JP2017167030A - X線分析装置 - Google Patents
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Abstract
Description
したがって、従来のX線分析装置にあっては、高真空状態および低真空状態で分析可能とする汎用性、およびX線の取得効率の向上を両立するという点で改善の余地がある。
図1は、実施形態に係るX線分析装置の構成を模式的に示す部分断面図である。
図1に示すように、本実施形態のX線分析装置1は、X線励起装置10と、X線検出装置20と、X線励起装置10とX線検出装置20との間に配置されたゲートバルブ5と、を備えている。
TES21は、試料Sから放出された特性X線13を検出可能となっている。TES21は、超伝導体が有する超伝導転移を利用するものであり、X線の検出動作では、常伝導と超伝導の中間状態に動作点を保持する。これにより、X線1個がTES21に吸収された場合、超伝導転移中に動作点を保持された状態において、例えば100mKの温度変化に対して数μWの抵抗変化が得られ、μAオーダーの放射線パルスを得ることができる。また、予めパルス波高値と放射線のエネルギーとの関係を求めたデータを記憶しておくことにより、未知エネルギーを有する放射線がTES21に照射されても信号パルス波高値から入射した放射線のエネルギーを検出することができる。
冷凍機本体24は、例えば希釈冷凍機または断熱消磁冷凍機などである。希釈冷凍機はミキシングチャンバー内において濃厚相から希薄相へ3Heが溶け込む時のエンタルピー差を利用して冷却を行なう。断熱消磁冷凍機は磁性体に磁場を印加することでスピンの向きを揃えておき、磁場を除去する際にエントロピーが増大することで、磁性体に接続された物体を冷却する。冷凍機本体24は、冷凍機位置調整機構4に支持され、位置の調整を可能とされている。冷凍機位置調整機構4は、床面上に設置された第2架台3上に載置されている。
コールドヘッド26は、冷凍機本体24において最も冷却される箇所に接続されている。コールドヘッド26の先端には、TES21が設置されている。コールドヘッド26は、冷凍機本体24によって100mK近傍まで冷却される。
X線分析装置1は、低真空状態での分析、および高真空状態での分析を行うことができる。
低真空状態での分析は、例えば試料Sが生体試料等の非導電性である場合に行う。低真空状態での分析は、ゲートバルブ5を閉じ、室温シールド27の内部を高真空状態としつつ、試料室11の内部を窒素等のガスにより室温シールド27の内部よりも真空度の低い低真空状態とする。この状態で、試料Sに対して電子線12を照射すると、試料Sのチャージアップを抑制しつつ、試料Sから特性X線13を放出させることができる。試料Sから放出された特性X線13は、ゲートバルブ5の仕切板6が有する耐圧X線窓8、および熱シールド28が有するX線窓29を透過して、TES21に入射する。これにより、非導電性の試料Sを分析できる。なお、低真空状態での分析の場合、試料Sから放出された特性X線13のうち特に1keV以下のX線はガスに吸収されるため、特性X線13が耐圧X線窓8を透過することにより生じる1keV以下のX線の減衰は特に問題とならない。
この構成によれば、試料室11の内部と室温シールド27の内部とが連通しているか否かによらず、試料室11に配置された試料Sから放出された特性X線13をTES21に取得させることができる。このため、ゲートバルブ5を閉じることで、室温シールド27の内部を高真空状態に維持しつつ、試料室11の内部を低真空状態にして分析することができる。また、ゲートバルブ5を開けて室温シールド27の内部および試料室11の内部を高真空状態にして分析することができる。よって、高真空状態および低真空状態で分析可能となり、汎用性が向上する。しかも、高真空状態での分析の際には、試料Sから放出された特性X線13を仕切板6の耐圧X線窓8を透過させることなくTES21に検出させることが可能となるので、ゲートバルブ5を閉じた状態での分析と比較して、特性X線13の減衰を抑制することができ、特に1keV以下の特性X線のX線取得効率を向上させることができる。したがって、汎用性およびX線取得効率の向上を両立することが可能なX線分析装置1を提供できる。
図2は、実施形態の変形例に係るX線分析装置の構成を模式的に示す部分断面図である。図3は、キャピラリーおよびホルダの部分断面図である。
図2に示す実施形態の変形例では、キャピラリー30を備える点で、図1に示す実施形態と異なっている。なお、図1に示す実施形態と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明を省略する。
