JP5108383B2

JP5108383B2 - 光学活性モノスルホネート化合物の製造方法

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Publication number: JP5108383B2
Application number: JP2007139161A
Authority: JP
Inventors: 功啓松村; 治尾野村; 庸介出水
Original assignee: Kaneka Corp
Current assignee: Kaneka Corp
Priority date: 2007-05-25
Filing date: 2007-05-25
Publication date: 2012-12-26
Anticipated expiration: 2027-05-25
Also published as: JP2008290981A

Description

本発明は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にスルホニル化することで得られる、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法に関する。

光学活性ジオール類は各種キラル医薬の合成素子として重要であり、その不斉合成法の開発研究が活発に行われている。
光学活性ジオール類の合成法としては、近年発明者らにより、不斉銅錯体を触媒とする、メソ−１，２−ジオール類の不斉モノアシル化（非特許文献１および特許文献１参照）ならびにメソ−１，２−ジオール類のモノカルバモイル化（非特許文献２参照）などの不斉合成法が報告されている。
しかし、上記した不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法では、適用されるジオール類の種類によってエナンチオ選択性がそれほど高くない場合があった（非特許文献３参照）。

一方、スルホン酸エステル類は、アシル基やカルバモイル基に比べ求核試薬や塩基に対するより良好な脱離基となることが知られている。よってジオール類をエナンチオ選択的にモノスルホニル化することにより得られた化合物も同様に、種々のキラル医薬の合成素子となり得る。

ジオール類のモノスルホニル化反応としては、ピリジンなどの塩基存在下、アルキルまたはアリールスルホニルハライドと反応させる方法が古くから知られている（例えば、非特許文献４参照）。しかし、この方法によればジスルホネート体も同時に生じるため、片方の水酸基を選択的にモノスルホニル化するための方法の開発が求められていた。
近年、Ｍａｒｔｉｎｅｌｌｉらによって、下記式で示すように触媒量のジブチル酸化スズでメソ−１，２−ジオール類のモノスルホニル化が効率的に進行する手法が報告された（非特許文献５〜７参照）。

しかし、上記方法で得られるモノスルホネート体はラセミ体であった。さらに光学活性なモノスルホネート体を得る方法としては、下記式で示すような光学活性アルコールのモノスルホニル法（非特許文献８）およびα−ケトスルホネートの不斉還元法（非特許文献９）が知られているだけである。

このように、ジオール類をエナンチオ選択的にモノスルホニル化する方法はほとんど知られていない。従って、当該方法であって従来法（不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法）より簡便で、かつ高い立体選択性を有する新たな方法が求められている。

特開２００３−３１３１５３号公報Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００３，１２５，２０５２−２０５３．ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．２００６，４７，８４５３−８４５６．有機合成化学協会誌第６５巻Ｎｏ．３、２００７年、２１６−２２５頁Ｄｕｔｈａｌｅｒ，Ｒ．Ｏ．；Ｍａｉｅｎｆｉｓｃｈ，Ｐ．Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ１９８４，６７，８３２−４４．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００２，１２４，３５７８−３５８５．ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．２０００，４１，３７７３−３７７６．ＯｒｇａｎｉｃＬｅｔｔ．１９９９，１，４４７−４５０．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９７，６２，８２７−８３５．Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ＰｅｒｋｉｎＴｒａｎｓ．１，２００１，１２０４−１２１１．

本発明の課題は、キラル医薬品の中間体として有用な、光学活性なジオール誘導体の立体選択的な製造方法を提供することである。詳細には、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物（本明細書中、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することで得られた「光学活性モノスルホネート化合物」を、「光学活性ジオール誘導体」または「光学活性ジオール類」と記載する場合がある）の製造方法を提供することである。

特に本発明は、プロキラルジオール化合物のうち、メソ−１，２−ジオール化合物をエナンチオ選択的にモノスルホニル化したり、１，３−ジオール化合物をモノスルホニル化することによってジオール化合物を不斉対称化することで、光学活性モノスルホネート化合物を製造することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、光学活性ビスオキサゾリン−金属錯体を不斉触媒として用いることにより、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化できることを見出した。
特に、メソ−１，２−ジオール化合物をエナンチオ選択的にモノスルホニル化することで、また１，３−ジオール化合物をモノスルホニル化することで不斉対称化して、光学活性モノスルホネート化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は以下のとおりである。
［１］プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法。
［２］モノスルホニル化が、プロキラルジオール化合物および式（ＩＩＩ）

［式中、
Ｒ^２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｘは、ハロゲン原子を示す］で表されるスルホニル化剤（以下、スルホニル化剤（ＩＩＩ）と記載する）を、式（ＩＶａ）

［式中、
Ｒ^３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一体となって置換されていてもよいＣ_２−６アルキレン基を示し、
Ｒ^４は、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ_７−１６アラルキル基、または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）と記載する）もしくは式（ＩＶｂ）

［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）と記載する）、または式（ＩＶｃ）

［式中、
Ｒ^３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一体となって置換されていてもよいＣ_２−６アルキレン基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）と記載する）もしくは式（ＩＶｄ）

［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）と記載する。また以下において、「光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）もしくは光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）、または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）もしくは光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）」をまとめて、「光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）」と記載する）、式（Ｖ）

［式中、
Ｍは、２価の金属原子を示し、
Ｘ’は、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＮＴｆ_２、ＢＦ_４、ＰＦ_６またはＳｂＦ_６を示す］で表される金属塩（以下、金属塩（Ｖ）と記載する）および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、［１］記載の製造方法。
［３］プロキラルジオール化合物が、式（ＩＩ）

［式中、
Ｒ^１は、置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す］で表されるメソ−１，２−ジオール化合物（以下、化合物（ＩＩ）と記載する）であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（Ｉ）

［式中、
Ｒ^１は、前記と同義を示し、
Ｒ^２は、置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）と記載する）、または式（Ｉ’）

［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’）と記載する）である、［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］Ｒ^１が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ^２が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、［３］記載の製造方法。
［５］Ｒ^１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ^２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、［４］記載の製造方法。
［６］プロキラルジオール化合物が、式（ＶＩＩ）

［式中、Ｒ^５およびＲ^６は互いに異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される１，３−ジオール化合物（以下、化合物（ＶＩＩ）と記載する）であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（ＶＩ）

［式中、
Ｒ^２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｒ^５およびＲ^６は、前記と同義を示す］で表される化合物（以下、化合物（ＶＩ）と記載する）である、［１］または［２］に記載の製造方法。
［７］Ｒ^２が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示し、
Ｒ^５が、Ｃ_１−１８アルキル基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示す、
［６］記載の製造方法。
［８］Ｒ^２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ^５が、アシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基を示す、
［６］または［７］記載の製造方法。
［９］Ｒ^３が、水素原子またはＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ^４が、Ｃ_１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基またはＣ_７−１６アラルキル基を示す、
［２］〜［８］のいずれか一に記載の製造方法。
［１０］Ｒ^３が、メチル基を示し、
Ｒ^４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、［９］記載の製造方法。
［１１］Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＢＦ_４またはＰＦ_６を示す、
［２］〜［１０］のいずれか一に記載の製造方法。
［１２］塩基が、炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される少なくとも一つである、［２］〜［１１］のいずれか一に記載の製造方法。
［１３］テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリルおよび酢酸エチルからなる群から選択される少なくとも一つの溶媒中で行われる、［１］〜［１２］のいずれか一に記載の製造方法。

本発明により、プロキラルジオール化合物を、エナンチオ選択的にモノスルホニル化することができる。本発明の方法により得られる光学活性モノスルホネート化合物は、医薬品中間体として有用である。従って、本発明を適用することにより、各種医薬品を容易に合成することが可能となる。

本発明によれば、不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法といった従来公知のエナンチオ選択的な光学活性ジオール誘導体の製造方法よりも、より簡便に、高い立体選択性を有する光学活性ジオール誘導体を得ることができる。

