JP5123140B2 - 強誘電体メモリ - Google Patents

強誘電体メモリ Download PDF

Info

Publication number
JP5123140B2
JP5123140B2 JP2008289712A JP2008289712A JP5123140B2 JP 5123140 B2 JP5123140 B2 JP 5123140B2 JP 2008289712 A JP2008289712 A JP 2008289712A JP 2008289712 A JP2008289712 A JP 2008289712A JP 5123140 B2 JP5123140 B2 JP 5123140B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spare
units
block
blocks
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008289712A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010118105A (ja
Inventor
武 慎一郎 白
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2008289712A priority Critical patent/JP5123140B2/ja
Priority to US12/562,951 priority patent/US8085573B2/en
Publication of JP2010118105A publication Critical patent/JP2010118105A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5123140B2 publication Critical patent/JP5123140B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/22Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/80Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout
    • G11C29/808Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout using a flexible replacement scheme

Description

本発明は、強誘電体メモリ、例えば、RC並列ユニット直列接続型の強誘電体メモリに関する。
FeRAM(Ferroelectric Random Access Memory)の一種として、RC並列ユニット直列接続型FeRAMが知られている。RC並列ユニット直列接続型FeRAMは、強誘電体キャパシタとトランジスタとが並列接続された構造(RC並列ユニット)を直列接続して構成される。以下、RC並列ユニットを単にユニットと表記する。
RC並列ユニット直列接続型FeRAMでは、複数のユニットを有する2つのブロックが1本のプレート線を共有することが多い。
ここで、第1のプレート線を共有し、それぞれN1個及びN2個のユニットを有する第1及び第2のブロックと、第2のプレート線を共有し、それぞれN3個及びN4個のユニットを有する第3及び第4のブロックとを想定する。これらのブロックに関しては、第1のブロックと第3のブロックとが同じ側に位置し、第2のブロックと第4のブロックとが同じ側に位置すると想定する。
従来、N1,N2,N3,N4の値は、設計容易性からN1=N2=N3=N4と等しく設定するのが一般的だった。また、N1,N2,N3,N4(N1=N2=N3=N4)の値は、2のべき乗とするのが一般的だった。しかし近年、FeRAMの高集積化に伴い、メモリセル、ビット線、ワード線、プレート線の加工ピッチが小さくなっている。これにより、一般にCuやAlにより形成されるプレート線を、N1=N2となるように配置することが困難になっている。そのため、N1≠N3となるようにプレート線を配置するケースが増えている。
従って、RC並列ユニット直列接続型FeRAMでは、ユニット数の異なるブロックが混在するケースが増えてきている。上記のN1からN4は例えば、N1+N2=N3+N4=8、N1=3、N2=5、N3=5、N4=3のように設定される。
このような場合には、冗長救済の方法が問題となる。上記FeRAM用の冗長セルは、回路面積を低減するために、第1、第3のブロック側のみ、又は第2、第4のブロック側のみに設けることが望ましい。例えば、第1、第3のブロック側のみに冗長セルを設けるとすると、第1のブロックには5個の冗長セルが接続される。また、メモリセルアレイの対称性から、第3のブロックには3個の冗長セルが接続される。この場合、第1、第2のブロックを救済するには、前者の5個の冗長セルで十分であるが、第3、第4のブロックを救済するのに、後者の3個の冗長セルだけでは不足することが問題となる。
なお、特許文献1には、メモリセルアレイ内の不良救済機能を備える半導体記憶装置の例が記載されている。特許文献1に記載の半導体記憶装置では、正規メモリセルアレイ中の不良部分を含むワード線又はビット線へのアクセスが、冗長メモリセルアレイのワード線又はビット線へのアクセスに置き換えられる。
特開平9−148533号公報
本発明は、ユニット数の異なるブロックが混在する強誘電体メモリにも適用可能な冗長救済の手法を提供することを課題とする。
本発明の一の態様は例えば、強誘電体キャパシタとトランジスタとが並列接続されたユニットを複数備える強誘電体メモリであって、第1及び第2のメモリセルアレイと、前記第1及び第2のメモリセルアレイ内にそれぞれ配置された第1及び第2のビット線と、前記第1のビット線に接続され、それぞれN1個及びN2個(N1及びN2は正の整数)のユニットを有する第1及び第2のブロックと、前記第1のメモリセルアレイ内に配置され、前記第1及び第2のブロックに共通に接続されている第1のプレート線と、前記第1及び第2のメモリセルアレイ内にそれぞれ配置された第3及び第4のビット線と、前記第3のビット線に接続され、それぞれN3個及びN4個(N3及びN4は正の整数)のユニットを有する第3及び第4のブロックと、前記第1のメモリセルアレイ内に配置され、前記第3及び第4のブロックに共通に接続されている第2のプレート線と、前記第1のビット線に接続され、少なくともN1個のユニットを有し、前記第1のブロックの救済用に使用される第1の冗長ブロックと、前記第2のビット線に接続され、少なくともN2個のユニットを有し、前記第2のブロックの救済用に使用される第2の冗長ブロックと、前記第3のビット線に接続され、少なくともN3個のユニットを有し、前記第3のブロックの救済用に使用される第3の冗長ブロックと、前記第4のビット線に接続され、少なくともN4個のユニットを有し、前記第4のブロックの救済用に使用される第4の冗長ブロックと、前記第1から第4の冗長ブロックにそれぞれ接続された第1から第4の冗長プレート線と、前記第1及び第2のビット線のいずれかと選択的に接続可能、且つ、前記第3及び第4のビット線のいずれかと選択的に接続可能なセンスアンプと、を備えることを特徴とする強誘電体メモリである。