図2および図3に示すように、キャピラリー30は、試料Sから放出された特性X線13をTES21に向かって伝播する。キャピラリー30は、例えばガラス細管を束ねることにより形成されている。キャピラリー30は、試料SからTES21に向かう方向(以下、「伝播方向」という。)に沿って延在している。キャピラリー30は、伝播方向に直交する断面形状が円形状になっており、両端部が中央部よりも小径であって、かつ試料S側の端部30aがTES21側の端部30bよりも小径になっている。
このようにして、キャピラリー30は、一対のOリング45A,45Bにより伝播方向の両側においてホルダ41の内周面から径方向の内側に向かって均等に押されるので、キャピラリー30の中心軸とホルダ41の中心軸とが一致するように、機械的に軸合せされる。
最初にキャピラリー30の位置調整を行う。キャピラリー30の位置調整では、キャピラリー30の入射側焦点位置と試料Sの位置とを一致させる。キャピラリー30の位置調整は、ゲートバルブ5を閉じ、試料Sに電子線12を照射して試料Sから特性X線13を放出させた状態で行う。キャピラリー30の位置調整では、キャピラリー30の入射側焦点位置と試料Sの位置とが一致した際にキャピラリー30を伝播して放射された特性X線13を検出することで、キャピラリー30の入射側焦点位置と試料Sの位置とが一致したことを確認する。なおこの際、キャピラリー30から放射された特性X線13は、耐圧X線窓8を通るが、耐圧X線窓8の寸法(例えばφ8mm)は、キャピラリー30の出射側焦点のサイズ(例えばφ1mm)よりも十分に大きいので、耐圧X線窓8とキャピラリー30との位置関係は無視できる。
キャピラリー30から放射された特性X線13の検出は、TES21よりも有感面積の広い調整用X線検出器50を用いることが望ましい。この際には、ゲートバルブ5を閉じた状態でゲートバルブ5からX線検出装置20を取り外し、キャピラリー30のおおよその出射側焦点位置に調整用X線検出器50を配置する(図4参照)。これにより、キャピラリー30の位置によらず、キャピラリー30から放射された特性X線13を取得でき、キャピラリー30の入射側焦点位置と試料Sの位置とが一致しているか否かを判定できる。なお、調整用X線検出器50の代わりに蛍光板を用いてもよい。
またその変形として調整用X線検出器50が真空対応である場合、ゲートバルブ5をオープンにし、真空状態にある試料室11と真空的に接続してもよい。
以上により、キャピラリー30およびTES21の位置調整が完了する。
なお、本変形例におけるTES21の位置調整は、上述した実施形態においても同様に行うことができる。すなわち、上述した実施形態において、室温シールド27がベローズにより形成されたことで、X線励起装置10に対するTES21の位置を容易に調整することが可能となり、使い勝手の良いX線分析装置1とすることができる。
Claims (6)
- 分析対象である試料を配置可能な試料室を備えたX線励起装置と、
前記試料から放出された特性X線を検出可能なX線検出部、および前記X線検出部を囲う室温シールドを備えたX線検出装置と、
前記X線励起装置と前記X線検出装置との間に配置されたゲートバルブと、
を備え、
前記室温シールドの内部は、前記試料室の内部に対して連通可能に設けられ、
前記ゲートバルブは、前記試料室の内部と前記室温シールドの内部との連通を遮断可能に設けられた仕切板を備え、
前記仕切板は、X線透過部を有する、
ことを特徴とするX線分析装置。 - 前記X線透過部は、有機膜およびシリコン窒化膜のいずれかとアルミニウム膜との積層体により形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載のX線分析装置。 - 前記室温シールドのうち少なくとも一部は、ベローズにより形成されている、
ことを特徴とする請求項1または2に記載のX線分析装置。 - 前記試料室の内部に配置され、前記試料から放出された特性X線を前記X線検出部に向かって伝播するキャピラリーを備える、
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のX線分析装置。 - 前記X線励起装置に設けられ、前記キャピラリーの位置を調整可能なキャピラリー調整手段を備え、
前記キャピラリー調整手段は、筒状のホルダを備え、
前記キャピラリーは、前記キャピラリーと前記ホルダの内周面との間において、前記ホルダの延在方向に沿って離間して配置された少なくとも一対のOリングを介して前記ホルダに保持されている、
ことを特徴とする請求項4に記載のX線分析装置。 - 前記X線検出装置は、前記ゲートバルブに対して着脱可能に取り付けられている、
ことを特徴とする請求項4または5に記載のX線分析装置。
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