本明細書中において使用する各置換基および各記号などの定義は次の通りである。

「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられる。
「アルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基（Ｃ_１−６アルキル基）、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデカニル基、ドデカニル基、トリデカニル基、テトラデカニル基、ペンタデカニル基、ヘキサデカニル基、ヘプタデカニル基、オクタデカニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ_１−１８アルキル基が挙げられる。
「アルケニル基」としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ_２−６アルケニル基が挙げられる。
「アルキニル基」としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ_２−６アルキニル基が挙げられる。
「シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ビシクロ［３．１．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、ビシクロ［３．２．１］オクチル基、ビシクロ［３．２．２］ノニル基、ビシクロ［３．３．１］ノニル基、ビシクロ［４．２．１］ノニル基、ビシクロ［４．３．１］デシル基、アダマンチル基等のＣ_３−１０シクロアルキル基が挙げられる。

「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などのＣ_６−１４アリール基が挙げられる。
「アラルキル基」としては、例えば、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基などのＣ_７−１６アラルキル基が挙げられる。

「アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などの直鎖または分枝鎖のＣ_１−６アルコキシ基が挙げられる。
「アリールオキシ基」としては、例えば、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基などのＣ_６−１４アリールオキシ基が挙げられる。
「アラルキルオキシ基」としては、例えば、ベンジルオキシ基、１−フェニルエチルオキシ基、２−フェニルエチルオキシ基などのＣ_７−１６アラルキルオキシ基が挙げられる。

「アルキレン基」としては、例えばエチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等の直鎖または分枝鎖のＣ_２−６アルキレン基が挙げられる。

「アシル基」としては、例えば、ホルミル基、カルボキシル基、Ｃ_１−６アルキル−カルボニル基、Ｃ_３−８シクロアルキル−カルボニル基、Ｃ_６−１４アリール−カルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシ−カルボニル基、Ｃ_６−１４アリールオキシ−カルボニル基、Ｃ_７−１６アラルキルオキシ−カルボニル基、Ｃ_１−６アルキル−カルボニルオキシ基、Ｃ_６−１４アリール−カルボニルオキシ基、Ｃ_７−１６アラルキル−カルボニルオキシ基、Ｃ_７−１６アラルキル−アミノカルボニル基、カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキル−カルバモイル基、Ｃ_１−６アルコキシ−カルバモイル基、Ｃ_６−１４アリール−カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキル−スルホニル基などが挙げられる。
ここで、「Ｃ_１−６アルキル−カルボニル基」、「Ｃ_１−６アルキル−カルボニルオキシ基」、「Ｃ_１−６アルキル−カルバモイル基」および「Ｃ_１−６アルキル−スルホニル基」における「Ｃ_１−６アルキル」、「Ｃ_１−６アルコキシ−カルボニル基」および「Ｃ_１−６アルコキシ−カルバモイル基」における「Ｃ_１−６アルコキシ」、「Ｃ_３−８シクロアルキル−カルボニル基」における「Ｃ_３−８シクロアルキル」、「Ｃ_６−１４アリール−カルボニル基」および「Ｃ_６−１４アリール−カルバモイル基」における「Ｃ_６−１４アリール」、「Ｃ_６−１４アリール−カルボニルオキシ基」、「Ｃ_７−１６アラルキル−カルボニルオキシ基」、「Ｃ_７−１６アラルキル−アミノカルボニル基」における「Ｃ_７−１６アラルキル」、「Ｃ_６−１４アリールオキシ−カルボニル基」における「Ｃ_６−１４アリールオキシ」、「Ｃ_７−１６アラルキルオキシ−カルボニル基」における「Ｃ_７−１６アラルキルオキシ」としては、それぞれ、上記「アルキル基」における「Ｃ_１−６アルキル基」、「アルコキシ基」における「Ｃ_１−６アルコキシ基」、「シクロアルキル基」における「Ｃ_３−８シクロアルキル基」、「アリール基」における「Ｃ_６−１４アリール基」、「アラルキル基」における「Ｃ_７−１６アラルキル基」、「アリールオキシ基」における「Ｃ_６−１４アリールオキシ基」、「アラルキルオキシ基」における「Ｃ_７−１６アラルキルオキシ基」が、それぞれ例示される。

「炭素環」としては、例えば、
（１）Ｃ_３−１０シクロアルカン（例、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等）、
（２）Ｃ_３−１０シクロアルケン（例、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロオクテン環等）
などのような脂環式炭化水素や、ベンゼンなどの芳香族炭化水素といった、他の環と縮合していない炭素環が挙げられる。

「縮合炭素環」としては、例えば、インデン、ナフタレン、アズレン、フルオレン、フェナントレン、アントラセン、アセナフチレン、ビフェニレンなどの二つ以上の炭素環が縮合して形成される、縮合多環式炭化水素が挙げられる。また、上記「縮合炭素環」には、上記で例示した各環の一部または全部の２重結合が飽和または不飽和である縮合炭素環も含まれる。

「複素環」としては、炭素原子以外に、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される１〜５個のヘテロ原子を含有し、芳香族でも非芳香族であってもよい３〜１２員の複素環を示し、例えば、
（１）３〜６員の単環式複素環（例、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）、
（２）８〜１２員の縮合多環式複素環（例、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾ［ｂ］チオフェン環、インドール環、イソインドール環、１Ｈ−インダゾール環、ベンズインダゾール環、ベンゾオキサゾール環、１，２−ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾピラゾール環、１，２−ベンゾイソチアゾール環、１Ｈ−ベンゾトリアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、プリン環、ブテリジン環、カルバゾール環、α−カルボリン環、β−カルボリン環、γ−カルボリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フェナジン環、フェノキサチイニン環、チアントレン環、フェナントリジン環、キサンテン環等）
などが挙げられる。また、上記「複素環」には、上記で例示した各環の一部または全部の２重結合が飽和または不飽和である複素環も含まれる。

上記「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」は、化合物（ＩＩ）における二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に形成する環である。
従って、二つのＲ^１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す、「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」としては、上記で例示した各環でもよいが、少なくとも一つの二重結合が飽和した、「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」であることが好ましい。

少なくとも一つの二重結合が飽和した、「炭素環」としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロオクテン環等が挙げられる。

少なくとも一つの二重結合が飽和した、「縮合炭素環」としては、１，２−ジヒドロベンゼン、２，３−ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、２，３−ジヒドロインデン等が挙げられる。

少なくとも一つの二重結合が飽和した、「複素環」としては、ピロリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロチオフェン環、インドリン環、イソインドリン環、クロマン環、イソクロマン環、テトラヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５およびＲ^６で示される「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基またはアリル基等が挙げられる。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５およびＲ^６で示される「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していてもよい置換基としては、例えば
（１）ハロゲン原子、
（２）水酸基、
（３）アルキル基、
（４）アリール基、
（５）カルボキシル基、
（６）アルコキシ基、
（７）アラルキルオキシ基、
（８）アシル基、
（９）ニトロ基
等が挙げられる。置換基の数は、炭化水素基によって異なるが、例えば、１〜５、好ましくは１〜３であり、置換基の数が２以上の場合、各置換基は同一または異なっていてもよい。

ここで、
Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^４で示される「置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基」の「Ｃ_１−６アルキル基」、
Ｒ^１で示される「置換されていてもよいメチル基」の「メチル基」、
Ｒ^２で示される「置換されていてもよいフェニル基」の「フェニル基」、
Ｒ^３で示される「置換されていてもよいＣ_２−６アルキレン基」の「Ｃ_２−６アルキレン基」、
Ｒ^２、Ｒ^４およびＲ^６で示される「置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基」の「Ｃ_６−１４アリール基」、
Ｒ^４で示される「置換されていてもよいＣ_７−１６アラルキル基」の「Ｃ_７−１６アラルキル基」、
二つのＲ^１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい炭素環」の「炭素環」、
二つのＲ^１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい縮合炭素環」の「縮合炭素環」、および
二つのＲ^１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい複素環」の「複素環」
がそれぞれ有していてもよい置換基としては、例えば、上記「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していてもよい置換基が挙げられる。