本発明によれば、ユニット数の異なるブロックが混在する強誘電体メモリにも適用可能な冗長救済の手法を提供することが可能になる。
本発明の実施形態を、図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態の強誘電体メモリ101の回路構成を表す模式図である。図1の強誘電体メモリ101は、第1及び第2のメモリセルアレイ111A及びBと、第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBと、ヒューズ等の不揮発性メモリ121と、アドレス比較器122と、第1及び第2のライン駆動回路123A及びBと、第1及び第2のスペアライン駆動回路124A及びBと、スペアライン制御回路125と、センスアンプ131とを備える。
第1,第2のメモリセルアレイ111A,Bは、複数のメモリセルを有するセルアレイである。第1,第2のメモリセルアレイ111A,Bはここでは共に、256×256個のメモリセルを有する。第1,第2のメモリセルアレイ111A,Bには、紙面横方向に走る複数のビット線BLと、紙面縦方向に走る複数のワード線WLと、紙面縦方向に走る複数のプレート線PLとが配置されている。
第1,第2のスペアセルアレイ112A,Bは、複数のスペアセルを有するセルアレイである。第1,第2のスペアセルアレイ112A,Bはここでは共に、5×256個のスペアセルを有する。第1,第2のスペアセルアレイ112A,Bには、紙面横方向に走る複数のビット線BLと、紙面縦方向に走る複数のスペアワード線SWLと、紙面縦方向に走る複数のスペアプレート線SPLとが配置されている。
ビット線BLは、第1のメモリセルアレイ111Aと第1のスペアセルアレイ112Aとの間、第2のメモリセルアレイ111Bと第2のスペアセルアレイ112Bとの間で、それぞれ共有化されている。図1には、第1のメモリセルアレイ111A,第1のスペアセルアレイ112A内に配置された第1及び第3のビット線BL1及びBL3と、第2のメモリセルアレイ111B,第2のスペアセルアレイ112B内に配置された第2及び第4のビット線BL2及びBL4とが示されている。
スペアワード線SWL及びスペアプレート線SPLは、冗長救済用に使用されるラインである。これらのラインは、本発明の冗長ワード線及び冗長プレート線の例である。
不揮発性メモリ121には、不良アドレス信号及びスペア活性信号が記憶されている。アドレス比較器122は、スペア活性信号がHの場合、アドレス信号と不良アドレス信号とを比較する。アドレス比較器122は、これらの信号が一致した場合、一致信号を出力する。第1,第2のライン駆動回路123A,Bは、一致信号に応じてワード線WL及びプレート線PLを非活性にする。一方、第1,第2のスペアライン駆動回路124A,Bは、一致信号を受信したスペアライン制御回路125による制御のもと、スペアワード線SWL及びスペアプレート線SPLを活性化する。なお、不良アドレス信号はここでは、ワード線のアドレスを示す信号とする。
センスアンプ131は、ビット線BLの電位変化を検出及び増幅することで、選択セルの記憶データを読み出す回路である。センスアンプ131は、第1及び第2のメモリセルアレイ111A及びBのメモリセルや、第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBのスペアセルから、記憶データを読み出すことができる。
なお、後述するように、図1の強誘電体メモリ101は、RC並列ユニット直列接続型FeRAMである。図1の各メモリセル及び各スペアセルは、後述のRC並列ユニットに相当する。
図2は、図1の第1のメモリセルアレイ111Aの回路構成を表す。第1のメモリセルアレイ111Aは、図2に示すように、強誘電体キャパシタ211とトランジスタ212とが並列接続されたユニット201を複数備えている。これらのユニット201は、図2に示すように、行ごとに直列接続されている。このように、本実施形態の強誘電体メモリ101は、RC並列ユニット直列接続型FeRAMとなっており、図2のユニット201は、RC並列ユニットとなっている。
各ユニット201は、1つの強誘電体キャパシタ211と、1つのトランジスタ212とを有する。強誘電体キャパシタ211の一方の電極は、トランジスタ212のソースに接続されており、強誘電体キャパシタ211の他方の電極は、トランジスタ212のドレインに接続されている。トランジスタ212のゲートは、ワード線に接続されている。
図2には、第1のメモリセルアレイ111Aを構成するユニット201として、16個のユニットU1〜U16が示されている。図2では、8個のユニットU1〜U8が番号順に直列接続されると共に、8個のユニットU9〜U16が番号順に直列接続されている。
図2には更に、第1から第4のブロックB1〜B4が示されている。第1から第4のブロックB1〜B4はそれぞれ、N1〜N4個(N1〜N4は正の整数)のユニット201を有しており、第1から第4の選択トランジスタS1〜S4に接続されている。
図2には更に、第1のメモリセルアレイ111Aに配置された第1及び第3のビット線BL1及びBL3と、第1から第8のワード線WL1からWL8と、第1及び第2のプレート線PL1及びPL2とが示されている。
第1及び第2のブロックB1及びB2は共に、第1のビット線BL1に接続されている。第1のブロックB1は、3個のユニットU1〜U3を有しており、第2のブロックB2は、5個のユニットU4〜U8を有している。
第1のブロックB1の一端は、第1のプレート線PL1に接続されており、他端は第1の選択トランジスタS1を介して第1のビット線BL1に接続されている。第1の選択トランジスタS1のゲートは、第1のブロック選択線BS1に接続されている。また、第2のブロックB2の一端は、第1のプレート線PL1に接続されており、他端は第2の選択トランジスタS2を介して第1のビット線BL1に接続されている。第2の選択トランジスタS2のゲートは、第2のブロック選択線BS2に接続されている。このように、第1及び第2のブロックB1及びB2は、第1のプレート線PL1に共通に接続されている。
また、第3及び第4のブロックB3及びB4は共に、第3のビット線BL3に接続されている。第3のブロックB3は、5個のユニットU9〜U13を有しており、第4のブロックB4は、3個のユニットU14〜U16を有している。
第3のブロックB3の一端は、第2のプレート線PL2に接続されており、他端は第3の選択トランジスタS3を介して第3のビット線BL3に接続されている。第3の選択トランジスタS3のゲートは、第3のブロック選択線BS3に接続されている。また、第4のブロックB4の一端は、第2のプレート線PL2に接続されており、他端は第4の選択トランジスタS4を介して第3のビット線BL3に接続されている。第4の選択トランジスタS4のゲートは、第4のブロック選択線BS4に接続されている。このように、第3及び第4のブロックB3及びB4は、第2のプレート線PL2に共通に接続されている。
以上のように、図2では、N1+N2=N3+N4=8となっており、第1及び第2のブロックB1及びB2のユニット総数N1+N2は、第3及び第4のブロックB3及びB4のユニット総数N3+N4と等しくなっている。更に、図2では、N1=3、N2=5、N3=5、N4=3となっており、第1のブロックB1のユニット数N1は、第3のブロックB3のユニット数N3と異なっており、第2のブロックB2のユニット数N2は、第4のブロックB4のユニット数N4と異なっている。このように、図2では、ユニット数の異なるブロックが混在している。
