記ディスク基板の各外周に向けて順次拡大させて前記ディスク基板と前記光透過性シートとを貼り合わせることを特徴とする請求項１記載の光ディスク製造方法。
3. 前記第１工程は、前記弾性体の外周縁の一部又は全部を前記下蓋に固定し、前記第２工程は、前記弾性体の湾曲形状を、前記外周縁の固定された状態に応じて変形させることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ディスク製造方法。
4. 前記第２工程の後に、前記空間内の圧力を低下させる前の状態に戻し、前記第２工程で湾曲した前記弾性体を湾曲する前の状態に戻す第３工程をさらに有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光ディスク製造方法。
5. 前記第２工程は、前記弾性体を前記光透過性シートと共に前記ディスク基板側に湾曲させると共に前記ディスク基板を前記光透過性シートに接近する方向に移動させて、前記ディスク基板と前記光透過性シートとを貼り合わせることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光ディスク製造方法。
6. ディスク基板が配置される上蓋と、
   前記上蓋の下方に対向配置され、前記上蓋とによって密閉空間を形成する下蓋と、
   前記密閉空間を減圧する減圧部と、
   気泡が封入された発泡性弾性体シートと前記発泡性弾性体シートに貼り合わされ気泡が封入されていない非発泡性弾性体シートとを備え、前記下蓋上に前記上蓋と対向配置され、前記密閉空間が減圧されることによって前記上蓋側に湾曲する弾性体と、
   を備えることを特徴とする光ディスク製造装置。
7. 前記弾性体はその外周縁の一部又は全部が前記下蓋側に固定されており、前記弾性体の湾曲形状は前記外周縁の固定された状態に応じて変形することを特徴とする請求項６記載の光ディスク製造装置。
8. 前記弾性体は、前記密閉空間を減圧することによって湾曲し、前記密閉空間を減圧前の状態に戻すことによって湾曲する前の状態に戻ることを特徴とする請求項６又は７に記載の光ディスク製造装置。

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