JP5118689B2 - マグネシウム蒸着のためのマグネシウム−銅組成物の使用 - Google Patents
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Description
マグネシウムの蒸着は、純金属をソースとして行うことがあるが、これにはいくつかの欠点がある。実際、金属マグネシウムは、大気や湿気に対して非常に反応性が高い。マグネシウムが空気に晒されると、表面に酸化物、水酸化物または炭酸塩が形成されるため、蒸発させた素子の再生率が低下し、酸素や炭素によって蒸着物が汚染されてしまう。このため、純粋なマグネシウムは、管理された空気の中で取り扱う必要があり、これが運搬、貯蔵、及び、使用前の準備に係る操作を複雑なものにしている。従って、マグネシウムを純金属の形態で使用するのではなく、室温で空気に対して安定な組成物の形態で使用するのが好ましい。
ここで、図1は、本発明のマグネシウムディスペンサーの可能な実施形態を示している。
図2は、本発明のマグネシウムディスペンサーの他の可能な実施形態を断面図で示している。
図3は、本発明の組成物を用いて得られたマグネシウムの蒸着特性を示している。
図4は、従来の組成物を用いて得られたマグネシウムの蒸着特性を示している。
図5は、本発明の組成物及び従来の組成物を用いて得られたマグネシウムの蒸着特性の比較を示している。
本発明に係る使用のための組成物は、19.8gのマグネシウムチップと30.2gの銅粉末との混合物を、酸化アルミニウムのるつぼ内へ入れ、次いでこのるつぼを600hPaのアルゴン雰囲気下で誘導加熱式オーブン内へ入れる。続いて、このオーブンを混合物の溶融が始まるまで加熱し(溶融結果は、オーブの窓から観察される)、当該温度を5分間保つ。次いで、溶融物を室温まで冷まし、最後に得られたインゴットを圧搾式ミルでで削る。このようにして得られた粉末をふるいにかけ、粒径が128μm未満のものを回収する。この粉末のマグネシウム量は、39.6質量%である。この粉末15.8gを図2に示すような、外形28.4mm且つ長さ10cmで、2つの円形状の開口部(図2の開口部23)が形成された容器と、内径36mm且つ長さ10cmの保護部とを備えたディスペンサー内に設ける。
実施例1で示した試験を繰り返すが、この場合は、41.3gのマグネシウムチップと32.4gのアルミニウム粉末との混合物を溶融し、圧搾後にマグネシウムを56.04質量%、及び、アルミニウムを43.96質量%含む組成物を得る。ディスペンサーには、この組成物の粉末を9.06g設けられている。実施例1で用いたチャンバー内にこのディスペンサーを設け、同様の実験準備を行うが、この場合、蒸着成長率が不連続であってしばしば飛躍するため、蒸着成長率によって管理された帰還電流に基づいて全自動的に試験を管理することはできない。その結果、蒸着試験は、供給電流を手動で調整することで行われる。実施例2においても、試験は、25時間後に中断する。本蒸着試験の結果を図4に示す。DR2曲線はマグネシウム蒸着成長率を示す。一方、C2曲線は当該試験における電流の変化を示している。試験の最後に、ガラス上に形成された蒸着物をICPによってマグネシウムの存在のみを示す化学分析を行う。分析によれば、マグネシウム蒸着物が0.2質量%のアルミニウムを含んでいた。
他のマグネシウム蒸着試験を本発明に係る組成物を用いて行った。この場合、上部が開口し、窒化ホウ素で形成されたるつぼ(R. D. Mathis社のCH12シリーズのヒーター内にC5シリーズのるつぼが嵌め込まれている)を用いる。るつぼには、実施例1で用いたマグネシウム−銅組成物を9g設けておく。本試験は、実施例1と同様のチャンバー内で行った。マグネシウムの蒸着率を図5にDR3曲線で示す(C3曲線は当該試験における電流の変化を示している)。
実施例3の試験を繰り返すが、組成物として、実施例2で用いたマグネシウム−アルミニウム組成物の粉末を9g使用する。マグネシウムの蒸着率を図5にDR4曲線で示す(C4曲線は当該試験における電流の変化を示している)。この場合も、蒸着成長率が不連続であってしばしば飛躍するため、蒸着成長率によって管理された帰還電流に基づいて全自動的に試験を管理することはできない。その結果、蒸着試験は、供給電流を手動で調整することで行われる。また、試験は、30時間後に中断する。
図3のDR1曲線及び図5のDR3曲線で示されるように、安定した操作に到達するために、システムを初めに約1時間初期操作した後、マグネシウム−銅組成物の蒸着が一定の割合となるように管理されている。このように、マグネシウム蒸着物が一定の割合の成長率となるように全自動的に管理することが可能となる。さらに、実施例1によれば、得られるマグネシウム蒸着物には不純物が含まれない。逆に、図4のDR2曲線及び図5のDR4曲線によれば、従来のマグネシウム−アルミニウム組成物を用いると蒸着の管理性が低下する。このため、金属成長率の所定の割合について自動操作が不可能となる。実施例2もまた、蒸着物がアルミニウムを含み、その純度が低下している。
11 上部
12 下部
13,13’ 開口部
14 粉末状組成物
15,15’ 延長端
21 容器
22 保護部
23,24 開口部
25 マグネシウム−銅組成物
26 外側壁
27 要素
28 断熱スペーサ
Claims (8)
- マグネシウム蒸着のためのマグネシウム−銅組成物の使用であって、
前記組成物のマグネシウム含有量が43.34質量%以下であり、
前記組成物が粉末状であるマグネシウム−銅組成物の使用。 - 前記組成物が少なくとも10質量%のマグネシウムを含有する請求項1に記載のマグネシウム−銅組成物の使用。
- 前記組成物がMg2Cuである請求項2に記載のマグネシウム−銅組成物の使用。
- 前記組成物がMgCu2である請求項2に記載のマグネシウム−銅組成物の使用。
- 前記粉末がピル状である請求項1に記載のマグネシウム−銅組成物の使用。