また、ユニットU1〜U8のゲートはそれぞれ、第1から第8のワード線WL1〜WL8に接続されている。同様に、ユニットU9〜U16のゲートもそれぞれ、第1から第8のワード線WL1〜WL8に接続されている。よって、第1及び第3のブロックB1及びB3は、第1から第3のワード線WL1〜WL3に共通に接続されており、第2及び第4のブロックB2及びB4は、第6から第8のワード線WL6〜WL8に共通に接続されている。
このように、図2では、第1及び第3のブロックB1及びB3は、1本以上のワード線に共通に接続されており、第2及び第4のブロックB2及びB4もまた、1本以上のワード線に共通に接続されている。
ここで、第1のメモリセルアレイ111Aの動作例を、図2に基づいて説明する。待機状態において、プレート線PL1及びPL2はL、ワード線WL1からWL8はH、ビット線BL1及びBL3はL、ブロック選択線BS1からBS4はLとなっている。なお、H及びLはそれぞれHigh及びLowを表す。
ユニットU1〜U3へのアクセスの際には、ワード線WL1〜WL3のいずれか1本がLとなり、ブロック選択線BS1がHとなり、その後プレート線PL1が駆動される。プレート線PL2については、待機状態の電位が維持される。
また、ユニットU4〜U8へのアクセスの際には、ワード線WL4〜WL8のいずれか1本がLとなり、ブロック選択線BS2がHとなり、その後プレート線PL1が駆動される。プレート線PL2については、待機状態の電位が維持される。
また、ユニットU9〜U13へのアクセスの際には、ワード線WL1〜WL5のいずれか1本がLとなり、ブロック選択線BS3がHとなり、その後プレート線PL2が駆動される。プレート線PL1については、待機状態の電位が維持される。
また、ユニットU14〜U16へのアクセスの際には、ワード線WL6〜WL8のいずれか1本がLとなり、ブロック選択線BS4がHとなり、その後プレート線PL2が駆動される。プレート線PL1については待機状態の電位が維持される。
以上、図2について説明したが、図2に関する上述の説明は、図1の第2のメモリセルアレイ111Bにも当てはまる。第2のメモリセルアレイ111Bは、第1のメモリセルアレイ111Aと同様の回路構成を有する。
図3は、図1の第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBの回路構成を表す。第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBは、図3に示すように、強誘電体キャパシタ211とトランジスタ212とが並列接続されたユニット201を複数備えている。これらのユニット201は、図3に示すように、行ごとに直列接続されている。
図3には、第1のスペアセルアレイ112Aを構成するユニット201として、10個のユニットUX1〜UX5及びUX11〜UX15が示されている。図3では、5個のユニットUX1〜UX5が番号順に直列接続されると共に、5個のユニットUX11〜UX15が番号順に直列接続されている。
図3には更に、第2のスペアセルアレイ112Bを構成するユニット201として、10個のユニットUX6〜UX10及びUX16〜UX20が示されている。図3では、5個のユニットUX6〜UX10が番号順に直列接続されると共に、5個のユニットUX16〜UX20が番号順に直列接続されている。
図3には更に、第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4が示されている。第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4はそれぞれ、第1から第4のブロックB1〜B4と同様にN1〜N4個のユニット201を有しており、第1から第4の冗長救済用の選択トランジスタSX1〜SX4に接続されている。第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4はそれぞれ、後述するように、第1から第4のブロックB1〜B4の冗長救済用に使用される。第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4はそれぞれ、本発明の第1から第4の冗長ブロックの例である。
図3には更に、第1のスペアセルアレイ112Aに配置された、第1及び第3のビット線BL1及びBL3と、第1から第5のスペアワード線SWL1からSWL5と、第1及び第3のスペアプレート線SPL1及びSPL3とが示されている。
図3には更に、第2のスペアセルアレイ112Bに配置された、第2及び第4のビット線BL2及びBL4と、第6から第10のスペアワード線SWL6からSWL10と、第2及び第4のスペアプレート線SPL2及びSPL4とが示されている。
第1のスペアブロックSB1は、第1のスペアセルアレイ112A内に位置し、3個のユニットUX1〜UX3を有している。第1のスペアブロックSB1の一端は、第1のスペアプレート線SPL1に接続されており、他端は第1の選択トランジスタSX1を介して第1のビット線BL1に接続されている。第1の選択トランジスタSX1のゲートは、第1のスペアブロック選択線SBS1に接続されている。
また、第2のスペアブロックSB2は、第2のスペアセルアレイ112B内に位置し、5個のユニットUX6〜UX10を有している。第2のスペアブロックSB2の一端は、第2のスペアプレート線SPL2に接続されており、他端は第2の選択トランジスタSX2を介して第2のビット線BL2に接続されている。第2の選択トランジスタSX2のゲートは、第2のスペアブロック選択線SBS2に接続されている。
また、第3のスペアブロックSB3は、第1のスペアセルアレイ112A内に位置し、3個のユニットUX11〜UX15を有している。第3のスペアブロックSB3の一端は、第3のスペアプレート線SPL3に接続されており、他端は第3の選択トランジスタSX3を介して第3のビット線BL3に接続されている。第3の選択トランジスタSX3のゲートは、第3のスペアブロック選択線SBS3に接続されている。
また、第4のスペアブロックSB4は、第2のスペアセルアレイ112B内に位置し、3個のユニットUX18〜UX20を有している。第4のスペアブロックSB4の一端は、第4のスペアプレート線SPL4に接続されており、他端は第4の選択トランジスタSX4を介して第4のビット線BL4に接続されている。第4の選択トランジスタSX4のゲートは、第4のスペアブロック選択線SBS4に接続されている。
以上のように、第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4はそれぞれ、3個、5個、5個、3個のユニット201を有しており、第1から第4のブロックB1〜B4と同数のユニット201を有している。これにより、第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4はそれぞれ、後述するように、第1から第4のブロックB1〜B4の冗長救済に使用することが可能となっている。なお、第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4はそれぞれ、3個、5個、5個、3個より多くのユニット201、即ち、N1〜N4個より多くのユニット201を有していても構わない。