本発明は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、モノスルホネート化合物の製造方法を提供する。

本発明の「プロキラルジオール化合物」とは、水酸基を二つ有する化合物であって、光学活性を示さないが、いずれかの水酸基が別の置換基に置換されることによって光学活性体となる化合物を広く含む。すなわち、当該化合物は、水酸基が置換されることにより初めて不斉炭素原子を有するようになる化合物のみならず、一つ以上の不斉炭素原子を有するがその構造上光学活性を示し得ない化合物であって、水酸基が置換されることにより初めて光学活性を示す化合物をも広く包含するものである。そのような化合物としては、好ましくは化合物（ＩＩ）または化合物（ＶＩＩ）が挙げられる。

本発明のプロキラルジオール化合物の一つである化合物（ＩＩ）は、不斉炭素原子を二つ有するが、分子内に対称面があるメソ体であって、光学活性を示さない。しかしながら、後述のスルホニル化によって片方の水酸基がスルホニル化することで光学活性体（光学活性モノスルホネート化合物）となり得る。

本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ^１が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す、化合物（ＩＩ）が好ましい。

また、本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ^１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す、化合物（ＩＩ）がより好ましい。

さらに、本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ^１が、ベンジルオキシメチル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示す、化合物（ＩＩ）が特に好ましい。

また、本発明のプロキラルジオール化合物である化合物（ＶＩＩ）は、後述のスルホニル化によって片方の水酸基がスルホニル化することで光学活性体（光学活性モノスルホネート化合物）となり得る。

本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ^５が、Ｃ_１−１８アルキル基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示す、化合物（ＶＩＩ）が好ましい。

また、本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ^５が、アシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基を示す、
化合物（ＶＩＩ）がより好ましい。

さらに、本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ^５が、エトキシカルボニル基またはフェニルカルバモイル基を示し、
Ｒ^６が、メチル基またはエチル基を示す、
化合物（ＶＩＩ）が特に好ましい。

本発明における「モノスルホニル化」は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化する反応である。これにより、プロキラルジオール化合物、好ましくは化合物（ＩＩ）および化合物（ＶＩＩ）を、光学活性モノスルホネート化合物に導くことが可能となる。

本発明の「モノスルホニル化」反応は、下記の工程を含むことを特徴とする。

（工程１）金属塩（Ｖ）と、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）とを混合して、金属錯体を得る工程。
（工程２）工程１で得られた金属錯体に、塩基存在下、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を添加することで、光学活性モノスルホネート化合物を得る工程。
（工程３）得られた光学活性モノスルホネート化合物を、自体公知の方法で精製する工程。
なお、本発明において、上記工程１および２は便宜上分けて記載したに過ぎず、上記記載に限定されるものではない。例えば、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）の混合物中に工程１で得られた金属錯体を添加してもよいし、塩基存在下でスルホニル化剤（ＩＩＩ）、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）、金属塩（Ｖ）および上記ジオール化合物を混合して一工程で反応を進行させてもよい。

以下、各工程に従って、各化合物を説明する。

工程１
本工程は、金属塩（Ｖ）と、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）とを混合して、式（ＩＶａ’）

で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶａ’）と記載する）もしくは式（ＩＶｂ’）

で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｂ’）と記載する）または式（ＩＶｃ’）

で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｃ’）と記載する）もしくは式（ＩＶｄ’）

で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｄ’）と記載する。また以下において、「金属錯体（ＩＶａ’）もしくは金属錯体（ＩＶｂ’）、または金属錯体（ＩＶｃ’）もしくは金属錯体（ＩＶｄ’）」をまとめて、「金属錯体（ＩＶ）」と記載する）
を形成する工程である。

金属塩（Ｖ）は、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）に配位して、金属錯体（ＩＶ）をそれぞれ形成する。

金属塩（Ｖ）としては、
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、またはトリフルオロメチルスルホニル（以下、ＯＴｆと記載する場合がある）、四フッ化ホウ素（以下、ＢＦ_４と記載する場合がある）、六フッ化リン（以下、ＰＦ_６と記載する場合がある）、六フッ化アンチモン（以下、ＳｂＦ_６と記載する場合がある）、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（以下、ＮＴｆ_２と記載する場合がある）を示す、
金属塩（Ｖ）が好ましい。

また、金属塩（Ｖ）としては、
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、フッ素原子、塩素原子、ＯＴｆ、ＮＦ_４またはＰＦ_６を示す、
金属塩（Ｖ）がより好ましい。

より具体的には、金属塩（Ｖ）としては、Ｃｕ（ＯＴｆ）_２、Ｚｎ（ＯＴｆ）_２、ＣｕＢｒ_２、ＣｕＣｌ_２、ＣｕＦ_２、Ｃｕ（ＢＦ_４）_２、Ｃｕ（ＰＦ_６）_２、Ｃｕ（ＳｂＦ_６）_２およびＣｕ（ＮＴｆ_２）_２が好ましく、中でも、Ｃｕ（ＯＴｆ）_２、Ｚｎ（ＯＴｆ）_２、ＣｕＣｌ_２、ＣｕＦ_２、Ｃｕ（ＢＦ_４）_２およびＣｕ（ＰＦ_６）_２が特に好ましい。
なお、このような金属塩（Ｖ）は、市販品を用いてもよいし、自体公知の方法で製造してもよい。

本工程において、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）は、金属塩（Ｖ）の配位子として作用し、金属錯体（ＩＶ）をそれぞれ形成する。

光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）としては、
Ｒ^３が、水素原子またはＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ^４が、Ｃ_１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基またはＣ_７−１６アラルキル基を示す、
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）が好ましい。

また、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）としては、
Ｒ^３が、メチル基を示し、
Ｒ^４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）がより好ましい。

光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）としては、Ｒ^３が、水素原子またはＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示す、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）が好ましい。

また、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）としては、Ｒ^３が、メチル基を示す、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）がより好ましい。

なお、本明細書中、
（１）Ｒ^３が、メチル基を示し、Ｒ^４が、フェニル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸ」と記載し、
（２）Ｒ^３が、メチル基を示し、Ｒ^４が、ｔｅｒｔ−ブチル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ」と記載し、
（３）Ｒ^３が、メチル基を示し、Ｒ^４が、ベンジル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−Ｂｎ−ＢＯＸ」と記載し、かつ
（４）Ｒ^３が、メチル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）、（ＩＶｄ）をそれぞれ、「（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸ」、「（４Ｒ，５Ｓ）−Ｉｎ−ＢＯＸ」と記載する。

このような光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）は、自体公知の方法で製造することができる。当該製造方法としては、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１３，７２８−７２９（１９９１）記載の方法などが挙げられる。

本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（１）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せ、
（２）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＣｌ_２との組合せ、
（３）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＦ_２との組合せ、
（４）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＺｎ（ＯＴｆ）_２との組合せ、
（５）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＢＦ_４）_２との組合せ、
（６）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＰＦ_６）_２との組合せ、
（７）（Ｒ，Ｒ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せ、
（８）（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せ
等が挙げられる。

また、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（１’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せ、
（２’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＣｌ_２との組合せ、
（３’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＦ_２との組合せ、
（４’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＺｎ（ＯＴｆ）_２との組合せ、
（５’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＢＦ_４）_２との組合せ、
（６’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＰＦ_６）_２との組合せ、
（７’）（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せ、
（８’）（Ｓ，Ｓ）−Ｂｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せ
等が挙げられる。

さらに、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（９）（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せが挙げられる。

また、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（９’）（４Ｒ，５Ｓ）−Ｉｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）_２との組合せが挙げられる。

上記組合せのうち、（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７’）、（８）および（９）の組合せが特に好ましい。

本工程における光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）の使用量は、金属塩（Ｖ）１モルあたり、通常０．５モル〜２モル、好ましくは０．８モル〜１．２モルである。

本工程は、反応が進行する限り溶媒中で行っても無溶媒で行ってもよいが、通常、溶媒中で行われる。使用できる溶媒としては、本工程に影響を与えない限り特に限定されないが、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブタノール、イソブタノール、ノルマルブタノール、アセトニトリル、プロピオニトリル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸ノルマルブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサンなどであり、より好ましくは、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、酢酸エチルである。溶媒の使用量は、当業者であれば適宜設定することが可能である。

