JP5135602B2 - X線管及びx線分析装置 - Google Patents

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Description

本発明は、例えばエネルギー分散型の蛍光X線分析装置に用いるものであって、小型かつ軽量なハンディータイプ及びポータブルタイプに好適なX線管及びX線分析装置に関する。
蛍光X線分析は、X線源から出射された一次X線を試料に照射し、試料から放出される蛍光X線をX線検出器で検出することで、その蛍光X線のエネルギーからスペクトルを取得し、試料の定性分析又は定量分析を行うものである。この蛍光X線分析は、試料を非破壊で迅速に分析可能なため、工程・品質管理などで広く用いられている。
この蛍光X線分析の分析手法としては、蛍光X線を分光結晶により分光し、X線の波長と強度を測定する波長分散方式や、分光せずに半導体検出素子で検出し、波高分析器でX線のエネルギーと強度とを測定するエネルギー分散方式などがある。
従来、例えば特許文献1では、蛍光X線の感度を高めるために、X線管球に内部に通過した蛍光X線を外部へ取り出す取り出し窓を設けて、X線管球及びX線分析器を試料に近づける試みがなされている。
また、特許文献2に記載されているように、X線管球及びX線分析器の小型化により、ハンディータイプのエネルギー分散型蛍光X線分析装置も普及している。
特開平8−115694号公報 特許第3062685号公報
上記従来の技術には、以下の課題が残されている。
例えば、特許文献1に記載のX線分析装置では、X線管球及びX線検出器を試料に近づけることによる検出感度を高める効果が大きいが、X線管球及びX線検出器がそれぞれ有限で一定以上の大きさを有しているために近接させるにも限界があった。
また、従来のハンディータイプのエネルギー分散型蛍光X線分析装置においては、さらなる小型化及び軽量化が要望されているが、装置構成としてX線管球とX線検出器とが体積及び質量の大半を占めるため、従来の形態ではより小型化及び軽量化を図るには限界があった。さらに、ハンディータイプでは、試料を密閉状態の試料室内に収納して分析するのではなく、大気中の試料に直接、一次X線を照射する開放型であるため、X線の安全上、X線管球からのX線発生量を制限することから、試料からの蛍光X線をより効率良く検出する必要があった。
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、さらなる小型化及び軽量化を図ることができると共に、より効率的に蛍光X線等を検出して感度を高めることができるX線管及びX線分析装置を提供することを目的とする。
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明のX線管は、内部が真空状態とされX線が透過可能なX線透過膜で形成された窓部を有した真空筐体と、前記真空筐体内に設置され電子線を出射する電子線源と、前記電子線が照射されて一次X線を発生すると共に該一次X線を前記窓部を介して外部の試料に出射可能に前記真空筐体内に設置されたターゲットと、前記試料から放出されて前記窓部から入射する蛍光X線及び散乱X線を検出可能に前記真空筐体内に配置され該蛍光X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出素子と、前記X線検出素子と前記ターゲットの前記電子線の照射領域との間に配設されたガード部と、を備えていることを特徴とする。
このX線管では、X線検出器の構成要素であるX線検出素子が窓部から入射する蛍光X線及び散乱X線を検出可能に真空筐体内に配置されているので、X線検出素子がX線管球の構成要素である電子線源及びターゲットと共に真空筐体内に一体的に収納されて装置全体をさらに小型化及び軽量化することができる。また、X線検出素子が真空筐体内に配されており、一次X線を発生するターゲットと共に試料に近接させて検出を行うことができるので、非常に効率良く励起及び検出を行うことが可能になる。さらに、開放型のハンディータイプに適用すれば、効率的な検出が可能なので、X線発生量をより抑制しても高い感度で検出することができ、高い安全性を得ることができる。
また、ガード部がX線検出素子とターゲットの電子線の照射領域との間に配設されているので、ターゲットで発生し放出されるターゲットからの一次X線、二次電子、反射電子、又は輻射熱を遮断し、これらがX線検出素子に入射してノイズとなることを防ぐことを抑制することができる。