なお、図3では、第1のスペアブロックSB1と同じ行に、ユニットUX4及びUX5が設けられ、第4のスペアブロックSB4と同じ行に、ユニットUX16及びUX17が設けられている。これらのユニットは、ダミーセル(ダミーユニット)となっている。本実施形態では、このようなダミーセルを設けることで、第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBの各行のユニット数が5個に統一されており、スペアセルアレイ112A及びBの対称性がよくなっている。図3では、N1<N3,N2>N4という設定に応じて、第1のスペアブロックSB1にN3−N1個のダミーセルが接続され、第4のスペアブロックSB4にN2−N4個のダミーセルが接続されている。なお、本実施形態では、このようなダミーセルを設けなくても構わない。
図3にはさらに、図1のセンスアンプ131が示されている。センスアンプ131は、図3に示すように、第1から第4のスイッチSW1〜SW4を介して第1から第4のビット線BL1〜BL4に接続されている。これにより、センスアンプ131は、第1及び第2のビット線BL1及びBL2のいずれかと選択的に接続可能、且つ、第3及び第4のビット線BL3及びBL4のいずれかと選択的に接続可能となっている。
これにより、第1のメモリセルアレイ111Aの冗長救済に、第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBを使用することが可能になる。本実施形態では、第1から第4のブロックB1〜B4の冗長救済にそれぞれ、第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4が使用される。即ち、第1及び第3のブロックB1,B3の冗長救済には、第1のスペアセルアレイ112Aが使用され、第2及び第4のブロックB2,B4の冗長救済には、第2のスペアセルアレイ112Bが使用される。第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBはさらに、第2のメモリセルアレイ111Bの冗長救済にも使用される。即ち、本実施形態では、第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBが、第1及び第2のメモリセルアレイ111A及びBにより共用される。
以上のように、本実施形態では、1つのメモリセルアレイに、5個のユニットを有するブロックと3個のユニットを有するブロックとが混在している。にもかかわらず、本実施形態では、第1から第4のブロックB1〜B4の冗長救済にそれぞれ第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4が使用されることで、各スペアセルアレイの1行ごとのユニット数が、最大で5個という少数で済んでいる。このように、本実施形態によれば、ユニット数の異なるブロックが混在する強誘電体メモリの冗長救済を取り扱う場合にも、冗長救済の効率を維持することができ、これによりLSIの歩留りを改善することができる。
さらに、ユニットUX1〜UX10のゲートはそれぞれ、第1から第10のスペアワード線SWL1〜SWL10に接続されている。同様に、ユニットUX11〜UX20のゲートもそれぞれ、第1から第10のスペアワード線SWL1〜SWL10に接続されている。よって、第1及び第3のスペアブロックSB1及びSB3は、第1から第3のスペアワード線SWL1〜SWL3に共通に接続されており、第2及び第4のスペアブロックSB2及びSB4は、第8から第10のスペアワード線SWL8〜SWL10に共通に接続されている。
このように、図3では、第1及び第3のスペアブロックSB1及びSB3は、1本以上のスペアワード線に共通に接続されており、第2及び第4のスペアブロックSB2及びSB4もまた、1本以上のスペアワード線に共通に接続されている。
以下、図2及び図3に基づいて、本実施形態の強誘電体メモリ101における冗長救済について説明する。以下の文中、第1のメモリセルアレイ111Aの構成要素については図2、第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBの構成要素については図3を参照されたい。
待機状態では、プレート線PL1及びPL2はL、ワード線WL1からWL8はH、ビット線BL1からBL4はL、ブロック選択線BS1からBS4はLとなっている。更に、スペアプレート線SPL1からSPL4はL、スペアワード線SWL1からSWL10はH、スペアブロック選択線SBS1からSBS4はLとなっている。
本実施形態では、第1のワード線WL1に不良が発生した場合、第1のワード線WL1を第1のスペアワード線SWL1に置き換える。具体的には、WL1を選択するアドレス信号が入力されると、WL1の代わりにSWL1がLとなり、PL1又はPL2の代わりにSPL1又はSPL3が活性化され、BS1又はBS3の代わりにSBS1又はSBS3が活性化され、BL1及びBL3がセンスアンプ131に接続される。これにより、ユニットU1又はU9がユニットUX1又はUX11に置き換えられる。
また、第2,第3のワード線WL2,WL3に不良が発生した場合も同様に、第2,第3のワード線WL2,WL3を第2,第3のスペアワード線SWL2,SWL3に置き換える。具体的には、WL2又はWL3を選択するアドレス信号が入力されると、WL2又はWL3の代わりにSWL2又はSWL3がLとなり、PL1又はPL2の代わりにSPL1又はSPL3が活性化され、BS1又はBS3の代わりにSBS1又はSBS3が活性化され、BL1及びBL3がセンスアンプ131に接続される。これにより、ユニットU2,U3,U10,又はU11がユニットUX2,UX3,UX12,又はUX13に置き換えられる。
第4,第5のワード線WL4,WL5に不良が発生した場合には、活性化するプレート線によって、選択するスペアワード線が異なる。
アクセス対象のユニットがU4又はU5の場合には、第1のプレート線PL1が活性化対象となる。この場合、第4,第5のワード線WL4,WL5は第6,第7のスペアワード線SWL6,SWL7に置き換えられる。具体的には、WL4又はWL5が選択対象で、PL1が活性化対象の場合、WL4又はWL5の代わりにSWL6又はSWL7がLとなり、PL1の代わりにSPL2が活性化され、BS2の代わりにSBS2が活性化され、BL2及びBL4がセンスアンプ131に接続される。これにより、ユニットU4又はU5がユニットUX6又はUX7に置き換えられる。
また、アクセス対象のユニットがU12又はU13の場合には、第2のプレート線PL2が活性化対象となる。この場合、第4,第5のワード線WL4,WL5は第4,第5のスペアワード線SWL4,SWL5に置き換えられる。具体的には、WL4又はWL5が選択対象で、PL2が活性化対象の場合、WL4又はWL5の代わりにSWL4又はSWL5がLとなり、PL2の代わりにSPL3が活性化され、BS3の代わりにSBS3が活性化され、BL1及びBL3がセンスアンプ131に接続される。これにより、ユニットU12又はU13がユニットUX14又はUX15に置き換えられる。