本工程の反応温度は、反応が進行する限り特に限定されないが、０℃〜５０℃で行うことが好ましく、室温で行うことがさらに好ましい。なお本明細書中、室温とは、１５℃〜３５℃の範囲における温度のことをいう。
本工程の反応時間は、使用する試薬や溶媒の量、反応温度によっても異なるが、通常１分〜２４時間、好ましくは５分〜１時間である。

本工程で得られた金属錯体（ＩＶ）は、反応混合物から自体公知の手段、例えば抽出、濃縮、中和、濾過、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、中圧分取液体クロマトグラフィー（中圧分取ＬＣ）等の手段を用いることによって単離・精製することができるが、反応混合物のまま次工程２に付すことが好ましい。

工程２
本工程は、工程１で得られた金属錯体に、塩基存在下、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を添加することで、光学活性モノスルホネート化合物を得る工程である。

本工程において、スルホニル化剤（ＩＩＩ）は、工程１で得られた金属錯体存在下、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化して、光学活性モノスルホネート化合物を得るために用いられる。

スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ^２が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）が好ましい。

また、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ^２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）がより好ましい。

さらに、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ^２が、メチル基、またはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基、ハロゲン原子およびニトロ基から選択される置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）がより好ましい。

より具体的には、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化ｐ−メトキシベンゼンスルホニル、塩化ｐ−クロロベンゼンスルホニル、塩化ｐ−ニトロベンゼンスルホニル、塩化メタンスルホニルが好ましい。
なお、このようなスルホニル化剤（ＩＩＩ）は、市販品を用いてもよいし、自体公知の方法で製造してもよい。

また、本工程におけるスルホニル化剤（ＩＩＩ）の使用量は、プロキラルジオール化合物１モルあたり、通常０．５モル〜５モル、好ましくは０．８モル〜３モル、より好ましくは０．８モル〜１．５モルである。

本工程で用いられる塩基としては、反応が進行する限り特に限定されず、有機塩基、無機塩基などの自体公知の塩基が用いられるが、好ましくは炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される。

本工程における塩基の使用量は、プロキラルジオール化合物１モルあたり、通常０．２５モル〜５モル、好ましくは０．４モル〜３モル、より好ましくは０．４モル〜１．５モルである。

本工程は、反応が進行する限り溶媒中で行っても無溶媒で行ってもよいが、通常、工程１で得られた金属錯体を単離・精製しない限り、工程１で挙げられた溶媒中で行われる。
工程１で得られた金属錯体を単離・精製した場合には、本工程は溶媒中で行うことが好ましい。選択される当該溶媒としては、本工程に影響を与えない限り特に限定されないが、好ましくは工程１で挙げられた溶媒が挙げられる。当該溶媒の使用量は、当業者であれば適宜設定することが可能である。

プロキラルジオール化合物については、上記で説明したとおりであるが、プロキラルジオール化合物として特に化合物（ＶＩＩ）を適用する場合は、上記記載のスルホニル化剤（ＩＩＩ）のうち、塩化ｐ−トルエンスルホニルを用いることが好ましく、上記記載の塩基のうち、炭酸カリウムを用いることが好ましい。

一方、プロキラルジオール化合物として特に化合物（ＩＩ）を適用する場合、スルホニル化剤（ＩＩＩ）、塩基などは、上記工程２記載と同様のものを用いることができる。

本工程の反応温度は、反応が進行する限り特に限定されないが、０℃〜５０℃で行うことが好ましく、室温で行うことがさらに好ましい。なお本明細書中、室温とは、１５℃〜３５℃の範囲における温度のことをいう。
本工程の反応時間は、使用する試薬や溶媒の量、反応温度によっても異なるが、通常１時間〜７２時間、好ましくは３時間〜４８時間である。

本工程により、光学活性モノスルホネート化合物を得ることができる。光学活性モノスルホネート化合物としては、上記プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを、上記工程１ないし２を経て選択的にモノスルホニル化して得られた化合物であって、光学活性を有する限り特に限定されないが、好ましくは化合物（Ｉ）もしくは化合物（Ｉ’）、または化合物（ＶＩ）である。

本発明の光学活性モノスルホネート化合物の一つである化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）は、それぞれ、上記化合物（ＩＩ）を上記工程１および２に付すことによって得られる化合物である。
詳細には、化合物（Ｉ）は、下記式

で表される（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−スルホニルオキシ体であり、化合物（Ｉ’）は、下記式

で表される（１Ｒ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−スルホニルオキシ体である。

化合物（Ｉ）は、上記工程１において、例えば二価銅塩を用いた場合、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）を用いることにより製造することができる。一方、化合物（Ｉ’）は、上記工程１において、例えば二価銅塩を用いた場合、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）を用いることにより製造することができる。
すなわち、上記工程１において光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）を適宜使い分けることによって、ジオール化合物（例えば、化合物（ＩＩ））から、光学活性の異なるモノスルホネート化合物（例えば、化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’））を任意に製造することが可能である。

本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ^１が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ^２が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）が好ましい。

また、本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ^１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ^２が、メチル基、イソプロピル基または置換されていてもよいフェニル基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）がより好ましい。

さらに、本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ^１が、ベンジルオキシメチル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ^２が、メチル基、イソプロピル基、またはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基、ハロゲン原子およびニトロ基から選択される置換基で置換されていてもよいフェニル基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）が特に好ましい。

一方、本発明の光学活性モノスルホネート化合物の一つである化合物（ＶＩ）は、上記化合物（ＶＩＩ）を上記工程１および２に付して得られる化合物である。
当該化合物は、Ｓ体、Ｒ体のいずれであってもよい。
そして、これらの化合物は、工程１における光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）を使い分けることによって、プロキラルジオール化合物（例えば、化合物（ＶＩＩ））から、特定の立体化学を有する光学活性モノスルホネート化合物（例えば、Ｓ体の化合物（ＶＩ）またはＲ体の化合物（ＶＩ））を製造することが可能である。

本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ^２が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示し、
Ｒ^５が、Ｃ_１−１８アルキル基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示す、
化合物（ＶＩ）が好ましい。

また、本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ^２が、メチル基、イソプロピル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ^５が、アシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基を示す、
化合物（ＶＩ）がより好ましい。

さらに、本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ^２が、ｐ−トリル基を示し、
Ｒ^５が、エトキシカルボニル基またはフェニルカルバモイル基を示し、
Ｒ^６が、メチル基またはエチル基を示す、
化合物（ＶＩ）が特に好ましい。

工程３
本工程は、工程２で得られた光学活性モノスルホネート化合物を精製する工程である。

上記工程で得られる光学活性モノスルホネート化合物は、反応混合物から自体公知の手段、例えば抽出、濃縮、中和、濾過、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、中圧分取液体クロマトグラフィー（中圧分取ＬＣ）等の手段を用いることによって単離・精製することができる。

上記工程により、目的物である光学活性モノスルホネート化合物が遊離の状態で得られる場合には、常法に従って塩に変換してもよく、また塩として得られる場合には、常法に従って遊離体または他の塩に変換することもできる。
光学活性モノスルホネート化合物は、種々の塩を形成することができる。本発明のモノスルホネート化合物は、かかる化合物をも包含する。
光学活性モノスルホネート化合物の塩としては、例えば、金属塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩等があげられる。

金属塩の好適な例としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩等が挙げられる。
有機塩基との塩の好適な例としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、２，６−ルチジン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、トロメタミン〔すなわち、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン〕、ｔｅｒｔ−ブチルアミン等との塩が挙げられる。
無機酸との塩の好適な例としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等との塩が挙げられる。
有機酸との塩の好適な例としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等との塩が挙げられる。
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えば、アルギニン、リジン、オルニチン等との塩が挙げられ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えば、アスパラギン酸、グルタミン酸等との塩が挙げられる。