また、本発明のX線管は、前記ガード部が、金属で形成され、グランド電位又はプラス電位に設定されていることを特徴とする。すなわち、このX線管では、金属製のガード部がグランド電位又はプラス電位に設定されているので、ターゲットからの二次電子を電界によりガード部に引き寄せてより高い遮断効果を得ることができる。
また、本発明のX線管は、前記ガード部が、前記X線検出素子と前記ターゲットとの間に配された金属製のガード部材であることを特徴とする。すなわち、このX線管では、ガード部が、前記X線検出素子と前記ターゲットとの間に配された金属製のガード部材であるので、発熱するターゲットからの輻射熱を遮断してX線検出素子の冷却へ影響を与えることを抑制することができる。また、ガード部として金属材料、配置及び形状等の高い自由度が得られ、より効果的な遮蔽効果を得ることができる。例えば、ターゲットとは異なる材料、例えば反射電子を遮蔽するのに適したCu等の重金属で形成することで、より効果的に反射電子の遮断を行うことができる。
また、本発明のX線管は、前記ターゲットが、前記照射領域となるターゲット本体と、前記ターゲット本体から該ターゲット本体と前記X線検出素子との間に突出し前記ガード部となる突出壁部と、を有していることを特徴とする。すなわち、このX線管では、ターゲット自体にガード部となる突出壁部を設けているので、ガード部を別部材として設置する必要が無く、部材コストを低減することができる。
本発明のX線分析装置は、上記本発明のX線管と、前記信号を分析する分析器と、前記分析器の分析結果を表示する表示部と、を備えていることを特徴とする。すなわち、このX線分析装置では、上記本発明のX線管を備えているので、装置全体を小型化することができる。
また、本発明のX線分析装置は、前記分析器及び前記表示部を前記真空筐体に設けて可搬型としたことを特徴とする。すなわち、このX線分析装置では、真空筐体に分析器と表示部とが一体に搭載された可搬型とされるので、分析器と表示部とにより分析結果をその場で確認可能で、かつ小型で軽量なハンディータイプとすることができる。
本発明によれば、以下の効果を奏する。
すなわち、本発明に係るX線管及びX線分析装置によれば、X線検出素子が窓部から入射する蛍光X線及び散乱X線を検出可能に真空筐体内に配置されているので、装置全体をさらに小型化及び軽量化することができると共に、より効率良く励起及び検出を行うことが可能になる。また、ガード部がX線検出素子とターゲットの電子線の照射領域との間に配設されているので、ターゲットからの一次X線、二次電子、反射電子、輻射熱等を遮断してX線検出素子への悪影響を抑制して高精度な測定を得ることができる。特に、開放型のハンディータイプのX線分析装置に適用すれば、X線発生量をより抑制しても高い感度で検出することができ、高い安全性を得ることができる。
以下、本発明に係るX線管及びX線分析装置の第1実施形態を、図1及び図2を参照しながら説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能又は認識容易な大きさとするために縮尺を適宜変更している。
本実施形態のX線分析装置は、可搬型(ハンディータイプ)のエネルギー分散型の蛍光X線分析装置であって、図1に示すように、内部の一部が真空状態とされX線が透過可能なX線透過膜で形成された窓部1を有した真空筐体2と、真空筐体2内に設置され電子線eを出射する電子線源3と、電子線eが照射されて一次X線X1を発生すると共に該一次X線X1を窓部1を介して外部の試料Sに出射可能に真空筐体2内に設置されたターゲットTと、試料Sから放出されて窓部1から入射する蛍光X線及び散乱X線X2を検出可能に真空筐体2内に配置され該蛍光X線及び散乱X線X2のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出素子4と、X線検出素子4とターゲットTの電子線eの照射領域との間に配設された金属ガード部材(ガード部)10と、上記信号を分析する分析器5と、分析器5の分析結果を表示する表示部6と、を備えている。なお、上記真空筐体2、電子線源3、ターゲットT、X線検出素子4及び金属ガード部材10を主な構成として、X線管が構成されている。