第6〜第8のワード線WL6〜WL8に不良が発生した場合には、第6〜第8のワード線WL6〜WL8を第8〜第10のスペアワード線SWL8〜SWL10に置き換える。具体的には、WL6、WL7、又はWL8を選択するアドレス信号が入力されると、WL6、WL7、又はWL8の代わりにSWL8、SWL9、又はSWL10がLとなり、PL1又はPL2の代わりにSPL2又はSPL4が活性化され、BS2又はBS4の代わりにSBS2又はSBS4が活性化され、BL2及びBL4がセンスアンプ131に接続される。これにより、ユニットU6〜U8又はU14〜U16がユニットUX11〜UX15又はUX18〜UX20に置き換えられる。
また、第1,第2のプレート線PL1,PL2に不良が発生した場合には、上記のようにWL1〜WL7がSWL1〜SWL10に置き換えられる。また、第1のブロック選択線BS1に不良が発生した場合には、上記のようにWL1〜WL3がSWL1〜SWL3に置き換えられる。また、第2のブロック選択線BS2に不良が発生した場合には、上記のようにWL4〜WL8がSWL6〜SWL10に置き換えられる。また、第3のブロック選択線BS3に不良が発生した場合には、上記のようにWL1〜WL5がSWL1〜SWL5に置き換えられる。また、第4のブロック選択線BS4に不良が発生した場合には、上記のようにWL6〜WL8がSWL8〜SWL10に置き換えられる。
本実施形態では、以上のような置き換え規則により、強誘電体メモリ101の冗長救済が行われる。当該置き換え規則を、図4の表に示す。例えば、不良ワード線がWL1、アクセス対象のユニットがU1、活性化対象のプレート線がPL1の場合には、代替ユニットはUX1、代替スペアワード線はSWL1、代替スペアプレート線はSPL1となる。なお、不良ワード線がWL4又はWL5の場合には、矢印Xで示すように、活性化対象のプレート線によって、代替スペアワード線が異なる。
なお、本実施形態では例えば、WL1,WL2をそれぞれSWL1,SWL2に置き換えているが、WL1,WL2をそれぞれSWL2,SWL1に置き換えるようにしてもよい。このように、本実施形態では、ワード線とスペアワード線との組み合わせは、任意に設定することができる。
また、本実施形態では例えば、2本のスペアワード線SWL4,SWL6を1本のスペアワード線にまとめてもよい。同様に、2本のスペアワード線SWL5,SWL7を1本のスペアワード線にまとめてもよい。このように、本実施形態では、一のスペアワード線と他のスペアワード線とが、共にダミーセルに接続され、且つ、異なるスペアブロックに接続されている場合、これらを1本のスペアワード線にまとめることができる。
また、本実施形態では、1本のワード線に不良が存在する場合に、このワード線を含む2のk乗本(kは正の整数)のワード線を、2のk乗本のスペアワード線とまとめて置き換えるようにしてもよい。例えば、WL1及びWL2のいずれかに不良が存在する場合に、WL1及びWL2を、SWL1及びSWL2とまとめて置き換えるようにしてもよい。また、WL1〜WL4のいずれかに不良が存在する場合に、WL1〜WL4を、SWL1〜SWL4とまとめて置き換えるようにしてもよい。
このような2k対2kの置き換えには例えば、アドレス比較器122(図1)による比較処理を簡易化できるという利点がある。この利点について、WL1〜WL4からSWL1〜SWL4への4:4の置き換えを例として説明する。
この例では、WL1〜WL4のアドレスはそれぞれ、「****00」「****01」「****10」「****11」であると想定する。但し、アドレス信号はNビット信号(Nは正の整数)であるとし、「00」「01」「10」「11」はアドレス信号の下位2ビットを表し、「****」はアドレス信号の上位N−2ビットを表すとする。
上記比較処理では、アドレス信号と不良アドレス信号とが比較される。ここで、この例では、WL1〜WL4のいずれかに不良が存在すると想定する。よって、この例では、アドレス信号が「****00」「****01」「****10」「****11」のいずれかであれば、WL1〜WL4がSWL1〜SWL4に置き換えられる。すなわち、アドレス信号の上位N−2ビットが「****」であれば、WL1〜WL4がSWL1〜SWL4に置き換えられる。
このことから、上記比較処理では、Nビットのアドレス信号とNビットの不良アドレス信号とを比較する必要はなく、アドレス信号の上位N−2ビットと不良アドレス信号の上位N−2ビットとを比較すれば十分であることが解る。よって、この例では、Nビットの比較処理に代えて、N−2ビットの比較処理を採用することが可能である。N−2ビットの比較処理を採用すれば、Nビットの比較処理に比べて処理が簡単で済む。更には、不揮発性メモリ121(図1)に記憶する不良アドレス信号を、Nビット信号ではなくN−2ビット信号としてもよいため、これによりメモリの節約が可能になる。
このように、4対4の置き換えを採用する場合には、アドレスの下位2ビットが共通の4本のワード線を一組のワード線群として取り扱うことで、比較処理の簡易化を実現することができる。また、2k対2kの置き換えを採用する場合には、アドレスの下位kビットが共通の2k本のワード線を一組のワード線群として取り扱うことで、比較処理の簡易化を実現することができる。
上述のように、本実施形態では、N1+N2=N3+N4=8となっており、第1及び第2のブロックB1及びB2のユニット総数N1+N2は、第3及び第4のブロックB3及びB4のユニット総数N3+N4と等しくなっている。しかしながら、N1+N2やN3+N4の値は、8以外の値でも構わない。
本実施形態では例えば、N1+N2及びN3+N4の値を、2のn乗個(nは正の整数)としてもよい。即ち、N1+N2=N3+N4=2nとしてもよい。これには例えば、2k対2kの置き換えを採用する場合に、第1〜第4のブロックB1〜B4用のワード線を、余りなくワード線群に分けられるという利点がある。
以上のように、本実施形態では、上述の第1から第4のブロックB1〜B4の冗長救済にそれぞれ、上述の第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4を使用する。これにより、本実施形態によれば、ユニット数の異なるブロックが混在する強誘電体メモリの冗長救済を取り扱う場合にも、冗長救済の効率を維持することが可能になる。
以下、第2から第4実施形態の強誘電体メモリ101について説明する。これらの実施形態は、第1実施形態の変形例であり、これらの実施形態については、第1実施形態との相違点を中心に説明する。
(第2実施形態)
図5は、第2実施形態の第1のメモリセルアレイ111Aの回路構成を表す。図5の回路構成は、図2の回路構成の変形例である。なお、図1の回路図は、第1実施形態と第2実施形態とで共通である。
図5では、第1から第4のブロックB1〜B4がそれぞれ、5個,3個,3個,5個のユニット201を有している。これに伴い、第1のプレート線PL1は、第5のワード線WL5と第6のワード線WL6との間に位置しており、第2のプレート線PL2は、第3のワード線WL3と第4のワード線WL4との間に位置している。
このように、各ブロックのユニット数や各プレート線の配置は、第1実施形態におけるユニット数や配置のみに限定されるものではなく、例えば第2実施形態のようなユニット数や配置も採用可能である。