光学活性モノスルホネート化合物は、水和物および非水和物のいずれであってもよい。光学活性モノスルホネート化合物の水和物としては、例えば、０．５水和物、１水和物、１．５水和物および２水和物等が挙げられる。また、自体公知の溶媒との溶媒和物であってもよい。
また、光学活性モノスルホネート化合物は、同位元素（例、^３Ｈ、^１４Ｃ、^３５Ｓ）などで標識されていてもよい。
本発明の光学活性モノスルホネート化合物は、上記の水和物、溶媒和物等の種々の化合物をも包含する。

本発明により得られた光学活性モノスルホネート化合物を、例えば国際公開第２００６−０５３０３７号パンフレットおよび国際公開第２００６−１３８６７３号パンフレットに記載の方法に適用することで、抗不整脈剤の有効成分である下記化合物を製造することができる。

また、本発明の光学活性モノスルホネート化合物を、例えば国際公開第２００６−１０６０５４号パンフレットに記載の方法に適用することで、抗肥満薬の有効成分である下記化合物を製造することもできる。

さらに、本発明の光学活性モノスルホネート化合物を、例えばＪｏｕｒｎａｌｏｆＭｅｄｉｃｉｎａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ（２００４），４７（８），２０９７−２１０９に記載の方法に適用することで、抗癌剤の有効成分である下記化合物を製造することもできる。

以下、実施例を示してさらに具体的に本発明を説明する。以下は代表的な実施例を示すものでこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の応用が可能である。

実施例１
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロペンタンの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロペンタン（収率９１％，９５％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ＩＲ（ｎｅａｔ）νｍａｘ；３５５０，２９５９，１３５６，１１７７ｃｍ^−１
［α］^１９ _Ｄ −８．５（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９５％ｅｅ）．
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６２（ｍ，４Ｈ），４．１８−４．０８（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．２９−２．０８（ｂｒｓ，１Ｈ），１．９５−１．４０（ｍ，６Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．８，１３３．５，１２９．７，１２７．６，８４．０，７２．６，２９．８，２７．７，２１．５，１８．７．
ＭＳ［ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ２５７［Ｍ＋Ｈ］^＋．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：３０．１ｍｉｎ（［＋］），３２．３ｍｉｎ（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）．

比較例１−１（ベンゾイル化）
１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロペンタンの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロペンタン（収率４７％，０％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ＩＲ νｍａｘ；３４４５，２９７１，１７１７，１４５１，１２７５，１１２３，９８４，７１２ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ；１．５９−１．７０（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．８４（ｍ，２Ｈ），１．８６−２．１５（ｍ，２Ｈ），４．３２（ｑ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），５．２４（ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：ＤａｉｃｅｌキラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１５．１分，１８．２分．

比較例１−２（モノカルバモイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロペンタンの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてフェニルイソシアネート（０．０５４ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロペンタン（収率９１％，７２％ｅｅ）を白色固体として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ｍｐ６２−６４^ｏＣ；［α］^２８．９ _Ｄ０．８１（ｃ０．５，ＣＨＣｌ_３，７２％ｅｅ）．
ＩＲ νｍａｘ；３３１０，２９７１，１７１７，１６０３，１５４１，１５０９，１４４１，１３１８，１２２５，１０９０，７５２，６９３ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ；１．５６−１．６４（ｍ，２Ｈ），１．６６−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．７９−２．０７（ｍ，２Ｈ），２．１７（ｓ，１Ｈ），４．２５（ｔ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．３９（ｍ，４Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：ＤａｉｃｅｌキラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：８．３分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１１．４分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）− ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．

実施例２
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサンの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（収率９４％，９７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
［α］^１９ _Ｄ −８．１（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９７％ｅｅ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ） νｍａｘ；３５５０，２９４２，１３５６，１１７５ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６８−４．５８（ｍ，４Ｈ），３．８８−３．７８（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．１０−１．２０（ｍ，９Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ１４４．６，１３４．０，１２９．７，１２７．５，８３．０，６８．８，３０．１，２７．５，２１．５（２Ｃ），２０．６．
ＭＳ［ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ２７１［Ｍ＋Ｈ］^＋．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１５．２分（［＋］），１６．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）．

比較例２−１（ベンゾイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサンの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン（収率９０％，９８％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
［α］^２４ _Ｄ１２．１（ｃ１．０，ＭｅＯＨ）．
ＩＲ νｍａｘ；３４８０，２９３９，１７２１，１４５０，１２８８，１１１３，９８４，７１５ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ；１．３９−１．５２（ｍ，２Ｈ），１．６８−１．９０（ｍ，４Ｈ），１．９８−２．０７（ｍ，２Ｈ），３．９６−３．９９（ｍ，１Ｈ），５．２２−５．２４（ｍ，１Ｈ），７．４６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５５−７．６０（ｍ，１Ｈ），８．０５−８．０８（ｍ，２Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：ＤａｉｃｅｌキラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１３．１分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１６．５分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．

比較例２−２（モノカルバモイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロヘキサンの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてフェニルイソシアネート（０．０５４ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロヘキサン（収率９２％，７６％ｅｅ）を白色固体として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ｍｐ７２−７６^ｏＣ；［α］^２２ _Ｄ４．９（ｃ０．５，ＣＨＣｌ_３）．
ＩＲ νｍａｘ；３３２１，２９４０，２８６３，１７０１，１６０１，１５４５，１５０１，１４５０，１３１４，１２３３，１０６５，１００１，７５６，６９４ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ；１．３８−１．４３（ｍ，２Ｈ），１．６６−１．８３（ｍ，４Ｈ），１．８６−１．９７（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，１Ｈ），３．９６（ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），４．９４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８１（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．４０（ｍ，４Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：ＤａｉｃｅｌキラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２１０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：７．７分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１２．０分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．

実施例３〜１２、比較例３−１〜１２−２
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化、モノベンゾイル化およびモノカルバモイル化による不斉非対称化の比較

実施例１、比較例１−１または比較例１−２におけるメソ−シクロペンタン−１，２−ジオールを種々のメソ−１，２−ジオール（表１中の「ジオール」）に変えた以外は、それぞれ同様の方法でメソ−１，２−ジオールの不斉非対称化を試みた（ただし、実施例１２は２４時間反応させた）。
得られた化合物の収率と光学純度を表１に示す。なお参考として、実施例１、比較例１−１および比較例１−２、ならびに実施例２、比較例２−１および比較例２−２の収率と光学純度を掲載している。
また、表１中、例えば、「番号３」の行の「実施例」の列に記載されたデータは、「実施例３の化合物の収率および光学純度」を示し、「番号４」の行の「比較例１」の列に記載されたデータは、「比較例４−１の化合物の収率および光学純度」を示し、「番号５」の行の「比較例２」の列に記載されたデータは、「比較例５−２の化合物の収率および光学純度」を示す。

この結果から、本発明のメソ−１，２−ジオールの光学活性モノスルホニル化（光学活性モノトシル化）は、メソ−１，２−ジオールをモノベンゾイル化、モノカルバモイル化するよりも高収率、高光学純度で達成されることが分かった。

得られた実施例化合物の物性データを以下に示す。

（実施例３）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘプタン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６２（ｍ，１Ｈ），４．００−３．８９（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．２０−１．２０（ｍ，１１Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．６，１３３．８，１２９．７，１２７．５，８６．６，７２．２，３０．８，２８．４，２６．４，２２．１，２１．４，２１．３；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９３６，１５９９，１３５６，１１７９ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：３１．６分（［＋］），３５．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^１９ _Ｄ −１１．８（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１４Ｈ_２１Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２８５．１１６１，実測値：２８５．１１７６．

（実施例４）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロオクタン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．８１−４．７０（ｍ，１Ｈ），４．００−３．８９（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．１８−１．２７（ｍ，１３Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．６，１３３．９，１２９．７，１２７．５，８５．８，７１．５，２９．９，２７．９，２６．７，２５．３，２３．７，２１．６，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９２６，１５９９，１３５６，１１７５ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２９．３分（［＋］），３０．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^１９ _Ｄ −１８．３（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１５Ｈ_２３Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２９９．１３１７，実測値：２９９．１３１７．