上記真空筐体2は、内部が真空状態とされた前部収納部2aと、この前部収納部2aと隔壁2cで隔てられ内部が大気圧状態とされた後部収納部2bとで構成されている。
上記窓部1は、X線透過膜として例えばBe(ベリリウム)箔で形成されている。なお、窓部1の前面に、試料Sに応じて選択されたCu(銅)、Zr(ジルコニウム)、Mo等の金属薄膜又は金属薄板である1次フィルタを取り付けても構わない。また、窓部1及びターゲットTは、ターゲットTに入射した電子線eとターゲットTとの相互作用により発生し放出された二次電子を引き戻すため、グランド電位又はプラス電位に設定されている。なお、二次電子は通常、数eV程度のエネルギーしかないため、このエネルギー以上の電界となるようにグランド電位又はプラス電位が設定される。
上記電子線源3は、陰極とされるフィラメント7と、陽極とされるターゲットTとの間の電圧(管電流)及び電子線eの電流(管電流)を制御する電流電圧制御部8とを備えている。この電子線源3は、陰極とされたフィラメント7から発生した熱電子(電子線)がフィラメント7と陽極とされたターゲットTとの間に印加された電圧(例えば、50keV)により加速されターゲットTに衝突して発生したX線を1次X線として発生させるものである。
また、陰極としてフィラメント7ではなく、カーボンナノチューブを採用しても構わない。
上記ターゲットTは、例えばW(タングステン)、Mo(モリブデン)、Cr(クロム)、Rh(ロジウム)などが採用される。このターゲットTは、窓部1に近接又は接触されて配されている。
上記X線検出素子4は、例えばpin構造ダイオードであるSi(シリコン)素子等の半導体検出素子である。このX線検出素子4は、X線光子1個が入射するとこのX線光子1個に対応する電流パルスが発生する。この電流パルスの瞬間的な電流値が、入射した蛍光X線のエネルギーに比例している。
このX線検出素子4は、図1及び図2に示すように、電子線源3のフィラメント7とターゲットTとの間の領域に配され、電子線eが透過可能な透過孔4aを有している。また、ターゲットTは、透過孔4aの直下にかつ近接して配されており、X線検出素子4の受光面は、ターゲットTの周囲に配されている。
また、上記X線検出素子4は、図示しない冷却機構(例えば、液化窒素を冷媒とした冷却機構やペルチェ素子を用いた冷却機構)によって一定温度に保持されるように設定されている。なお、X線検出素子4は、−30〜−100°程度まで冷却することにより、本来の性能を確保することができる。
また、ターゲットTの電子線eの照射領域とX線検出素子4との間には、ターゲットTからの一次X線X1、二次電子、反射電子及び輻射熱がX線検出素子4に入らないように金属ガード部材10が設けられている。この金属ガード部材10は、図示しない支持体で真空筐体2に固定され、電子線eが透過可能に中央に電子線eの透過孔10aが形成された円環部材である。なお、上記支持体は、金属ガード部材10の支持機能だけでなく、二次電子や輻射熱の放出機能も兼ね備えている。
また、本実施形態での金属ガード部材10は、内部が透過孔10aとされた円筒部10bを中央に有している。なお、この円筒部10bを、X線検出素子4の透過孔4a内に挿入させて配しても構わない。金属ガード部材10の大きさ及び形状は、ターゲットTから直線的に出射される反射電子等がX線検出素子4へ入射されないように、その経路中に配されて反射電子等を遮断可能にターゲットTとX線検出素子4との位置関係等に応じて決定される。また、金属ガード部材10は、Cu等の重金属で形成され、窓部1及びターゲットTと同様に、グランド電位又はプラス電位に設定されている。
なお、X線検出素子4をマイナス電位に設定することで、熱電子(電子線e)がX線検出素子4に入射されることを抑制することができる。
これらフィラメント7、ターゲットT、X線検出素子4及び金属ガード部材10は、真空筐体2の前部収納部2a内に配置されている。
上記分析器5は、X線信号処理部であって、X線検出素子4で発生した電流パルスを電圧パルスに変換、増幅し、信号とし、この信号から電圧パルスの波高を得てエネルギースペクトルを生成する波高分析器(マルチチャンネルパルスハイトアナライザー)である。
また、上記電流電圧制御部8及び分析器5は、CPU9に接続され、設定により種々の制御が行われる。
上記表示部6は、例えば液晶表示装置であって、CPU9に接続され、エネルギースペクトル等の分析結果だけでなく、設定に応じて種々の画面表示が可能になっている。