図6は、第2実施形態の第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBの回路構成を表す。図6の回路構成は、図3の回路構成の変形例である。
図6では、図5の回路構成に対応して、第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4がそれぞれ、5個,3個,3個,5個のユニット201を有している。図6では、ユニットUX6,UX7,UX14,UX15がダミーセルとなっている。
図6では更に、図5の回路構成に対応して、第1のスペアプレート線SPL1が、第5のスペアワード線SWL5の右側に位置しており、第2のスペアプレート線SPL2が、第7のスペアワード線SWL7と第8のスペアワード線SWL8との間に位置している。
図6では更に、図5の回路構成に対応して、第3のスペアプレート線SPL3が、第3のスペアワード線SWL3と第4のスペアワード線SWL4との間に位置しており、第4のスペアプレート線SPL4が、第6のスペアワード線SWL6の左側に位置している。
第2実施形態における冗長救済の方法は、第1実施形態のそれと同様である。第2実施形態における冗長救済の規則を、図7の表に示す。図4の表と図7の表とを比較すると、不良ワード線がWL4,WL5の場合の代替ユニットと代替スペアプレート線とが異なっていることが解る。
以上のように、本実施形態では、第1実施形態と同様に、1つのメモリセルアレイに、5個のユニットを有するブロックと3個のユニットを有するブロックとが混在している。にもかかわらず、本実施形態でもまた、第1から第4のブロックB1〜B4の冗長救済にそれぞれ第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4が使用されることで、各スペアセルアレイの1行ごとのユニット数が、最大で5個という少数で済んでいる。このように、本実施形態によれば、第1実施形態と同様に、ユニット数の異なるブロックが混在する強誘電体メモリの冗長救済を取り扱う場合にも、冗長救済の効率を維持することができ、これによりLSIの歩留りを改善することができる。
なお、本実施形態では、図1の第1のメモリセルアレイ111Aとして図2の回路構成を採用すると共に、図1の第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBとして図6の回路構成を採用することも可能である。即ち、メモリセルには第1実施形態の構成を採用して、スペアセルには第2実施形態の構成を採用してもよい。この場合の冗長救済の規則としては、図4の規則が採用可能である。
また、本実施形態では、図1の第1のメモリセルアレイ111Aとして図5の回路構成を採用すると共に、図1の第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBとして図3の回路構成を採用することも可能である。即ち、メモリセルには第2実施形態の構成を採用して、スペアセルには第1実施形態の構成を採用してもよい。この場合の冗長救済の規則としては、図7の規則が採用可能である。
(第3実施形態)
図8は、第3実施形態の第1のメモリセルアレイ111Aの回路構成を表す。図8の回路構成は、図2の回路構成の変形例である。なお、図1の回路図は、第1実施形態と第3実施形態とで共通である。
図8では、第1から第4のブロックB1〜B4がそれぞれ、2個,6個,6個,2個のユニット201を有している。これに伴い、第1のプレート線PL1は、第2のワード線WL2と第3のワード線WL3との間に位置しており、第2のプレート線PL2は、第6のワード線WL6と第7のワード線WL7との間に位置している。
図8のように、第3実施形態では、第1のメモリセルアレイ111Aに、6個のユニットを有するブロックと2個のユニットを有するブロックとが混在している。このように、1つのメモリセルアレイに混在するブロックの組み合わせは、第1実施形態における組み合わせのみに限定されるものではなく、例えば第3実施形態のような組み合わせも採用可能である。
図9は、第3実施形態の第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBの回路構成を表す。図9の回路構成は、図3の回路構成の変形例である。
図9では、図8の回路構成に対応して、第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4がそれぞれ、2個,6個,6個,2個のユニット201を有している。第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBはそれぞれ、12個のユニット201を有している。図9では、ユニットUX3〜UX6,UX19〜UX22がダミーセルとなっている。
図9では更に、第1のスペアプレート線SPL1が、第6のスペアワード線SWL6の右側に位置しており、第2のスペアプレート線SPL2が、第10のスペアワード線SWL10と第11のスペアワード線SWL11との間に位置している。
図9では更に、第3のスペアプレート線SPL3が、第2のスペアワード線SWL2と第3のスペアワード線SWL3との間に位置しており、第4のスペアプレート線SPL4が、第7のスペアワード線SWL7の左側に位置している。
なお、本実施形態の強誘電体メモリ101は、第2実施形態で示した変形例でいえば、メモリセルに第1実施形態の構成を採用し、スペアセルに第2実施形態の構成を採用したような回路構成を有している。そのため、図9では、図3や図6とは異なり、スペアブロックの端部の位置と、スペアプレート線が配置された位置とにずれが見られる。
なお、第3実施形態における冗長救済は、第1及び第2実施形態のそれらと同様に実行可能である。
以上のように、本実施形態では、1つのメモリセルアレイに、6個のユニットを有するブロックと2個のユニットを有するブロックとが混在している。にもかかわらず、本実施形態では、第1から第4のブロックB1〜B4の冗長救済にそれぞれ第1から第4のスペアブロックSB1〜SB4が使用されることで、各スペアセルアレイの1行ごとのユニット数が、最大で6個という少数で済んでいる。このように、本実施形態によれば、第1及び第2実施形態と同様に、ユニット数の異なるブロックが混在する強誘電体メモリの冗長救済を取り扱う場合にも、冗長救済の効率を維持することができ、これによりLSIの歩留りを改善することができる。
(第4実施形態)
図10は、第4実施形態の第1及び第2のスペアセルアレイ112A及びBの回路構成を表す。図10の回路構成は、図3の回路構成の変形例である。なお、図1の回路図は、第1実施形態と第4実施形態とで共通である。
図10には、48個のユニットUX1〜UX48と、第1〜第8のスペアブロックSB1〜SB8とが示されている。
第1〜第4のスペアブロックSB1〜SB4はそれぞれ、2個,6個,6個,2個のユニット201を有している。SB1の右側にはダミーセルUX3〜UX6が設けられ、SB4の左側にはダミーセルUX19〜UX22が設けられている。このように、図10の第1〜第4のスペアブロックSB1〜SB4は、図9の第1〜第4のスペアブロックSB1〜SB4と同一の構成を有している。