- 前記粉末の粒径が1mm未満である請求項1に記載のマグネシウム−銅組成物の使用。
- 前記粉末の粒径が500μm未満である請求項6に記載のマグネシウム−銅組成物の使用。
- 前記粉末の粒径が10〜128μmである請求項7に記載のマグネシウム−銅組成物の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT000444A ITMI20060444A1 (it) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | Uso di composizioni magnesio-rame per l'evaporazione di magnesio e dispensatori di magnesio |
ITMI2006A000444 | 2006-03-13 | ||
PCT/IT2007/000181 WO2007105252A1 (en) | 2006-03-13 | 2007-03-12 | Use of magnesium-copper compositions for the evaporation of magnesium and magnesium dispensers |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009530491A JP2009530491A (ja) | 2009-08-27 |
JP5118689B2 true JP5118689B2 (ja) | 2013-01-16 |
Family
ID=39877970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009500007A Active JP5118689B2 (ja) | 2006-03-13 | 2007-03-12 | マグネシウム蒸着のためのマグネシウム−銅組成物の使用 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8029597B2 (ja) |
EP (1) | EP1996743B1 (ja) |
JP (1) | JP5118689B2 (ja) |
KR (1) | KR101382538B1 (ja) |
CN (1) | CN101448970B (ja) |
AT (1) | ATE467697T1 (ja) |
DE (1) | DE602007006443D1 (ja) |
ES (1) | ES2343337T3 (ja) |
IT (1) | ITMI20060444A1 (ja) |
TW (1) | TWI397594B (ja) |
WO (1) | WO2007105252A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITMI20112051A1 (it) * | 2011-11-11 | 2013-05-12 | Getters Spa | Composizione organico-inorganica per il rilascio in fase vapore di metalli alcalini ed alcalino-terrosi |
KR102056100B1 (ko) * | 2016-04-01 | 2019-12-17 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅 방법 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1182150A (en) * | 1966-12-13 | 1970-02-25 | Getters Spa | Alkali Metal Vapour Dispensers. |
NL6913692A (ja) | 1968-09-13 | 1970-03-17 | ||
NL6913693A (ja) | 1968-09-13 | 1970-03-17 | ||
US3663121A (en) | 1969-05-24 | 1972-05-16 | Getters Spa | Generation of metal vapors |
US4233936A (en) | 1979-05-08 | 1980-11-18 | Rca Corporation | Alkali metal dispenser |
FR2611746B1 (fr) * | 1987-03-06 | 1989-06-30 | Centre Nat Etd Spatiales | Dispositif d'evaporation sous vide d'un metal en continu |
JPH03170661A (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-24 | Kobe Steel Ltd | 昇華性金属の蒸発方法 |
JPH08269696A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-10-15 | Nisshin Steel Co Ltd | Mgの蒸発方法 |
JPH08283942A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-10-29 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 昇華性金属材料の蒸発方法 |
ATE247372T1 (de) | 1996-09-04 | 2003-08-15 | Cambridge Display Tech Ltd | Lichtemittierende organische vorrichtungen mit verbesserter kathode |