また、分析器5、電流電圧制御部8及びCPU9は、真空筐体2の後部収納部2b内に設けられ、表示部6は、後部収納部2bの外面に表示面を配して設けられている。すなわち、分析器5及び表示部6は、真空筐体2に一体に設けられている。
なお、上記各構成のうち電力供給及び電位設定の必要なものは、いずれも図示しない電源部に接続されている。
このように本実施形態では、X線検出素子4が窓部1から入射する蛍光X線及び散乱X線X2を検出可能に真空筐体2内に配置されているので、X線検出素子4が電子線源3及びターゲットTと共に真空筐体2内に一体的に収納されて装置全体をさらに小型化及び軽量化することができる。また、X線検出素子4が真空筐体2内に配されており、一次X線X1を発生するターゲットTと共に試料Sに近接させて検出を行うことができるので、非常に効率良く励起及び検出を行うことが可能になる。特に、開放型のハンディータイプに適用することにより、効率的な検出が可能なので、X線発生量をより抑制しても高い感度で検出することができ、高い安全性を得ることができる。
また、X線検出素子4の受光面がターゲットTの周囲に配されているので、窓部1に試料Sを近接させた状態で分析を行う際に、ターゲットTからの一次X線X1が効率的に試料Sに入射することができ、さらに試料Sから発生した蛍光X線等をターゲットT周囲(すなわち、窓部1近傍)に配されたX線検出素子4で効率的に検出することができる。
また、電子線源3とターゲットTとの間に配されたX線検出素子4の透過孔4aを介して電子線eがターゲットに照射されるので、透過孔4aにより電子線eを絞ってターゲットTに照射することができる。
また、金属ガード部材10が、X線検出素子4とターゲットTの電子線eの照射領域との間に配設されているので、X線発生部であるターゲットTで発生し放出される二次電子、反射電子を遮断し、これらがX線検出素子4に入射してノイズとなることを防ぐと共に、発熱するターゲットTからの輻射熱を遮断してX線検出素子4の冷却へ影響を与えることを抑制することができる。
さらに、金属ガード部材10が、グランド電位又はプラス電位に設定されているので、ターゲットTからの二次電子を電界により金属ガード部材10に引き寄せてより高い遮断効果を得ることができる。
また、ターゲットT及び窓部1が、グランド電位又はプラス電位に設定されているので、ターゲットTからの二次電子を電界によりターゲットT及び窓部1に引き戻すことでX線検出素子4への二次電子の入射を抑制することができる。
さらに、真空筐体2に分析器5と表示部6とが一体に搭載された可搬型とされるので、分析器5と表示部6とにより分析結果をその場で確認可能で、かつ小型で軽量なハンディータイプとすることができる。
次に、本発明に係るX線管及びX線分析装置の第2実施形態について、図3を参照して以下に説明する。なお、以下の実施形態の説明において、上記実施形態において説明した同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。
第2実施形態と第1実施形態との異なる点は、第1実施形態では、ターゲットTとX線検出素子4との間に金属ガイド部材10を配置しているのに対し、第2実施形態のX線管及びX線分析装置では、図3に示すように、ターゲットT自体に突出壁部(ガード部)T1を設けてガード部としている点である。すなわち、第2実施形態のターゲットTが、電子線eの照射領域となるターゲット本体T0と、ターゲット本体T0の外縁部から該ターゲット本体T0とX線検出素子4との間に突出しガード部となる突出壁部T1と、を有している。
上記ターゲット本体T0は、円盤状に形成され、突出壁部T1は、ターゲット本体T0の外縁部からX線検出素子4側に円筒状に突出した突条体である。なお、突出壁部T1を、X線検出素子4の透過孔4a内に挿入させて配しても構わない。
このように第2実施形態のX線管及びX線分析装置では、ターゲットT自体に二次電子や反射電子等を遮蔽可能なガード部となる突出壁部T1を設けているので、ガード部を別部材として設置する必要が無く、部材コストを低減することができる。
なお、本発明の技術範囲は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記各実施形態では、エネルギー分散型の蛍光X線分析装置であるが、他の分析方式、例えば波長分散型の蛍光X線分析装置に適用しても構わない。