また、第5〜第8のスペアブロックSB5〜SB8はそれぞれ、5個,3個,3個,5個のユニット201を有している。SB5の右側にはダミーセルUX30が設けられ、SB6の左側にはダミーセルUX31〜UX39が設けられている。更に、SB7の右側にはダミーセルUX40〜UX42が設けられ、SB8の左側にはダミーセルUX43が設けられている。このように、図10の第5〜第8のスペアブロックSB5〜SB8は、図6の第1〜第4のスペアブロックSB1〜SB4と同一の構成を有している。但し、図10のSB5〜SB8にはそれぞれ、図6のSB1〜SB4に比べて、1個多くのダミーセルが接続されている。
このように、図10の回路構成は、図9の回路構成と図6の回路構成とを組み合わせたような構成となっている。このような構成は例えば、第1のメモリセルアレイ111Aの回路構成が、図8の回路構成と図5の回路構成とを組み合わせたような構成である場合に採用される。
図10の回路の動作時には、SB1及びSB2,SB3及びSB4,SB5及びSB6,SB7及びSB8のいずれかの組が活性化される。活性化されない組については、そのビット線の待機状態が維持されるか、そのビット線が参照ビット線として使用される。
以上のように、本実施形態によれば、ユニット数の異なる3種類以上のブロックが混在する強誘電体メモリの冗長救済を取り扱う場合にも、冗長救済の効率を維持することが可能になる。例えば図10においては、4種類のブロックが混在しているにもかかわらず、各スペアセルアレイの1行ごとのユニット数は、最大で6個という少数で済んでいる。
以上、本発明の具体的な態様の例を、第1から第4実施形態により説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されるものではない。
第1実施形態の強誘電体メモリの回路構成を表す模式図である。 第1実施形態の第1のメモリセルアレイの回路構成を表す。 第1実施形態の第1及び第2のスペアセルアレイの回路構成を表す。 第1実施形態における冗長救済の規則を示した表である。 第2実施形態の第1のメモリセルアレイの回路構成を表す。 第2実施形態の第1及び第2のスペアセルアレイの回路構成を表す。 第2実施形態における冗長救済の規則を示した表である。 第3実施形態の第1のメモリセルアレイの回路構成を表す。 第3実施形態の第1及び第2のスペアセルアレイの回路構成を表す。 第4実施形態の第1及び第2のスペアセルアレイの回路構成を表す。
符号の説明
101 強誘電体メモリ
111 メモリセルアレイ
112 スペアセルアレイ
121 不揮発性メモリ
122 アドレス比較器
123 ライン駆動回路
124 スペアライン駆動回路
125 スペアライン制御回路
131 センスアンプ
201 ユニット
211 強誘電体キャパシタ
212 トランジスタ

Claims (5)

  1. 強誘電体キャパシタとトランジスタとが並列接続されたユニットを複数備える強誘電体メモリであって、
    第1及び第2のメモリセルアレイと、
    前記第1及び第2のメモリセルアレイ内にそれぞれ配置された第1及び第2のビット線と、
    前記第1のビット線に接続され、それぞれN1個及びN2個(N1及びN2は正の整数)のユニットを有する第1及び第2のブロックと、
    前記第1のメモリセルアレイ内に配置され、前記第1及び第2のブロックに共通に接続されている第1のプレート線と、
    前記第1及び第2のメモリセルアレイ内にそれぞれ配置された第3及び第4のビット線と、
    前記第3のビット線に接続され、それぞれN3個及びN4個(N3及びN4は正の整数)のユニットを有する第3及び第4のブロックと、
    前記第1のメモリセルアレイ内に配置され、前記第3及び第4のブロックに共通に接続されている第2のプレート線と、
    前記第1のビット線に接続され、少なくともN1個のユニットを有し、前記第1のブロックの救済用に使用される第1の冗長ブロックと、
    前記第2のビット線に接続され、少なくともN2個のユニットを有し、前記第2のブロックの救済用に使用される第2の冗長ブロックと、
    前記第3のビット線に接続され、少なくともN3個のユニットを有し、前記第3のブロックの救済用に使用される第3の冗長ブロックと、
    前記第4のビット線に接続され、少なくともN4個のユニットを有し、前記第4のブロックの救済用に使用される第4の冗長ブロックと、
    前記第1から第4の冗長ブロックにそれぞれ接続された第1から第4の冗長プレート線と、
    前記第1及び第2のビット線のいずれかと選択的に接続可能、且つ、前記第3及び第4のビット線のいずれかと選択的に接続可能なセンスアンプと、
    を備えることを特徴とする強誘電体メモリ。
  2. 前記第1及び第2のブロックに含まれるユニットの総数N1+N2は、前記第3及び第4のブロックに含まれるユニットの総数N3+N4に等しいことを特徴とする請求項1に記載の強誘電体メモリ。
  3. 前記第1のブロックに含まれるユニットの個数N1は、前記第3のブロックに含まれるユニットの個数N3と異なっており、
    前記第2のブロックに含まれるユニットの個数N2は、前記第4のブロックに含まれるユニットの個数N4と異なっていることを特徴とする請求項2に記載の強誘電体メモリ。
  4. 前記第1及び第2のブロックに含まれるユニットの総数N1+N2は、2のn乗個(nは正の整数)であることを特徴とする請求項2又は3に記載の強誘電体メモリ。
  5. 前記第1のメモリセルアレイに配置された1本のワード線に不良が存在する場合、前記ワード線を含む2のk乗本(kは正の整数)のワード線を、2のk乗本の冗長ワード線と置き換えることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の強誘電体メモリ。
JP2008289712A 2008-11-12 2008-11-12 強誘電体メモリ Expired - Fee Related JP5123140B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008289712A JP5123140B2 (ja) 2008-11-12 2008-11-12 強誘電体メモリ
US12/562,951 US8085573B2 (en) 2008-11-12 2009-09-18 Ferroelectric memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008289712A JP5123140B2 (ja) 2008-11-12 2008-11-12 強誘電体メモリ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010118105A JP2010118105A (ja) 2010-05-27
JP5123140B2 true JP5123140B2 (ja) 2013-01-16

Family

ID=42165063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008289712A Expired - Fee Related JP5123140B2 (ja) 2008-11-12 2008-11-12 強誘電体メモリ

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8085573B2 (ja)
