JP5174103B2 - フォトマスクの洗浄装置およびフォトマスクの洗浄システム - Google Patents
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Description
また、前記排出管部は、前記第二案内翼の下方において前記処理槽に接続していることを特徴とする。
また、この場合、パーティクルやミストを第一案内翼によって排出管部側に導くことから、壁部を傾斜させる必要がない。そのため、壁部を略円筒形状に形成することができる。したがって、処理槽の大形化を招くことがない。
また、フォトマスクから飛散する液体は、フォトマスクの回転に伴って生じる回転方向の成分と遠心力による径方向外側に向かう成分とのベクトル和で示される合成ベクトル方向に飛び出して、壁部へ移動する。つまり、液体は、壁部に対して斜め方向から衝突する。このため、壁部に衝突した液体は、一旦第一案内翼に向かって跳ね返った後、第一案内翼において下方すなわち排出管部側に跳ね返される。これにより、液体がフォトマスク側に跳ね返ることを効率良く抑制することができる。
また、排出管部は第二案内翼の下方において処理槽に接続している。すなわち、第二案内翼は、接続配管部の開口の上方に位置している。このため、排出管部には、第二案内翼に導かれた気体および液体が流れ込む。そのため、強制排出部により処理槽内の気体および液体を排出する場合であっても、第一案内翼および第二案内翼を経由する気体および液体の流れを妨げることがない。したがって、処理槽内における乱流などの発生を防止することができる。
回転支持部11は、回転軸17および支持台18を有している。回転軸17は、天地方向に延びる棒状に形成されている。以下、本明細書では、図1に示すように、天地方向を上下方向とする。支持台18は、回転軸17の上端に取り付けられている。支持台18は、その上面側にフォトマスク19を支持している。回転軸17は、下端が駆動部20に接続している。駆動部20は、図示しないモータにより回転軸17を回転させる。これにより、回転支持部11は、フォトマスク19を支持した状態で回転軸17を中心に回転する。本実施形態では、回転支持部11およびフォトマスク19は、洗浄装置10を上方から見た場合において右回りに回転する。
これら回転支持部11、処理槽12、排出管部15、第一案内翼24および第二案内翼25などは、処理液などに対する耐腐食性を高めるために、例えばステンレスやフッ素含有樹脂などにより形成されている。
処理槽12に設けられている第一案内翼24は、図2に示すように、処理槽12の内側において壁部21の周方向に第一案内翼241、242、243、244、245、246の順に設けられている。以下、第一案内翼241〜246に共通の説明をする場合には単に第一案内翼24と称する。第一案内翼24は、上下の傾斜面を含む壁部21の上端から下端まで延びている。第一案内翼24は、その上端部と下端部とが、処理槽12を上方から視た場合に右回りすなわちフォトマスク19の回転方向にずれている。すなわち、第一案内翼24は、上下方向に対して傾斜して設けられている。また、第一案内翼24は、その中央部が周方向に湾曲している。
フォトマスク19は、図4に模式的に示すように、処理槽12の上下方向における中央付近に支持されている。つまり、フォトマスク19は、第一案内翼24の上下方向における中央付近において回転する。エア供給部14から供給されるクリーンエアYは、回転するフォトマスク19の上面で周方向に移動する。周方向に移動したクリーンエアYは、フォトマスク19の外周側において第一案内翼24に接触する。そして、クリーンエアYは、第一案内翼24の傾斜に沿って下方に導かれる。つまり、フォトマスク19の上面に供給されたクリーンエアYは、第一案内翼24によって下方に向かって整流される。
処理槽12から排出されるクリーンエアは、処理槽12の壁部21に設けられた第一案内翼24により排出管部15側に導かれる。また、処理液が壁部21に衝突することにより発生するパーティクルやミストは、クリーンエアによって排出管部15側に導かれる。これにより、パーティクルやミストを含むクリーンエアの流れは、フォトマスク19側ではなく、排出管部15側に向かうことになる。つまり、フォトマスク19の上部へのパーティクルやミストの戻りを抑制することができる。したがって、パーティクルやミストのフォトマスク19への再付着を抑制することができる。
第一案内翼24は、その上端部と下端部とが周方向にずれつつ、中央部が周方向に湾曲した3次元的な曲面を有する形状に形成されている。このため、第一案内翼24に沿って流れるクリーンエアの流れを妨げるおそれがない。さらに、処理液は、一旦壁部21に衝突した後に第一案内翼24側に跳ね返ったとしても、第一案内翼24において下方に向かって跳ね返る。したがって、処理液がフォトマスク19側に跳ね返ることを防止することができる。
処理槽12には、第一案内翼24に加えて、第二案内翼25を設けている。これにより、第一案内翼24によって整流され処理槽12の下方側に導かれたクリーンエアは、さらに第二案内翼25によって整流される。このとき、第二案内翼25をクリーンエアの流れ方向に向かって徐々に傾斜させていることから、クリーンエアは、その流れを妨げられることなく排出管部15に導かれる。これにより、処理槽12内のクリーンエアの流れをさらにスムーズに整流することができる。
また、排気ユニット16を設けたことにより、排出管部15から排出される気体の流量は、エア供給部14から供給されるクリーンエアの流量よりも大きくすることが可能になる。このため、処理槽12に供給されるクリーンエアは、排出管部15の内径が小さい場合であっても、その流れが滞ることがない。さらに、排出管部15は、第二案内翼25の下方において処理槽12に接続しているので、処理槽12内の空気の流れを乱すことがない。