また、本発明は、上記各実施形態のようにハンディータイプのX線分析装置に好適であるが、据え置き型のX線分析装置に適用しても構わない。例えば、上記真空筐体2、電子線源3、ターゲットT及びX線検出素子4により構成されるX線管と、分析器5や制御系及び表示部6等とを別体に設けて構成した据え置き型X線分析装置としても構わない。
本発明に係るX線分析装置の第1実施形態において、X線分析装置を示す概略的な全体構成図である。 第1実施形態において、X線検出素子、金属ガイド部材、ターゲット及び窓部の位置関係を示すX線検出素子直上から見た配置図である。 本発明に係るX線分析装置の第2実施形態において、X線分析装置を示す概略的な要部断面図である。
符号の説明
1…窓部、2…真空筐体、3…電子線源、4…X線検出素子、4a…透過孔、5…分析器、6…表示部、10…金属ガード部材(ガード部)、e…電子線、X1…一次X線、X2…蛍光X線及び散乱X線、S…試料、T…ターゲット、T0…ターゲット本体、T1…突出壁部(ガード部)

Claims (6)

  1. 内部が真空状態とされX線が透過可能なX線透過膜で形成された窓部を有した真空筐体と、
    前記真空筐体内に設置され電子線を出射する電子線源と、
    前記電子線が照射されて一次X線を発生すると共に該一次X線を前記窓部を介して外部の試料に出射可能に前記真空筐体内の前記窓部に近接又は接触されて設置されたターゲットと、
    前記試料から放出されて前記窓部から入射する蛍光X線及び散乱X線を検出可能に前記真空筐体内の前記ターゲットの周囲であって前記窓部近傍に配されていると共に、前記電子線源と前記ターゲットとの間の領域に前記ターゲットに近接して配され該蛍光X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出素子と、
    前記X線検出素子と前記ターゲットの前記電子線の照射領域との間に配設されたガード部と、を備えていることを特徴とするX線管。
  2. 請求項1に記載のX線管において、
    前記ガード部が、金属で形成され、グランド電位又はプラス電位に設定されていることを特徴とするX線管。
  3. 請求項1又は2に記載のX線管において、
    前記ガード部が、前記X線検出素子と前記ターゲットとの間に配された金属製のガード部材であることを特徴とするX線管。
  4. 請求項1又は2に記載のX線管において、
    前記ターゲットが、前記照射領域となるターゲット本体と、
    前記ターゲット本体から該ターゲット本体と前記X線検出素子との間に突出し前記ガード部となる突出壁部と、を有していることを特徴とするX線管。
  5. 請求項1から4のいずれか一項に記載のX線管と、
    前記信号を分析する分析器と、
    前記分析器の分析結果を表示する表示部と、を備えていることを特徴とするX線分析装置。
  6. 請求項5に記載のX線分析装置において、
    前記分析器及び前記表示部を前記真空筐体に設けて可搬型としたことを特徴とするX線分析装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7680248B2 (en) * 2007-01-30 2010-03-16 Sii Nanotechnology Inc. X-ray tube and X-ray analyzing apparatus
JP4956701B2 (ja) * 2007-07-28 2012-06-20 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 X線管及びx線分析装置
CN102042991A (zh) * 2009-10-09 2011-05-04 株式会社堀场制作所 荧光x射线分析用试样室和试样室组装用具
CN103442815B (zh) 2011-01-07 2015-04-22 休伦瓦雷钢铁公司 废金属分拣系统
JP5854707B2 (ja) * 2011-08-31 2016-02-09 キヤノン株式会社 透過型x線発生管及び透過型x線発生装置
JP5871529B2 (ja) 2011-08-31 2016-03-01 キヤノン株式会社 透過型x線発生装置及びそれを用いたx線撮影装置