JP (1) JP5123140B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5060413B2 (ja) * 2008-07-15 2012-10-31 株式会社東芝 半導体記憶装置
US10083973B1 (en) 2017-08-09 2018-09-25 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for reading memory cells
US11429769B1 (en) * 2020-10-30 2022-08-30 Xilinx, Inc. Implementing a hardware description language memory using heterogeneous memory primitives

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3557019B2 (ja) 1995-11-17 2004-08-25 株式会社東芝 半導体記憶装置
US6320782B1 (en) * 1996-06-10 2001-11-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device and various systems mounting them
US5969908A (en) * 1997-05-30 1999-10-19 Iomega Corporation In-rigger of a carriage assembly that prevents rotation of the carriage assembly
JPH10334694A (ja) 1997-05-30 1998-12-18 Toshiba Corp 半導体記憶装置
KR100364791B1 (ko) * 1999-09-15 2002-12-16 주식회사 하이닉스반도체 로우 리던던시 회로를 구비한 비휘발성 강유전체 메모리 장치 및 그의 페일 어드레스 구제방법
TW546664B (en) * 2001-01-17 2003-08-11 Toshiba Corp Semiconductor storage device formed to optimize test technique and redundancy technology
US6856560B2 (en) * 2002-04-26 2005-02-15 Infineon Technologies Aktiengesellschaft Redundancy in series grouped memory architecture
US6822891B1 (en) * 2003-06-16 2004-11-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Ferroelectric memory device
JP3940730B2 (ja) * 2004-04-16 2007-07-04 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP2007066448A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Toshiba Corp 強誘電体半導体記憶装置
JP4901515B2 (ja) * 2007-02-07 2012-03-21 株式会社東芝 強誘電体半導体記憶装置
JP2009043307A (ja) * 2007-08-06 2009-02-26 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP5060413B2 (ja) * 2008-07-15 2012-10-31 株式会社東芝 半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20100118586A1 (en) 2010-05-13
US8085573B2 (en) 2011-12-27
JP2010118105A (ja) 2010-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101167139B (zh) 用于在存储器阵列中并入区块冗余的方法和设备
JP3892678B2 (ja) 半導体記憶装置
US7613056B2 (en) Semiconductor memory device
JP2009104757A (ja) 半導体記憶装置
US20080235557A1 (en) Semiconductor memory device
JP2006085775A (ja) メモリ装置
JP2004039098A (ja) 半導体記憶装置
CN100561597C (zh) 半导体存储器件和半导体存储器件的测试方法
JP2010027192A (ja) メモリの補修回路とそれを使用する疑似デュアルポートsram
US7848164B2 (en) Semiconductor memory device having redundancy memory block and cell array structure thereof
KR101564848B1 (ko) 공유 판독 및 기록 회로들을 가진 타일들을 포함하는 메모리 장치
JP2002063798A5 (ja)
JP5123140B2 (ja) 強誘電体メモリ
KR100633595B1 (ko) 반도체 메모리 장치 및 그 구동 방법
JP4847048B2 (ja) ツイストビットライン構造を有するメモリ装置の冗長回路及び不良セルの救済方法
US8310888B2 (en) Repair fuse device
KR100633426B1 (ko) 메모리용 플렉시블 리던던시
US11200962B2 (en) Memory devices having spare column remap storages and methods of remapping column addresses in the memory devices
KR20080063874A (ko) 반도체 메모리 소자
JP2509343B2 (ja) 半導体メモリ装置
KR100372207B1 (ko) 반도체 메모리 장치
JP2007335821A (ja) 半導体記憶装置
US20070038805A1 (en) High granularity redundancy for ferroelectric memories
KR100772092B1 (ko) 반도체 메모리 장치
JP3556477B2 (ja) 半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110317

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120928

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121025

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees