JP5155967B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成された放射線ビームを形成することができ、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを有し、
使用時に熱負荷を経験する装置の少なくとも1つの構成要素に、構成要素をほぼ一定の温度に維持するように配置構成された一体装着の加熱要素を設けるリソグラフィ装置が提供される。
− 放射線ビームB(例えばUVまたはEUV放射線)を調整するように構成された照明システム(照明装置)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、かつ、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置PMに連結を行った支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジスト塗布したシリコンウェハ)Wを保持し、かつ、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置PWに連結を行った基板テーブル(例えばウェハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって投影ビームPBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折性投影レンズシステム)PSを有する。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が1回の作動(すなわち1回の静止露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光可能である。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (17)
- リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成された放射線ビームを形成することができ、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、を有し、
使用時に熱負荷を経験する装置の少なくとも1つの構成要素に、構成要素をほぼ一定の温度に維持するように配置構成された一体装着の加熱要素を設け、
前記構成要素は、照明システムおよび投影システムのうち少なくとも一方に配置された光学要素であり、
前記投影システムは、前記光学要素の装着されたフレームを有し、前記フレームに開口を設け、これを通して加熱要素制御手段が前記加熱要素と接続可能であり、
前記光学要素が、フレームに配置され、
複数の光学要素が、隔置された関係で前記フレームに配置され、
複数の光学要素に少なくとも1つの前記加熱要素を設け、個々の各光学要素に設けた前記加熱要素の数が、各光学要素が受ける熱負荷に従って決定される、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成された放射線ビームを形成することができ、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、を有し、
使用時に熱負荷を経験する装置の少なくとも1つの構成要素に、構成要素をほぼ一定の温度に維持するように配置構成された一体装着の加熱要素を設け、
前記構成要素が、使用時に熱負荷を受けるボリュームを有し、前記構成要素に、前記加熱要素が配置された構成要素に配置された通路を設け、前記通路が前記ボリューム内に延在し、
前記放射線ビームおよびパターン形成した放射線ビームのうち少なくとも一方が、入射区域で前記構成要素に入射し、前記通路が前記入射区域の近傍で前記構成要素内に形成される、リソグラフィ装置。 - 前記構成要素が少なくとも1つの温度センサを有し、前記加熱要素が、前記少なくとも1つの温度センサによって感知した温度に応答して、前記構成要素をほぼ一定の所定温度に維持するように配置構成される、請求項1又は請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記装置が、前記少なくとも1つの温度センサが測定した温度に応答して、前記加熱要素を制御する加熱要素制御手段を有する、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記加熱要素制御手段が、電源によって前記加熱要素に供給される電圧を制御する、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記加熱要素制御手段が前記構成要素から離れた位置に配置される、請求項4又は請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つの温度センサが前記加熱要素の熱中心に配置される、請求項3乃至請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ほぼ一定の温度がリソグラフィ装置の平均動作温度である、請求項1乃至請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記加熱要素が前記構成要素を直接加熱する、請求項1乃至請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記構成要素に、複数の一体装着の加熱要素および複数の温度センサを設け、各温度センサが、複数の加熱要素のうち1つの近傍に配置され、前記複数の加熱要素は、前記個々の加熱要素の近傍に配置した複数の温度センサが感知した個々の温度に応答して、互いに別個に制御可能である、請求項1乃至請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記構成要素が、前記照明システムおよび前記投影システムのうち少なくとも一方に配置された光学要素である、請求項1乃至請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射線ビームおよび前記パターン形成した放射線ビームのうち少なくとも一方が、所定の順序で複数の光学要素に入射し、前記放射線ビームおよび前記パターン形成した放射線ビームのうち少なくとも一方が最初に入射する第一光学要素に設ける前記加熱要素の数は、少なくとも投影ビームおよび前記パターン形成したビームの伝播方向であって前記第一光学要素の下流に配置された光学要素のうち少なくとも1つに設ける前記加熱要素の数よりも多い、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムが、前記光学要素の装着されたフレームを有し、前記フレームに開口を設け、前記開口を通して加熱要素制御手段が加熱要素と接続可能である、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記構成要素が、使用時に熱負荷を受けるボリュームを有し、前記加熱要素が配置された構成要素に通路を設け、通路が前記ボリューム内に延在する、請求項1乃至請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射線ビームおよび前記パターン形成した放射線ビームのうち少なくとも一方が、入射区域で前記構成要素に入射し、前記通路が入射区域の近傍で前記構成要素内に形成される、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記通路が、前記入射区域の周囲にほぼ対応する方向で前記構成要素内に延在する、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成された放射線ビームを形成することができ、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、を有し、
使用時に熱負荷を経験する装置の少なくとも1つの構成要素に、構成要素をほぼ一定の温度に維持するように配置構成された一体装着の加熱要素を設け、
前記構成要素は、照明システムおよび投影システムのうち少なくとも一方に配置された光学要素であり、
前記投影システムは、前記光学要素の装着されたフレームを有し、前記フレームに開口を設け、これを通して加熱要素制御手段が前記加熱要素と接続可能であり、
前記構成要素が、使用時に熱負荷を受けるボリュームを有し、前記加熱要素が配置された構成要素に通路を設け、通路が前記ボリューム内に延在し、
前記放射線ビームおよび前記パターン形成した放射線ビームのうち少なくとも一方が、入射区域で前記構成要素に入射し、前記通路が入射区域の近傍で前記構成要素内に形成される、リソグラフィ装置。
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