JP5120541B2 - 製塩用陽イオン交換膜およびその製造方法 - Google Patents
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Description
(1) エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムに電離放射線を照射することにより、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体にラジカルを発生させた後、陽イオン交換基を導入可能な官能基を有する重合性単量体(モノマー)、及び架橋性単量体(架橋剤)を含有する重合性混合物中でグラフト重合をおこなうことにより得られた製塩用陽イオン交換膜。
(2) 前記陽イオン交換基を導入可能な官能基自体が陽イオン交換基でない場合には、グラフト重合後に、陽イオン交換基を付与できる化合物で処理したものである前記(1)記載の製塩用陽イオン交換膜。
(3) 前記陽イオン交換基を導入可能な官能基自体が、陽イオン交換基である前記(1)記載の製塩用陽イオン交換膜。
(4) エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムに電離放射線を照射することにより、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体にラジカルを発生させた後、陽イオン交換基を導入可能な官能基を有する重合性単量体(モノマー)、及び架橋性単量体(架橋剤)を含有する重合性混合物中でグラフト重合をおこなう製塩用陽イオン交換膜の製造方法。
(1)エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体に電離放射線を照射することにより、ラジカルを発生させた後、陽イオン交換基を導入可能な官能基を有する重合性単量体(モノマー)、架橋性単量体(架橋剤)、及び膨潤溶媒を主たる成分とする重合性混合物中でグラフト重合をおこない、必要に応じてクロロスルホン酸等を用いてスルホン酸基を導入する陽イオン交換膜製造方法である。
(2)前記(1)に記載の方法で得た陽イオン交換膜である。
本発明で使用できる、高分子フィルム基材としては、得られるイオン交換膜の耐久性が向上し、膨潤性も抑制されるエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムを使用することができ、厚みが20〜100μmのものを用いるのが好ましい。
基材の形態は、製塩用のイオン交換膜としての利用面からの要請から、膜(フィルム)の形態であって、その大きさ、厚さは適宜決定することができる。
本発明にかかるエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムとしては、例えば旭硝子株式会社製アフレックス1250NT(製品名)などが挙げられる。
(1)スルホン酸基が導入されやすい芳香族環を有する単量体。例えば、スチレン、ビニルトルエン等。
(2)カルボン酸基、またはニトリル基を有する単量体。例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル等。
本発明において使用することができる架橋性単量体(架橋剤)としては、以下に列記するが、これらに限定されるものではない。
(3)架橋構造を導入できる単量体(架橋性単量体)。すなわちビニル基を少なくとも2個有するもの。例えばジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルナフタレン、エチレングリコールジメタクリレート等。
架橋性単量体の使用割合は、重合性混合物中の総単量体量に対して10重量%以下、好ましくは3重量%以下である。
まず、基材に電離放射線の一つである電子線を、−10〜50℃、好ましくは室温付近で、5〜100kGy照射する。電離放射線照射からグラフト重合までの間に、空間的あるいは時間的差異が大きい場合には、基材を酸素不透過性ポリ袋中に挿入後、この袋内を窒素置換等により酸素を除去する。次いでこの基材を含む袋に電離放射線を照射する。照射後の基材を酸素不透過性ポリ袋に封入のままドライアイス充填箱による輸送や冷凍庫保存を行うことにより、電離放射線照射からグラフト重合までの空間的あるいは時間的差異による、電離放射線照射により発生したラジカルの消滅を抑制することができる。次いで、照射済み基材を大気中で取り出し、ガラス容器に移し替えた後、容器内にモノマー液またはモノマー混合溶液(溶媒希釈液)を充填する。モノマー液またはモノマー混合溶液は、酸素の存在しない不活性ガスによるバブリングや凍結脱気などで予め酸素ガスを除いたものを使用する。照射済み基材にポリマーのグラフト鎖を導入するためのグラフト重合は、通常、室温〜80℃、好ましくは、40〜70℃で実施する。
膜厚50μmのエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムを酸素不透過性ポリ袋中に挿入後、この袋内を窒素置換し、袋内の酸素を除去する。次いでこの基材を含む袋に電子線を25℃、加速電圧250keV、電子線電流10mAで、25kGy照射した。次いで、照射済み基材を大気中で取り出し、ガラス容器に移し替えた後、高純度窒素によりバブリングし、予め酸素ガスを除いた重合性混合物を充填した。重合性混合物は単量体として重合性単量体であるスチレンおよび架橋性単量体であるジビニルベンゼンを含むシクロヘキサン溶液であり、溶液中における総単量体濃度は75重量%とし、総単量体中における架橋性単量体割合は3重量%に調整した。充填後、50℃で120分グラフト重合した後、膜をガラス容器より取り出し、アセトン、メタノールの順で洗浄し、真空乾燥して重量を測定した。グラフト率は105%であった。
表1に示したとおり本発明に従って製造したいずれの膜についても、市販されている製塩用陽イオン交換膜と比較し、高い破裂強度を示した。
また、膜抵抗も市販膜とほぼ同等か、それより低い値を示した。
さらに、図1に示したとおり、本発明に従って製造したいずれの陽イオン交換膜についても、市販されている陽イオン交換膜と比較し同等以上の濃縮性能を示した。なお、図1中に示した直線は、市販イオン交換膜と同等の濃縮性能を示す直線であり、直線より上部に示される膜性能はすべて市販膜より高い濃縮性能であるといえる。
Claims (4)
- エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムに電離放射線を照射し、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体にラジカルを発生させた後、陽イオン交換基を導入可能な官能基を有する重合性単量体、及び架橋性単量体を含有する重合性混合物中でグラフト重合を行うことにより得られた製塩用陽イオン交換膜。
- 前記陽イオン交換基を導入可能な官能基自体が陽イオン交換基でない場合には、グラフト重合後に、陽イオン交換基を付与できる化合物で処理することを特徴とする請求項1記載の製塩用陽イオン交換膜。
- 前記陽イオン交換基を導入可能な官能基自体が、陽イオン交換基であることを特徴とする請求項1記載の製塩用陽イオン交換膜。
- エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムに電離放射線を照射することにより、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体にラジカルを発生させた後、陽イオン交換基を導入可能な官能基を有する重合性単量体、及び架橋性単量体を含有する重合性混合物中でグラフト重合を行うことを特徴とする製塩用陽イオン交換膜の製造方法。
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