次に、上記した第1実施形態で説明したフォトマスクの洗浄装置を用いたフォトマスクの洗浄システムについて図7および図8を参照して説明する。以下、フォトマスクの洗浄装置を単に洗浄システムと称する。
図7に示すように、洗浄システム50は、第1実施形態で説明した回転支持部11、処理槽12および排出管部15などに加えて、回転計51、流量計52、バルブ53および制御部54を備えている。回転計51は、駆動部20に内蔵され、回転軸17の回転数を取得する。回転数取得部としての回転計51は、回転軸17の回転数を取得することにより、回転支持部11に支持されたフォトマスク19の回転数を取得する。なお、回転計51は、駆動部20に内蔵するのではなく、回転軸17の回転数を直接取得する構成でもよく、あるいは、フォトマスク19の回転数を直接取得する構成であってもよい。
処理槽12には、第1実施形態で説明したように、主としてファンフィルターユニット31から、また、エア供給部14からクリーンエアが供給される。ファンフィルターユニット31は、開口23よりもやや大きい範囲にクリーンエアを供給する。このため、供給されるクリーンエアは、その一部、より厳密にはその大部分が、開口23を介して処理槽12内に吸引されることになる。ここで、開口23から処理槽12内に吸引されたクリーンエアの流量を吸引流量Q0とし、処理槽12から排出管部15を流れて排出されるクリーンエアの流量の全量を排気流量Q1とする。この場合、各排出管部15には、図7に示すように、それぞれΔQ1のクリーンエアが流れることになり、排気流量Q1は、各排出管部15を流れるクリーンエアの流量ΔQ1の合計となる。即ち、排気流量Q1=ΣΔQ1で算出される。このとき、吸引流量Q0と排気流量Q1との大小関係によっては、処理槽12内に吸引されたクリーンエアは、排出管部15を流れることなく処理槽12から排出されることがある。
入力部を設け、洗浄対象となるフォトマスク19の大きさなどを作業者が設定できるようにしたので、大きさが異なるフォトマスク19を洗浄する場合であっても、容易に対応することができる。
本発明は、上記した一実施形態に限定されることなく、その要旨を逸脱しない範囲において次のように変形または拡張することができる。
第一案内翼24および第二案内翼25は、設置する枚数、形状、傾き加減および板厚などを処理槽12の仕様に応じて適宜設定すればよい。処理槽12の仕様は、例えば洗浄対象となるフォトマスク19の大きさ、フォトマスク19の回転速度、フォトマスク19の回転に伴い発生する随伴流の大きさ、エア供給部14から供給されるクリーンエアの流量などが挙げられる。第一案内翼24および第二案内翼25は、例えば流体力学に基づくシミュレーションなどにより、処理槽12の仕様に応じて設計すればよい。なお、洗浄対象となるフォトマスク19の種類が複数ある場合には、第一案内翼24および第二案内翼25は、個別に設計してもよいし、最も頻繁に洗浄されるフォトマスク19の大きさに合わせて設計してもよい。また、排出管部15の数、内径の大きさ、あるいは取り付け部位などは、第一案内翼24および第二案内翼25の設置状況に応じて、適宜変更すればよい。
Claims (5)
- フォトリソグラフィプロセスに用いるフォトマスクを洗浄するフォトマスクの洗浄装置であって、
天地方向に延びる回転軸を中心に、前記フォトマスクを前記回転軸の上端側に支持した状態で回転する回転支持部と、
上端が開口し、前記回転支持部に支持された前記フォトマスクの外周を覆う壁部を有する処理槽と、
前記処理槽の内側において前記壁部の周方向に複数固定され、前記処理槽の前記壁部の上端から下端まで延びており、上端部と下端部とが周方向にずれつつ、中央部が周方向に湾曲する曲面状に形成され、前記処理槽から排出される気体および液体を前記排出管側に導く複数の第一案内翼と、
前記第一案内翼の前記下端部よりも下方において前記壁部の周方向に当該第一案内翼のそれぞれに対応して複数固定され、上端側が前記第一案内翼の下端よりも下流側に位置し、前記第一案内翼により導かれた気体および液体を前記排出管部に案内する第二案内翼と、
前記処理槽の下端側に接続され、前記第二案内翼の下方にそれぞれ設けられ、当該第二案内翼により導かれた排出される気体および液体が前記処理槽の外部に流れる排出管部と、
を備えることを特徴とするフォトマスクの洗浄装置。 - 前記排出管部に接続され、前記処理槽内の気体および液体を強制的に排出する強制排出部をさらに備えることを特徴とする請求項1記載のフォトマスクの洗浄装置。
- 前記強制排出部は、前記排出管部を流れる気体の流量が前記処理槽に吸引される気体の流量以上となるように前記処理槽内の気体および液体を強制的に排出することを特徴とする請求項2記載のフォトマスクの洗浄装置。
- 前記第二案内翼は、前記壁部から、前記回転支持部に支持される前記フォトマスクの外縁よりも径方向内側まで延びて形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載のフォトマスクの洗浄装置。
- 請求項1から4のいずれか一項記載のフォトマスクの洗浄装置を用いるフォトマスクの洗浄システムであって、
前記回転支持部の回転数を取得する回転数取得部と、
前記前記排出管部を流れる気体の流量を取得する流量取得部と、
前記前記排出管部を流れる気体の流量を調整する流量調整部と、
前記回転数取得部で取得する前記回転支持部の回転数および前記フォトマスクの大きさに基づいて前記処理槽に吸引される気体の流量を取得し、前記流量取得部により取得される前記排出管部を流れる気体の流量が前記処理槽に吸引される気体の流量以上になるように前記流量調整部を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするフォトマスクの洗浄システム。
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