（実施例５）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−４−シクロヘキセン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），５．６２−５．４２（ｍ，２Ｈ），４．８１−４．７２（ｍ，１Ｈ），４．１０−３．９９（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４２−２．１０（ｍ，５Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．７，１３３．８，１２９．７，１２７．６，１２３．８，１２２．２，８０．４，６６．９，３１．３，２８．３，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５２８，２９２４，１５９９，１３６０，１１８０ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２４．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），３０．３分（［＋］）；
［α］^１９ _Ｄ −１５．９（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１３Ｈ_１７Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２６９．０８４８，実測値：２６９．０８５１．

（実施例６）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−５−シクロオクテン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．７５−５．５５（ｍ，２Ｈ），４．８３−４．７３（ｍ，１Ｈ），４．１０−３．９６（ｍ，１Ｈ），２．６４−２．４９（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４１−２．２５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．０６−１．５５（ｍ，６Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．７，１３３．５，１３０．５，１２９．７，１２９．０，１２７．６，８７．５，７３．２，３２．９，３０．５，２１．５（２Ｃ），２１．０；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９３８，１５９９，１３５６，１１７５ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１７．３分（［＋］），２１．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２１ _Ｄ −３３．５（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１５Ｈ_２１Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２９７．１１６１，実測値：２９７．１１７１．

（実施例７）
（２Ｓ，３Ｒ）−（＋）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン

無色結晶；
Ｍｐ：１２６−１２８℃；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１８−６．９１（ｍ，４Ｈ），４．９７−４．８７（ｍ，１Ｈ），４．２８−４．１８（ｍ，１Ｈ），３．２２−２．８７（ｍ，４Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．２９（ｂｒｓ，１Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．９，１３３．６，１３２．２，１３１．３，１２９．８，１２９．０，１２８．６，１２７．６，１２６．５，１２６．２，８０．５，６７．４，３４．５，３１．８，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９２６，１５９７，１３５６，１１７７ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１１．２分（［−］），１３．８分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２１ _Ｄ＋１５．２（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１７Ｈ_１９Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：３１９．１００４，実測値：３１９．１００５．

（実施例８）
（３Ｓ，４Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシピロリジン

泡状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６８−７．２０（ｍ，７Ｈ），５．０１−４．９１，４．７８−４．６５（ｍ，ｔｏｔａｌ１Ｈ），４．５０−４．３８，４．３８−４．２５（ｍ，ｔｏｔａｌ１Ｈ），３．９２−３．４３（ｍ，４Ｈ），３．２５，３．１４（ｂｒｓ，ｔｏｔａｌ１Ｈ），２．４６，２．４２（ｓ，ｔｏｔａｌ３Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １６９．９，１４５．５，１３５．２，１３０．３，１３０．０，１２９．９，１２８．２，１２７．７，１２７．１，７８．６，７８．２，７０．１，６８．８，５２．６，５０．４，５０．０，４８．４，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３５０，２９２５，１６２０，１３６４，１１７７ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．１分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１９．７分（［−］）；
［α］^２１ _Ｄ＋２２．７（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１８Ｈ_２０ＮＯ_５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：３６２．１０６２，実測値：３６２．１０７３．

（実施例９）
（３Ｓ，４Ｒ）−（−）−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシテトラヒドロフラン

無色結晶；
Ｍｐ：９２−９４℃；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．９０−４．８０（ｍ，１Ｈ），４．４３−４．３３（ｍ，１Ｈ），４．０２−３．６５（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４５．４，１３２．６，１２９．９，１２７．８，７９．０，７１．９，７０．３，６９．１，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３４２５，２９５５，１５９７，１３７２，１１８０ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１９．７分（［＋］），２１．５分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２４ _Ｄ −１０．０（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９５％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ２５９［Ｍ＋Ｈ］^＋．

（実施例１０）
（３Ｒ，４Ｓ）−（−）−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシテトラヒドロチオフェン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．９１−４．８１（ｍ，１Ｈ），４．４６−４．３５（ｍ，１Ｈ），３．０２−２．７４（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４５．３，１３２．９，１２９．９，１２７．７，８２．８，７３．３，３２．３，２９．８，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９４６，１５９７，１３６２，１１７９ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝８：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：３７．７分（［＋］），４７．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２２ _Ｄ −４．１（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１１Ｈ_１５Ｏ_４Ｓ_２からの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２７５．０４１２，実測値：２７５．０４１４．

（実施例１１）
（２Ｓ，３Ｒ）−（−）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシブタン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．６１−４．５１（ｍ，１Ｈ），３．９５−３．８２（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．１３（ｂｒｓ，１Ｈ），１．２１（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），１．１２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．６，１３３．９，１２９．７，１２７．６，８３．０，６９．１，２１．４，１７．４，１４．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９８４，１５９９，１３５６，１１８１ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１７．８分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），２０．０分（［＋］）；
［α］^１８ _Ｄ −１１．３（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ２４５［Ｍ＋Ｈ］^＋．

（実施例１２）
（２Ｓ，３Ｒ）−（＋）−１，４−ビス（ベンジルオキシ）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシブタン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．７５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３９−７．１７（ｍ，１２Ｈ），４．７９−４．６９（ｍ，１Ｈ），４．５２−４．２９（ｍ，４Ｈ），４．１０−４．００（ｍ，１Ｈ），３．７８−３．４２（ｍ，４Ｈ），２．７２（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４４．５，１３７．５，１３７．４，１３３．７，１２９．５，１２８．３，１２８．２，１２７．７（２Ｃ），１２７．６（２Ｃ），１２７．５，８０．３，７３．２（２Ｃ），６９．８，６９．２，６８．３，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２８６９，１５９９，１３６２，１１７９ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２５．３分（［−］），２９．４分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２０ _Ｄ＋０．８（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９３％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_２５Ｈ_２９Ｏ_６Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：４５７．１６８５，実測値：４５７．１６８７．

実施例１３
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、塩基の影響

炭酸カリウムを他の塩基に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表２に示す。

この結果から、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムおよびジイソプロピルエチルアミンを本発明の製造方法における塩基として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。

実施例１４
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、溶媒の影響

ジクロロメタンを他の溶媒に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表３に示す。

この結果から、上記溶媒を本発明の製造方法における溶媒として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。

実施例１５〜１９
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、スルホニル化剤の影響

塩化ｐ−トルエンスルホニルを他のスルホニル化剤に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表４に示す。

これらの結果から、上記スルホニル化剤を本発明の製造方法におけるスルホニル化剤として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。

得られた光学活性モノスルホネート化合物の物性データを以下に示す。

（実施例１５）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−ニトロベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ８．４０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），４．８５−４．７２（ｍ，１Ｈ），３．９１−３．７８（ｍ，１Ｈ），２．０８−１．２２（ｍ，９Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １５０．５，１４２．８，１２８．９，１２４．２，８４．６，６８．９，３０．０，２７．９，２１．２，２０．８；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５６７，２９４４，１５４１，１３６０，１１８６ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：８．１分（［＋］），１０．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２７ _Ｄ −４．９（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９２％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１２Ｈ_１６ＮＯ_６Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：３０２．０６９８，実測値：３０２．０６９３．

（実施例１６）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６１（ｍ，１Ｈ），３．８８−３．７７（ｍ，１Ｈ），２．０７（ｂｒｓ，１Ｈ），２．００−１．２２（ｍ，８Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４０．２，１３５．６，１２９．４，１２８．９，８３．６，６８．８，３０．１，２７．７，２１．４，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９４４，１４７８，１３６２，１１８４ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：８．６分（［＋］），１１．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^１８ _Ｄ −５．５（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９３％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１２Ｈ_１６ＣｌＯ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２９１．０４５８，実測値：２９１．０４６８．

（実施例１７）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−ベンゼンスルホニルオキシシクロヘキサン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．９５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．７１−７．５０（ｍ，３Ｈ），４．７１−４．６０（ｍ，１Ｈ），３．９０−３．７６（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．００−１．１８（ｍ，８Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １３７．０，１３３．６，１２９．１，１２７．４，８３．３，６８．８，３０．０，２７．６，２１．５，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９４２，１４４９，１３６０，１１８６ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１９．２分（［＋］），２２．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^１９ _Ｄ −５．０（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１２Ｈ_１７Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２５７．０８４８，実測値：２５７．０８６２．

（実施例１８）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−メトキシベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．６４−４．５３（ｍ，１Ｈ），３．９１−３．７６（ｍ，４Ｈ），２．０７−１．２１（ｍ，９Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １６３．５，１２９．７，１２８．３，１１４．２，８２．８，６８．８，５５．５，３０．１，２７．６，２１．５，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３６５０，２９４４，１５９７，１３４８，１１６３ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．７分（［＋］），１９．７分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^１８ _Ｄ −７．４（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１３Ｈ_１９Ｏ_５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２８７．０９５３，実測値：２８７．０９６６．

（実施例１９）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ４．８４−４．７４（ｍ，１Ｈ），３．９３−３．８２（ｍ，１Ｈ），３．０９（ｓ，３Ｈ），２．３９（ｂｒｓ，１Ｈ），２．１５−２．００（ｍ，１Ｈ），１．８３−１．２１（ｍ，７Ｈ）．

なお、この化合物は光学純度の分析が難しいので、以下の方法により安息香酸エステル化し、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサンに変換した。

室温で（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン（１ｍｍｏｌ、９７％ｅｅ）とトリエチルアミン（１．５当量）および４−ジメチルアミノピリジン（１．０当量）のジクロロメタン溶液（４ｍＬ）へ塩化ベンゾイル（１．５当量）を加えた。２４時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン（収率９３％，７７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。

無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ８．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．３１−５．２１（ｍ，１Ｈ），５．０５−４．９６（ｍ，１Ｈ），２．９９（ｓ，３Ｈ），２．２５−１．４０（ｍ，８Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １６５．６，１３３．１，１２９．５，１２８．３，７９．１，７１．５，３８．５，２９．３，２７．１，２１．７，２０．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ）２９４４，１７２０，１３６０，１１８３ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．７分（［＋］），１８．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２７ _Ｄ −４．６（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，７７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１４Ｈ_１９Ｏ_５Ｓ［Ｍ＋Ｈ］^＋における計算値：２９９．０９５３，実測値：２９９．０９６９．

実施例２０
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、金属塩（触媒種）の影響

トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）を他の金属塩に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表５に示す。

この結果から、上記金属塩のうち、ＣｕＣｌ_２、Ｚｎ（ＯＴｆ）_２、ＣｕＦ_２、Ｃｕ（ＢＦ_４）_２およびＣｕ（ＰＦ_６）_２を本発明の製造方法における金属塩として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。

実施例２１
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、不斉配位子（光学活性ビスオキサゾリン化合物）の影響

（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）を他の不斉配位子に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表６に示す。

この結果から、上記不斉配位子のうち、（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ、（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸおよび（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸを本発明の製造方法における不斉配位子として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。

実施例２２
（２Ｓ，３Ｒ）−（−）−３−ヒドロキシ−２−ベンゼンスルホニルオキシブタン

塩化ｐ−トルエンスルホニルの代わりに塩化ベンゼンスルホニルを使用した以外は実施例１１と同様の方法で、表題化合物を得た。
無色油状物；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．９４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），４．６５−４．５３（ｍ，１Ｈ），３．９５−３．８２（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），１．２２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １３６．９，１３３．６，１２９．１，１２７．５，８３．３，６９．１，１７．４，１４．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，２９８６，１４４９，１３６４，１１９４ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．６分（［＋］），１９．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^１８ _Ｄ −１０．４（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９６％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１０Ｈ_１５Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２３１．０６９１，実測値：２３１．０７０４．

実施例２３
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチルプロピオン酸エチルの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸エチル（８１．０ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（９５．３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。４８時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチルプロピオン酸エチル（収率５７％，７８％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．７９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．１，２Ｈ），４．２６（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），４．１４（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．０９（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），３．６９（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，４Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ）２．３６（ｂｒｔ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），１．２３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．１６（ｓ，３Ｈ）；
ＨＰＬＣキラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１５：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１５．５分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１７．１分（［＋］）；
［α］^２５ _Ｄ −２．９（ｃ０．７，ＣＨＣｌ_３，７８％ｅｅ）．

実施例２４
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造

室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１１．６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（収率９３％，８７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ８．６８（ｂｒｓ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３５−７．２３（ｍ，４Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），４．１７（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，２Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，５．７Ｈｚ，１Ｈ），３．８４（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，５．７Ｈｚ，１Ｈ），３．００（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ）１．８５−１．６３（ｍ，２Ｈ），０．８７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３００，２９２６，１６６１，１５９９，１３６０，１１７７ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：４５．７分（［＋］），５２．１分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２６ _Ｄ −４３．２（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，８７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１７Ｈ_１９Ｏ_４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：３７８．１３７５，実測値：３７８．１３８３．

比較例１３
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチルブタン酸エチルの製造

トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチル（０．０８８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍｌに溶解し、その溶液を氷水中で冷却した。約１０分冷却した後フェニルイソシアネート０．０５４ｍＬ（分子量１１９．１２，ｄ＝１．１０，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチルブタン酸エチル０．１２９ｇ（収率８８％、５５％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色油状物。
ＩＲ νｍａｘ；３３４１，２９７５，１７３６，１６０３，１５４５，１４４７，１３１８，１２３５，１１４４，１０６８，８６２，７５６，６９３ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ；０．９１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．５６−１．７２（ｍ，２Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．６８（ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７９（ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．２１（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．４０（ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．４９（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２９−７．３６（ｍ，４Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．保持時間：１６．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１８．２分（［＋］），［α］^２３．８ _Ｄ −６．７１（ｃ０．５０，ＣＨＣｌ_３，５５％ｅｅ）．

比較例１４
２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルブタン酸エチルの製造

トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチル（０．０８８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．０１３１ｍＬ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍＬに溶解させた後、塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルブタン酸エチル０．０３３ｇ（収率２２％、０％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色油状物．
ＩＲ νｍａｘ；３５１０，２９７３，１７２８，１４５３，１３１８，１２７５，１１１３，１０２６，９７０，７１２ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ；０．９５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．６５−１．７４（ｍ，２Ｈ），２．６０（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．７２−３．８７（ｍ，２Ｈ），４．２３（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ．
ＨＰＬＣ：キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１０．４分，１１．４分．

比較例１５
（＋）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造

２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチルを、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）に変え、塩化ベンゾイルをフェニルイソシアネートに変えた以外は、比較例１４と同様の方法で製造した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
白色固体。
融点、４７−５０℃．
ＩＲ νｍａｘ；３３００，３０６１，２９７０，１７１３，１６６３，１６０１，１５０１，１４４５，１３１６，１２３１，１０６９，８９９，７５４，６９３，５０７ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ；０．９７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６２−１．６９（ｍ，１Ｈ），１，８６−１．９５（ｍ，１Ｈ），３．７８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），３．７９−３．９５（ｍ，１Ｈ），４．１９（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），４．７４（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．２７−７．３５（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），９．１３（ｓ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．保持時間：２１．１分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１５．７分（［−］）．［α］^２２．０ _Ｄ３３．６８（ｃ１．００，ＣＨＣｌ_３，６１％ｅｅ）．
Ｃ_１９Ｈ_２２Ｎ_２Ｏ_４からの計算値：Ｃ，６６．６５；Ｈ，６．４８；Ｎ，８．１８，実測値：Ｃ，６６．４７；Ｈ，６．５６；Ｎ，８．０８．

比較例１６
（＋）−２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造

トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１１．６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．０１３１ｍＬ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍＬに溶解させた後、塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（＋）−２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド０．０７７ｇ（収率４７％、２３％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色固体。
Ｍｐ：８５−９５℃
ＩＲ νｍａｘ；３３１１，３０６３，２９７１，２８８２，１７２２，１６５５，１６０１，１５４１，１５０１，１４４７，１３１６，１２７９，１１７７，１１１５，１０７１，１０２８，９７０，９１１，７５６，７１２，６９３ｃｍ^−１．
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ；１．００（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．７１−１．８３（ｍ，１Ｈ），１．９３−２．０５（ｍ，１Ｈ），３．３９（ｓ，１Ｈ），３．７９（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．００（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．８８（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５３−７．６３（ｍ，２Ｈ）８．０５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），９．００（ｓ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：５８．６分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），６４．８分（［−］），［α］^２２．０ _Ｄ＋３．９（ｃ０．７８，ＣＨＣｌ_３，２３％ｅｅ）．

