JP7437600B2 - 回転塗布装置 - Google Patents
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Description
まず、図1及び図2を用いて洗浄機能を有する回転塗布装置の構成について説明する。X軸方向、Y軸方向、及びZ軸方向は互いに直交する方向であり、X軸方向は水平方向、Y軸方向はX軸方向に直交する水平方向、Z軸方向は上下方向(垂直方向)である。図1及び図2に示す回転塗布装置100は、テーブル10と、カバー部材(コート釜)20、塗布機構30と、洗浄機構40と、テーブル駆動装置(テーブル回転装置)50と、筐体55と、制御部60とを備える。
第1実施形態ではテーブル10を上下動させることにより、洗浄時と塗布時とでテーブル10とカバー部材20とのZ軸方向の相対位置(高さ位置)を変える。第1実施形態の変形例として、テーブル10の代わりにカバー部材20を上下動させてもよい。
図6は第2実施形態に係る回転塗布装置200の概略構成図である。第2実施形態に係る回転塗布装置200は、汚染抑制機構として洗浄液吐出管70(流体遮蔽手段)と、洗浄液タンク71と、洗浄液吐出管70と洗浄液タンク71との間に設けられた流量制御弁72とを備える。汚染抑制機構制御部67は、ユーザからの命令等に基づいて流量制御弁72を制御する。
第2実施形態では洗浄液を吐出しているが、第2実施形態の変形例では洗浄液に代えてエアーを噴出してもよい。この場合、第2実施形態の変形例に係る回転塗布装置は、図6に示す第2実施形態に係る回転塗布装置200における洗浄液吐出管70及び洗浄液タンク71の代わりに、エアー噴出管(流体遮蔽手段)及びエアタンク(不図示)を備える。エアー噴出管の構成は洗浄液吐出管70とほぼ同様である。エアー(流体)として、例えば空気が挙げられる。
図8は第3実施形態に係る回転塗布装置300の概略構成図である。第3実施形態に係る回転塗布装置300は、汚染抑制機構としてスクリーン80と、リブ(不図示)と、グリッパ82と、スクリーン駆動装置81とを備える。スクリーン80と、リブと、グリッパ82と、スクリーン駆動装置81とは、遮蔽部材に相当する。
図10は第4実施形態に係る回転塗布装置400の概略構成図である。第4実施形態に係る回転塗布装置400は、汚染抑制機構として隔壁90と、ポンプ91と、第1実施形態のテーブル相対移動装置51とを備える。隔壁90とポンプ91とは異物吸引手段に相当する。
以上説明したように、洗浄機能を有する回転塗布装置100、200、300及び400によれば、ウェハから飛散してカバー部材に付着した塗布液又は汚れがウェハに再度付着してウェハを汚染することを抑制することができる。
Claims (5)
- ワークを保持して回転する回転テーブルと、
前記ワークの表面に塗布液を滴下する塗布ノズルと、
前記ワークの表面に洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、
前記回転テーブルの周囲を覆うように構成され、前記ワークから飛散する塗布液を受け止めるカバー部材と、
前記ワークの表面に前記洗浄液を供給する際に、前記カバー部材の内壁面に異物が付着することを抑制する汚染抑制手段と、
を備え、
前記汚染抑制手段は、前記回転テーブルと前記カバー部材とを前記回転テーブルの回転軸の方向に相対移動させる相対移動手段であって、前記洗浄ノズルから前記ワークの表面に前記洗浄液を吐出する場合には、前記カバー部材を前記回転テーブルの周囲から外れた位置に相対移動させる相対移動手段を備える、
回転塗布装置。 - ワークを保持して回転する回転テーブルと、
前記ワークの表面に塗布液を滴下する塗布ノズルと、
前記ワークの表面に洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、
前記回転テーブルの周囲を覆うように構成され、前記ワークから飛散する塗布液を受け止めるカバー部材と、
前記ワークの表面に前記洗浄液を供給する際に、前記カバー部材の内壁面に異物が付着することを抑制する汚染抑制手段と、
を備え、
前記汚染抑制手段は、前記カバー部材の内壁面を流体で遮蔽する流体遮蔽手段を備える、
回転塗布装置。 - 前記流体遮蔽手段は、洗浄液を吐出する洗浄液吐出管を備える、
請求項2に記載の回転塗布装置。 - 前記流体遮蔽手段は、エアーを噴出するエアー噴出管を備える、
請求項2に記載の回転塗布装置。 - ワークを保持して回転する回転テーブルと、
前記ワークの表面に塗布液を滴下する塗布ノズルと、
前記ワークの表面に洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、
前記回転テーブルの周囲を覆うように構成され、前記ワークから飛散する塗布液を受け止めるカバー部材と、
前記ワークの表面に前記洗浄液を供給する際に、前記カバー部材の内壁面に異物が付着することを抑制する汚染抑制手段と、
を備え、
前記汚染抑制手段は、
前記カバー部材の内側に、異物を吸引する吸引口と、異物吸引路とを有する異物吸引手段と、
前記回転テーブルと前記カバー部材とを前記回転テーブルの回転軸の方向に相対移動させる相対移動手段とを備え、
前記吸引口は前記回転テーブルの回転軸の方向における前記カバー部材の端部の近傍、且つ、前記回転テーブルよりも高い位置にあり、
前記洗浄ノズルから前記ワークの表面に前記洗浄液を吐出する場合には、前記相対移動手段は前記回転テーブルを前記吸引口の近傍に相対移動させ、前記異物吸引手段は前記吸引口及び前記異物吸引路を介して前記回転テーブルから飛散する前記異物を吸引する、
回転塗布装置。
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