JPH10270171A (ja) | 1997-01-27 | 1998-10-09 | Junji Kido | 有機エレクトロルミネッセント素子 |
ITMI20010995A1 (it) | 2001-05-15 | 2002-11-15 | Getters Spa | Dispensatori di cesio e processo per il loro uso |
US6770502B2 (en) | 2002-04-04 | 2004-08-03 | Eastman Kodak Company | Method of manufacturing a top-emitting OLED display device with desiccant structures |
EP1422281A1 (en) * | 2002-11-19 | 2004-05-26 | Ciba SC Holding AG | Organic electroluminescent element |
CN100484352C (zh) * | 2003-10-02 | 2009-04-29 | 株式会社丰田自动织机 | 电致发光元件 |
US7790890B2 (en) * | 2004-03-31 | 2010-09-07 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Organic electroluminescence element material, organic electroluminescence element, display device and illumination device |
NL1026214C2 (nl) | 2004-05-18 | 2005-11-21 | Otb Group Bv | Werkwijze en inrichting voor opbrengen van een actieve stof op een substraat. |
ITMI20042279A1 (it) | 2004-11-24 | 2005-02-24 | Getters Spa | Sistema dispensatore di metalli alcalini in grado di dispensare quantita' elevate di metalli |
JP4744415B2 (ja) | 2006-10-16 | 2011-08-10 | 中国電力株式会社 | 自動再閉路機能付き監視制御装置 |
-
2006
- 2006-03-13 IT IT000444A patent/ITMI20060444A1/it unknown
-
2007
- 2007-03-09 TW TW096108274A patent/TWI397594B/zh active
- 2007-03-12 EP EP07736686A patent/EP1996743B1/en active Active
- 2007-03-12 AT AT07736686T patent/ATE467697T1/de active
- 2007-03-12 JP JP2009500007A patent/JP5118689B2/ja active Active
- 2007-03-12 DE DE602007006443T patent/DE602007006443D1/de active Active
- 2007-03-12 US US12/282,758 patent/US8029597B2/en active Active
- 2007-03-12 ES ES07736686T patent/ES2343337T3/es active Active
- 2007-03-12 CN CN2007800088701A patent/CN101448970B/zh active Active
- 2007-03-12 WO PCT/IT2007/000181 patent/WO2007105252A1/en active Application Filing
- 2007-03-12 KR KR1020087024640A patent/KR101382538B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI397594B (zh) | 2013-06-01 |
CN101448970A (zh) | 2009-06-03 |
US20090266201A1 (en) | 2009-10-29 |
WO2007105252A8 (en) | 2008-10-16 |
WO2007105252A1 (en) | 2007-09-20 |
DE602007006443D1 (de) | 2010-06-24 |
ES2343337T3 (es) | 2010-07-28 |
ATE467697T1 (de) | 2010-05-15 |
US8029597B2 (en) | 2011-10-04 |
TW200745358A (en) | 2007-12-16 |
EP1996743A1 (en) | 2008-12-03 |
KR101382538B1 (ko) | 2014-04-07 |
CN101448970B (zh) | 2011-03-09 |
EP1996743B1 (en) | 2010-05-12 |
ITMI20060444A1 (it) | 2007-09-14 |
JP2009530491A (ja) | 2009-08-27 |
KR20080102425A (ko) | 2008-11-25 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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