応用例１（光学活性モノスルホネート体の利用）
工程１：（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサンの製造

室温で（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（２００ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）とトリエチルアミン（１．５当量）および４−ジメチルアミノピリジン（１．０当量）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液へ塩化ベンゾイル（１．２当量）を加えた。２４時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（収率８４％，９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：１０２−１０４℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８９（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５４（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．０２−４．９２（ｍ，１Ｈ），４．９０−４．８０（ｍ，１Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），２．１９−１．３１（ｍ，８Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １６５．３，１４４．２，１３３．８，１３２．８，１２９．７１２９．５（２Ｃ），１２８．０，１２７．４，７９．０，７１．７，２９．１，２６．６，２２．２，２１．４，２０．１；
ＩＲ（ｎｅａｔ）２９４６，１７１９，１５９９，１３６２，１１７７ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１２．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１９．５分（［＋］）；
［α］^２７ _Ｄ −１２．２（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_２０Ｈ_２３Ｏ_５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：３７５．１２６６，実測値：３７５．１２５６．

工程２：（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサンの製造

上記工程１で得られた（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（３７４．５ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液へ、アジ化ナトリウム（１３０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）と１５−クラウン−５（２２ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を室温で加えた。１２時間、９０℃にて攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製して（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（収率９３％，９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：９０−９２℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ８．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．００−４．８３（ｍ，１Ｈ），３．６３−３．４８（ｍ，１Ｈ），２．２８−１．２８（ｍ，８Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １６５．６，１３２．９，１２９．９，１２９．５，１２８．２，７５．８，６３．２，３０．３，３０．２，２３．６，２３．３；
ＩＲ（ｎｅａｔ）２９４４，２１１０，１７２８，１４５２，１２８１ｃｍ^−１；
［α］^２０ _Ｄ −１３２．１（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚＣ_１３Ｈ_１６Ｎ_３Ｏ_２からの計算値［Ｍ＋Ｈ］^＋：２４６．１２４３，実測値：２４６．１２５９．

工程３：（１Ｒ，２Ｒ）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサンの製造

上記工程２で得られた（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（１．０ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍＬ）溶液へ、１０％パラジウム炭素（１３０ｍｇ）を室温で加え、１気圧の水素雰囲気下、室温にて１２時間攪拌後、セライト濾過した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。濾液を減圧濃縮して（１Ｒ，２Ｒ）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（定量的）を無色油状物として得た。
これは、精製することなく次の工程に用いた。

工程４：（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−１−ベンゾイルオキシ−２−（Ｎ−ベンゾイル）アミノシクロヘキサンの製造

上記工程３で得られた（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（１．０ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン（２．０当量）および４−ジメチルアミノピリジン（０．２当量）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液へ塩化ベンゾイル（１．２当量）を室温で加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−１−ベンゾイルオキシ−２−（Ｎ−ベンゾイル）アミノシクロヘキサン（収率８５％、９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：１４９−１５１℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ８．０１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８−７．２８（ｍ，６Ｈ），６．６２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），５．１１−４．９８（ｍ，１Ｈ），４．３１−４．１７（ｍ，１Ｈ），２．３７−１．２１（ｍ，８Ｈ）；
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １６７．６，１６６．９，１３４．３，１３３．０，１３１．１，１２９．７，１２９．６，１２８．３，１２８．２，１２６．６，７５．２，５３．６，３２．０，３１．１，２４．１（２Ｃ）；
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３００，２９４０，１７１７，１６３８，１５４１，１２７３ｃｍ^−１；
ＨＰＬＣキラルセルＯＤカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１１．１分（［＋］），１４．８分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］^２１ _Ｄ −８５．６（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ３２４［Ｍ＋Ｈ］^＋．

応用例２（光学活性モノスルホネート体の利用）
（３Ｒ）−（＋）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセンの製造

上記応用例１の工程１で得られた（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（２．０ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液へ、室温でＤＢＵ（２．０当量）を加え、１８時間、１２０℃にて攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製して（３Ｒ）−（＋）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセン（収率８０％，９７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ８．０６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），６．０７−５．９１（ｍ，１Ｈ），５．９１−５．７８（ｍ，１Ｈ），５．５８−５．４４（ｍ，１Ｈ），２．３０−１．５６（ｍ，８Ｈ）．
ＨＰＬＣキラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝９９．７：０．３，波長：２１０ｎｍ，流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１３．６分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１５．０分（［−］）；
［α］^２６ _Ｄ＋２１５．６（ｃ１．０，ＣＨＣｌ_３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ２０３［Ｍ＋Ｈ］^＋．

なお、（３Ｓ）−（−）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセンは、本応用例２の方法に準じた方法によって容易に合成することができ、当該化合物は、ロイコトリエンＢ４合成の中間体となり得る（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒｓ（１９９０）、３１（２３）、３３５５−３３５６参照）。

以上のように、本発明の製造方法によって得られたモノスルホネート化合物を利用することにより、種々のキラル医薬に係る合成中間体を製造することが可能となる。

本発明によれば、ジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することによって、各種キラル医薬の合成素子として重要な光学活性モノスルホネート化合物を高収率かつ高立体選択的に得ることができる。

Claims

プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法であって、
モノスルホニル化が、プロキラルジオール化合物および式（ＩＩＩ）
［式中、
Ｒ^２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｘは、ハロゲン原子を示す］で表されるスルホニル化剤を、式（ＩＶａ）
［式中、
Ｒ^３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一体となって置換されていてもよいＣ_２−６アルキレン基を示し、
Ｒ^４は、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ_７−１６アラルキル基、または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物もしくは式（ＩＶｂ）
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物、または式（ＩＶｃ）
［式中、
Ｒ^３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一体となって置換されていてもよいＣ_２−６アルキレン基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物もしくは式（ＩＶｄ）
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物、式（Ｖ）
［式中、
Ｍは、２価の金属原子を示し、
Ｘ’は、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＮＴｆ_２、ＢＦ_４、ＰＦ_６またはＳｂＦ_６を示す］で表される金属塩および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、製造方法。
プロキラルジオール化合物が、式（ＩＩ）
［式中、
Ｒ^１は、置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す］で表されるメソ−１，２−ジオール化合物であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（Ｉ）
［式中、
Ｒ^１は、前記と同義を示し、
Ｒ^２は、置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される化合物、または式（Ｉ’）
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される化合物である、請求項１記載の製造方法。
Ｒ^１が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ^２が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
請求項２記載の製造方法。
Ｒ^１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ^１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ^２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
請求項３記載の製造方法。
プロキラルジオール化合物が、式（ＶＩＩ）
［式中、Ｒ^５およびＲ^６は互いに異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される１，３−ジオール化合物であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（ＶＩ）
［式中、
Ｒ^２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｒ^５およびＲ^６は、前記と同義を示す］で表される化合物である、請求項１記載の製造方法。
Ｒ^２が、置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示し、
Ｒ^５が、Ｃ_１−１８アルキル基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基を示す、請求項５記載の製造方法。
Ｒ^２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ^５が、アシル基を示し、
Ｒ^６が、Ｃ_１−６アルキル基を示す、
請求項５または６記載の製造方法。
Ｒ^３が、水素原子またはＣ_１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ^３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ^４が、Ｃ_１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ_６−１４アリール基またはＣ_７−１６アラルキル基を示す、
請求項１〜７のいずれか一項に記載の製造方法。
Ｒ^３が、メチル基を示し、
Ｒ^４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、請求項８記載の製造方法。
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＢＦ_４またはＰＦ_６を示す、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法。
塩基が、炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される少なくとも一つである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリルおよび酢酸エチルからなる群から選択される少なくとも一つの溶媒中で行われる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。