JP5901180B2 (ja) * 2011-08-31 2016-04-06 キヤノン株式会社 透過型x線発生装置及びそれを用いたx線撮影装置
JP5763032B2 (ja) * 2012-10-02 2015-08-12 双葉電子工業株式会社 X線管
US9053901B2 (en) * 2012-12-21 2015-06-09 General Electric Company X-ray system window with vapor deposited filter layer
US9404295B2 (en) 2014-06-24 2016-08-02 Milgard Manufacturing Incorporated Sliding sash secondary lock
GB2551980A (en) * 2016-06-30 2018-01-10 Commw Scient Ind Res Org Method and system for low level metal analysis of mineral samples
CN107907556B (zh) * 2017-12-28 2020-01-14 国网辽宁省电力有限公司电力科学研究院 一种电气设备外壳的寿命评估方法
AU2019268796A1 (en) * 2018-05-18 2020-12-17 Enersoft Inc. Systems, devices, and methods for analysis of geological samples
EP3837536A4 (en) * 2018-08-17 2022-04-27 Microtrace Pty Limited MINERAL SLUDGE MEASUREMENT DEVICE

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0361840A (ja) * 1989-07-31 1991-03-18 Kagaku Keisatsu Kenkyusho X線吸収スペクトル測定装置
JP2838172B2 (ja) * 1991-05-03 1998-12-16 株式会社 堀場製作所 蛍光x線分析装置
JP3442880B2 (ja) 1994-10-18 2003-09-02 理学電機工業株式会社 X線管
US6005918A (en) 1997-12-19 1999-12-21 Picker International, Inc. X-ray tube window heat shield
US6118852A (en) 1998-07-02 2000-09-12 General Electric Company Aluminum x-ray transmissive window for an x-ray tube vacuum vessel
JP3062685B2 (ja) * 1998-07-23 2000-07-12 セイコーインスツルメンツ株式会社 蛍光x線分析計
JP2000306533A (ja) 1999-02-19 2000-11-02 Toshiba Corp 透過放射型x線管およびその製造方法
JP2002195963A (ja) * 2000-12-25 2002-07-10 Ours Tex Kk X線分光装置およびx線分析装置
CN1816757B (zh) * 2003-06-05 2011-09-28 西莫尼托恩分析器股份有限公司 辐射探测装置
US7085353B2 (en) 2004-02-27 2006-08-01 Hamamatsu Photonics K.K. X-ray tube
JP2006003109A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Koichi Tsuji 蛍光x線分析装置
US7680248B2 (en) * 2007-01-30 2010-03-16 Sii Nanotechnology Inc. X-ray tube and X-ray analyzing apparatus
JP4956701B2 (ja) * 2007-07-28 2012-06-20 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 X線管及びx線分析装置

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